滝澤利雄 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】ガラス基板の研磨処理に繰り返し使用しても研磨レートの変化が小さく、長期間研磨処理に繰り返し用いることができる、酸化セリウムを遊離砥粒として含む研磨液、この研磨液を用いたガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法を提供する。【解決手段】研磨液に含まれる酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径側からの積算粒子体積が全...

    研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法

  2. 【課題・解決手段】研磨液に含まれる酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径側からの積算粒子体積が全粒子体積のx[%]に達するときの粒径をDx[μm]としたとき、D5は、1μm以下であり、D95とD5の差は、3μm以上である。

    研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法