自分が出願した特許の牽制数、引用された数などを知る事ができます。
気になる技術や特許をブックマークしておけば、いつでも後から読むことができます。
後で印刷するために、公報をPDFでダウンロードできます。
「astamuse」は世界中の挑戦したい社会課題に挑戦し、未来を創る人のプラットフォームです。
※一部、同姓同名の別人の方の出願情報が表示される場合がございます。ご了承くださいませ。
検索結果：1～2件を表示（2件中） 1/1ページ目
【課題】ガラス基板の研磨処理に繰り返し使用しても研磨レートの変化が小さく、長期間研磨処理に繰り返し用いることができる、酸化セリウムを遊離砥粒として含む研磨液、この研磨液を用いたガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法を提供する。【解決手段】研磨液に含まれる酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径側からの積算粒子体積が全...
【課題・解決手段】研磨液に含まれる酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径側からの積算粒子体積が全粒子体積のｘ［％］に達するときの粒径をＤｘ［μｍ］としたとき、Ｄ５は、１μｍ以下であり、Ｄ９５とＤ５の差は、３μｍ以上である。
