畠山潤 さんに関する公開一覧

【課題】増感効果が高く、酸拡散を抑える効果も有し、現像後の膜減りを生じさせず、解像性、ＬＷＲ、ＣＤＵが良好なレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー、及びヨウ素原子又は臭素原子で置換されたフェノール化合物に由来するアニオンと、２,５,８,９−テトラアザ−１−ホスファビシクロ[３.３.３]ウンデカン化合物、ビグアニド化合物又は...

• 公開日：2021/03/25
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤
• 公開番号：2021-047396号

【課題】増感効果が高く、酸拡散を抑える効果も有し、現像後の膜減りを生じさせず、解像性、ＬＷＲ、ＣＤＵが良好なレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー、及びヨウ素原子又は臭素原子で置換されたヒドロカルビル基（ただし、該基中にヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を含まない。）を有するカルボン酸に由来するアニオンと、２,５,８...

• 公開日：2021/03/18
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤
• 公開番号：2021-043440号

【課題】増感効果が高く、酸拡散を抑える効果も有し、解像性、ＬＷＲ、ＣＤＵが良好な化学増幅レジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたフェノール化合物のアンモニウム塩を含むクエンチャー、及び酸発生剤を含む化学増幅レジスト材料。前記アンモニウム塩は、光吸収の大きいヨウ素原子又は臭素原子を含んでいるため、露光中にこ...

• 公開日：2021/03/01
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤
• 公開番号：2021-033263号

【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー及びクエンチャーを含むレジスト材料であって、前記クエンチャーが、ヨウ素原子で置換された芳香環がエステル結合及びエーテル結合から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい炭素数１〜２０のヒドロ...

• 公開日：2021/03/01
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2021-033262号

【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたヒドロカルビル基（ただし、該基中にヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を含まない。）を有するカルボン酸のスルホニウム塩を含むレジスト材料。

• 公開日：2021/03/01
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2021-033259号

【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ベースポリマー及びクエンチャーを含むレジスト材料であって、前記クエンチャーが、ヨウ素原子で置換された芳香環がエステル結合及びエーテル結合から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい炭素数１〜２０のヒドロ...

• 公開日：2021/02/22
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2021-026227号

【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る感度及び解像度を有し、エッジラフネスが小さく、寸法均一性に優れ、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたヒドロカルビル基（ただし、該基中にヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を含まない。）を有するカルボン酸のアンモニウム塩構造を有する繰...

• 公開日：2021/02/22
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤
• 公開番号：2021-026226号

【課題】増感効果が高く、酸拡散を抑える効果も有し、解像性、ＬＷＲ、ＣＤＵが良好な化学増幅レジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたヒドロカルビル基（ただし、該基中にヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を含まない。）を有するカルボン酸のアンモニウム塩を含むクエンチャー、及び酸発生剤を含む化学増幅レジスト材料。

• 公開日：2021/02/22
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤
• 公開番号：2021-026225号

【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る感度及び解像度を有し、エッジラフネスが小さく、寸法均一性に優れ、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】ヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を有するフルオロスルホン酸のアンモニウム塩構造を有する繰り返し単位ａ、並びにカルボキシ基の水素原子が酸不安定基で置換された繰り返し...

• 公開日：2021/02/04
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2021-012360号

【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る感度及び解像度を有し、エッジラフネスが小さく、寸法均一性に優れ、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】ヨウ素原子又は臭素原子で置換されたフェノールのアンモニウム塩構造を有する繰り返し単位ａ、並びにカルボキシ基の水素原子が酸不安定基で置換された繰り返し単位ｂ...

• 公開日：2021/01/28
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤
• 公開番号：2021-009357号

【課題】伸縮時に於ける導電性の変化が少ない導電性配線材料組成物、その導電性配線材料組成物を用いた導電配線基板、およびその導電配線基板の製造方法を提供する。【解決手段】導電性配線材料組成物が（Ａ）フルオロスルホン酸、フルオロスルホンイミド、及びフルオロスルホンアミドのうちのいずれかのアンモニウム塩、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、銀塩から選ばれる構造を有する繰り返...

• 公開日：2021/01/28
• 出願人： 信越化学工業株式会社
• 発明者： 畠山潤 、...
• 公開番号：2021-009839号