柴崎祐一 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】複数の移動部材の吸着に起因する基板の面内の歪の発生を抑制する。【解決手段】 基板保持装置は、基板Wを吸着保持する基板ホルダWHと、基板の裏面を吸着する吸着部を一端に有し、該吸着部で基板Wの裏面を吸着した状態で、基板ホルダWHに対して相対的に移動可能な複数の上下動ピンユニット341,342、343と、を備えている。複数の上下動ピンユニット341,342、343...

    基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法

  2. 【課題】メンテナンス作業を容易に実行可能であり、基板の裏面側への液体の浸入を防止できる基板保持装置を提供する。【解決手段】基板ホルダPHは、基材PHBと、基材PHBに形成され且つ基板Pを吸着保持する第1保持部PH1と、基材PHBに形成され且つ第1保持部PH1に吸着保持された基板Pの近傍にプレート部材Tを吸着保持する第2保持部PH2とを備えている。基板ホルダPHを備える...

    基板保持装置及びそれを備える露光装置、露光方法、デバイス製造方法、並びに撥液プレート

  3. 【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。【解決手段】液体を介して露光光を基板の上面に照射する。露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板をリリース可能に保持する第1保持部と、上面及び該上面の外縁の一部であって保持される基板の端部と周方向に沿って対向するエッジ部を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、を備える。第1部材のエッジ部には、保持された基板...

    露光装置、露光方法、デバイス製造方法

  4. 【課題】マスクのパターンを基板上に精度良く転写する。【解決手段】露光装置は、複数の第1ヘッド(26A1〜26A3等)を有し、マスクステージRSTの位置情報を計測する第1エンコーダシステムと、4つの第2スケール(44C、44D等)を有する第2格子部に対して、それぞれビームを照射する複数の第2ヘッドを有し、基板ステージWSTの位置情報を計測する第2エンコーダシステムと、基...

    露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

  5. 【課題】走査露光時にマスクと基板とを精度良く位置合わせする。【解決手段】制御装置は、基板Wの露光動作において、Y軸方向を走査方向として照明光に対してマスクと基板をそれぞれ相対移動する走査露光が液浸露光方式で行われるとともに、格子部(39Y1、39Y2)に起因して生じる、ウエハステージの位置を計測するエンコーダシステムの計測誤差が補償されるように、計測誤差を補償するため...

    露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

  6. 【課題】2つの基板ステージを有する液浸露光装置で、各基板ステージに接続されるケーブルの縺れを防止する。【解決手段】 制御装置が、ウエハステージWST1、WST2の駆動を制御して、ステージWST1、WST2の一方に対して他方が接近するように相対移動するとともに、ノズル部材に対する接近した両ステージの移動によって、液浸領域14は、投影光学系の下に維持されつつ一方のステー...

    露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

  7. 【課題】物体の物体載置部に対するロード又は物体載置部からのアンロードに際して物体載置部への振動等の影響を軽減し得る移動体装置を提供する。【解決手段】ステージ装置は、ウエハWを載置して移動可能なウエハステージWSTを含む。ウエハステージは、ウエハWを載置するウエハテーブルWTBと、ベース盤12に対し移動可能なスライダと、ウエハを下方から支持可能なウエハセンター支持部材と...

    移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法

  8. 【課題・解決手段】露光装置は、基板をY軸方向に走査するとともに、マルチビーム光学系の複数のビームの照射位置の変化に関する情報を含む、ビームと同一数のディストーションテーブル(200i)から得られる補正情報に基づき、複数のビームの照射位置を調整する。特に、複数のビームのY軸方向の照射位置を、マルチビーム光学系から基板に照射される複数のビームの照射タイミングを個別に制御す...

    露光装置及び露光方法、リソグラフィ方法、並びにデバイス製造方法