立山清久 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】基板処理装置の処理チャンバを構成する壁体および前記処理チャンバ内に設けられた機器を含む洗浄対象部の表面を洗浄するにあたって、洗浄後の乾燥時間を短縮する。【解決手段】処理チャンバ(20)内に水を噴射して洗浄対象部(42,20a,53等)の表面を水で濡らし、洗浄対象部の表面に付着した除去対象物を水に溶解させる洗浄工程を行った後に、処理チャンバ内に水よりも揮発性の高...

    基板処理装置および処理チャンバ洗浄方法