畠山潤 さんに関する公開一覧

【課題】優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面の撥水性にも優れた伸縮性膜とその形成方法、該伸縮性膜に用いられるウレタン樹脂、及び該ウレタン樹脂の材料となる珪素含有化合物の提供。【解決手段】２〜４個の−Ｏ−Ａ−ＳｉＲ３基を有するシリコーンペンダントジオール化合物。（Ｒは各々独立にＣ１〜６の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、フェニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、又...

• 公開日：2019/09/05
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-147784号

【課題】導電性及び生体適合性に優れ、軽量であり、かつ低コストで製造することができ、水に濡れても乾燥しても導電性が大幅に低下することがない生体電極用の生体接触層を形成できる生体電極組成物、該生体電極組成物で生体接触層を形成した生体電極、及び該生体電極の製造方法を提供する。【解決手段】フルオロスルホン酸の銀塩、フルオロスルホンイミドの銀塩、又はフルオロスルホンアミドの銀塩...

• 公開日：2019/08/29
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-141412号

【課題】優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面の撥水性に優れ、非粘着質な伸縮性膜に好適に用いられる伸縮性膜材料組成物、該伸縮性膜材料組成物を用いた伸縮性膜、及びその形成方法を提供する。【解決手段】主鎖骨格中にシロキサンの繰返し単位を有する構造及び／又は主鎖の分子鎖末端にシロキサンの繰返し単位を有する構造を含むシリコーン主鎖型ウレタン及び側鎖にシロキサンの繰返し単位を有す...

• 公開日：2019/08/22
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-137837号

【課題】ポリウレタンと同程度の優れた伸縮性と強度を有し、かつシリコーンと同程度の優れた撥水性、更には膜同士がくっつかない自立性の伸縮性膜及びその形成方法を提供する。【解決手段】シリコーンが主鎖にブロック共重合されているポリウレタンをベースとするシリコーン主鎖型ウレタン層が、シリコーンがペンダントされたポリウレタンをベースとするシリコーンペンダント型ウレタン層の表面に形...

• 公開日：2019/08/08
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-130899号

【課題】導電性及び生体適合性に優れ、軽量であり、かつ低コストで製造することができ、水に濡れても乾燥しても導電性が大幅に低下することがない生体電極用の生体接触層を形成できる生体電極組成物、該生体電極組成物で生体接触層を形成した生体電極、及び該生体電極の製造方法を提供する。【解決手段】主鎖にウレタン結合およびシリコーン鎖を有する樹脂と導電性材料とを含有する生体電極組成物で...

• 公開日：2019/07/22
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-118668号

【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー、及び下記式（Ａ）で表される化合物を含むレジスト材料。

• 公開日：2019/07/18
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤
• 公開番号：2019-117373号

【課題】光に対して低反射となる反射防止効果を得ることが出来る反射防止膜、その製造方法、及び眼鏡型ディスプレイを提供する。【解決手段】支持基材１１上に、フォトレジスト材料から成り、前記支持基材に近い程寸法と屈折率が大きくなるモスアイパターン１３が形成されている反射防止膜１０１。

• 公開日：2019/07/11
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤
• 公開番号：2019-113838号

【課題】光に対して低反射となる反射防止効果を得ることが出来る反射防止膜、その製造方法、及び眼鏡型ディスプレイを提供する。【解決手段】反射防止膜であって、支持基材上１１に、フォトレジスト材料１２から成り、支持基材１１に近い程寸法が大きくなるパターン１３が形成されているものである反射防止膜。

• 公開日：2019/07/04
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤
• 公開番号：2019-109500号

【課題】光に対して低反射となる反射防止効果を得ることが出来る反射防止積層膜、その製造方法、及び眼鏡型ディスプレイを提供する。【解決手段】透明な反射防止積層膜であって、第一の屈折率を有する第一の材料から成る第一の膜上に、前記第一の材料から成る膜に前記第一の屈折率より低い第二の屈折率を有する第二の材料から成るパターンが形成された第一の膜より低い屈折率を有する第二の膜が積層...

• 公開日：2019/06/24
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤
• 公開番号：2019-101418号

【課題】高解像度でありながら高感度であり、なおかつ露光後のパターン形状が良好でＬＷＲが小さいパターン形成方法を提供する。【解決手段】（ｉ）下記式（ａ１）で表される繰り返し単位及び／又は下記式（ａ２）で表される繰り返し単位と、露光によりポリマー主鎖に結合した酸を発生する繰り返し単位とを含むベース樹脂を含むレジスト膜を高エネルギー線で露光する工程、（ii）露光後、前記レジ...

• 公開日：2019/06/24
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-101417号

【課題】導電性及び生体適合性に優れ、軽量であり、かつ低コストで製造することができ、水に濡れても乾燥しても導電性が大幅に低下することがない生体電極用の生体接触層を形成できる生体電極組成物、該生体電極組成物で生体接触層を形成した生体電極、及びその製造方法を提供する。【解決手段】主鎖にウレタン結合及び側鎖にシルセスキオキサンを有する樹脂と導電性材料を含有する生体電極組成物で...

• 公開日：2019/06/20
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-093118号

【課題】導電性及び生体適合性に優れ、軽量であり、かつ低コストで製造することができ、水に濡れても乾燥しても導電性が大幅に低下することがない生体電極用の生体接触層を形成できる生体電極組成物、該生体電極組成物で生体接触層を形成した生体電極、及び該生体電極の製造方法を提供する。【解決手段】主鎖にウレタン結合及び２つの側鎖の両方に珪素含有基を有する樹脂と導電性材料４を含有する生...

• 公開日：2019/05/23
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-076696号

【課題】導電性及び生体適合性に優れ、軽量であり、かつ低コストで製造することができ、水に濡れても乾燥しても導電性が大幅に低下することがない生体電極用の生体接触層を形成できる生体電極組成物、該生体電極組成物で生体接触層を形成した生体電極、及び該生体電極の製造方法を提供する。【解決手段】主鎖にウレタン結合及び側鎖にシロキサン結合を有する樹脂６と導電性材料４を含有する生体電極...

• 公開日：2019/05/23
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-076695号

【課題】高解像度でありながら高感度であり、かつ露光後のパターン形状が良好でＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法、並びに該レジスト材料に用い得る新規バリウム塩を提供する。【解決手段】酸不安定基を含む繰り返し単位を含むベース樹脂、及び下記式（１）で表されるスルホン酸金属塩を含むレジスト材料。（式中、Ｘは、それぞれ独立に、ヨウ素原子又は臭素原...

• 公開日：2019/05/16
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-074734号

【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー、並びに下記式（Ａ−１）で表されるスルホニウム塩及び／又は（Ａ−２）で表されるヨードニウム塩を含むレジスト材料。

• 公開日：2019/05/16
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-074731号

【課題】優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面の撥水性にも優れた伸縮性膜とその形成方法、該伸縮性膜に用いられるウレタン樹脂、及び該ウレタン樹脂の材料となる珪素含有化合物の提供。【解決手段】式（１）で示される珪素含有化合物。（Ｒ１〜Ｒ６はＣ１〜６のアルキル基、−（ＯＳｉＲ７Ｒ８）ｎ−ＯＳｉＲ９Ｒ１０Ｒ１１等、ｎは０〜１００の整数、ＡはＣ１〜６のアルキレン基。）。

• 公開日：2019/05/16
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-073497号

【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー、及び下記式（Ａ−１）又は（Ａ−２）で表されるスルホニウム塩を含むレジスト材料。

• 公開日：2019/05/16
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-074592号

【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー、及び下記式（Ａ）で表されるスルホニウム塩を含むレジスト材料。

• 公開日：2019/05/16
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-074588号

【課題】伸縮性と強度、膜表面の撥水性に優れた伸縮性膜とその形成方法、これに用いられるウレタン樹脂、その材料となる珪素含有化合物の提供。【解決手段】式（１）で示される珪素含有化合物。（Ｒ１〜Ｒ６はＣ１〜６の直鎖、分岐、環状のアルキル基、フェニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、又は−（ＯＳｉＲ７Ｒ８）ｎ−ＯＳｉＲ９Ｒ１０Ｒ１１で示される基。Ｒ７〜Ｒ１１はＲ１〜Ｒ６...

• 公開日：2019/05/09
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-070109号

【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ヨウ素原子を含むポリマーを含むベースポリマー、並びにヨウ素化ベンゼン環含有フルオロスルホン酸のスルホニウム塩及び／又はヨードニウム塩を含む酸発生剤を含むレジスト材料。

• 公開日：2019/04/18
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2019-061217号