鎌倉司 さんに関する公開一覧

一部、同姓同名の別人の方の出願情報が表示される場合がございます。ご了承くださいませ。

  1. 【課題】基板上に形成される膜の面内膜厚分布を制御する。【解決手段】(a)基板に対して第1ノズルより原料を供給することで第1層を形成する工程と、(b)基板に対して第1ノズルとは異なる第2ノズルより反応体を供給することで第2層を形成する工程と、を非同時に行うサイクルを所定回数行うことで、基板上に膜を形成する工程を有し、(a)では、(a−1)第1ノズルより原料を供給した状態...

    半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム

  2. 【課題】アスペクト比の高い深溝に対しても、深溝の上部から下部において、特性が均一な膜を形成可能な技術を提供する。【解決手段】少なくとも上部と下部とで構成される深溝を有する基板100を、処理室内に備えられた基板支持部で支持し、前記処理室に、処理ガスを供給して前記深溝の内側表面に層を形成し、前記処理室で構成される処理空間の圧力を前記深溝の内側空間よりも低い圧力として、前記...

    半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム