近藤和夫 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】銅メッキ液に添加された促進剤の濃度を高精度で特定する。【解決手段】分析装置4の処理部43が、銅メッキ液Xの「分析処理」において、参照電極11R、電極面が銅で構成された作用電極11W1、電極面が銅以外で構成された作用電極11W2、および対向電極11Cを銅メッキ液Xに接触させると共に、作用電極11W1の電極面を銅メッキ液Xに溶出させつつ、作用電極11W2および対向...

    銅メッキ液分析装置、銅メッキ液分析システムおよび銅メッキ液分析方法

  2. 【課題】キープアウト領域を小さくすることの可能な、シリコン貫通電極を有する半導体デバイスの製造方法およびシリコン貫通電極を有する半導体デバイスを提供すること。【解決手段】本発明のシリコン貫通電極を有する半導体デバイスの製造方法は、前記シリコン貫通電極を作製する工程が、一方の主面上にトランジスタが形成されたシリコン基板の該一方の主面に非貫通ビアを形成する工程と、少なくと...

    シリコン貫通電極を有する半導体デバイスの製造方法およびシリコン貫通電極を有する半導体デバイス