森幸博 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】本発明は、基板のエッジ又はエッジに近い部分に安定したプラズマ処理を施すことができる基板処理装置と基板処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】本願の発明に係る基板処理装置は、ステージと、該ステージを回転させる駆動部と、該ステージの外縁の一部だけに対向する電極と、該電極に高周波電力を供給する高周波電力供給部と、該電極と該ステージの間にガスを供給するガス供給...

    基板処理装置、基板処理方法