柴崎祐一 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】加工精度の良好な三次元造形物を造形する。【解決手段】 造形装置は、対象面TASを動かす移動システムと、移動システムにより移動可能な状態で対象面TASの位置情報を取得するための計測システムと、ビーム照射部520とビーム照射部520からのビームLBで照射される造形材料を供給する材料処理部530とを有するビーム造形システム500と、制御装置と、を備えている。制御装...

    造形装置及び造形方法

  2. 【課題】基板の露光処理におけるスループットの低下を招くことなく、基板上の複数の区画領域を精度良く露光することを可能にする。【解決手段】 リソグラフィシステム1000は、第1ステージに保持された基板上の複数のマークの位置情報を取得する計測装置100と、マークの位置情報の取得が終了した基板を第2ステージ上に載置し、その基板上の複数の区画領域をエネルギビームで露光する露光...

    基板処理システム及び基板処理方法、並びにデバイス製造方法

  3. 【課題】基準ウエハを用いることなく、基板上の複数の区画領域の配列の変動を精度良く計測することを可能にする計測装置を提供する。【解決手段】 計測装置100は、基板Wに形成されたマークを検出するマーク検出系MDSと、露光装置の基板ホルダとは異なる保持部材WH上に基板を保持して移動可動なスライダ10と、スライダの位置情報を取得可能な位置計測系30と、マーク検出系MDSの検...

    計測装置、露光装置及びリソグラフィシステム、並びに計測方法及び露光方法

  4. 【課題】基板の露光処理におけるスループットの低下を招くことなく、基板上の多数のマークの位置情報を高精度で求めることを可能にする。【解決手段】 計測装置は、定盤12と、基板Wを保持し、定盤に対して移動可能なスライダ10と、スライダを駆動する駆動システムと、定盤に対するスライダの第1位置情報を計測する第1位置計測系と、基板上のマークを検出し、検出信号を出力するマーク検出...

    計測装置、リソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法

  5. 【課題】2軸ステージにおいて、ステージを、2軸方向の一方(他方)の方向に移動するための駆動部の移動を伴うことなく、他方(一方)の方向に移動する。【解決手段】ステージ装置10は、定盤12上でX軸及びY軸方向に移動可能なステージ14と、第1面にX軸方向に延びるXガイドを有するYクロスバー22Yと、Yクロスバー22Yと対向して配置され、第1面と対向する面にY軸方向に延びるY...

    ステージ装置、露光装置及び光学処理装置

  6. 【課題・解決手段】処理システムは、液体を供給可能な液体供給装置(20)と、所定面上の目標部位(TA)を含む一部領域に局所的に非液浸状態が生じるように、液体供給装置から供給される液体(CW)を処理する液体処理装置と、目標部位に向けてビーム(LB1,LB2)を射出するビーム照射部(520)と、所定面を移動する移動装置(12)と、を備え、目標部位を非液浸状態にした状態で、目...

    処理方法及び処理システム

  7. 【課題・解決手段】加工装置は、ワーク(W)が載置されるテーブル(12)を有し、テーブルに保持されたワークを移動する第1ステージシステムと、ビーム(LB)を射出する集光光学系(530)を含むビーム照射システム(500)と、第1ステージシステムと照射システムとを制御する制御装置と、を備え、テーブルと集光光学系からのビームとを相対移動させつつワークの目標部位に対して加工が行...

    加工装置及び加工方法

  8. 【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。【解決手段】液体を介して露光光を基板の上面に照射する。露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板をリリース可能に保持する第1保持部と、上面及び該上面の外縁の一部であって保持される基板の端部と周方向に沿って対向するエッジ部を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、を備える。第1部材のエッジ部には、保持された基板...

    ステージ装置、露光装置、デバイス製造方法

  9. 【課題】ステージ上に搭載されたセンサを切り換えて使用することによってステージの位置情報を安定して計測する。【解決手段】 露光装置は、投影光学系PL直下の領域を除くステージWST1の移動範囲をカバーするスケール板21に、ウエハステージWST1上に搭載された4つのセンサ611〜614を用いて計測ビームを照射することによって、ステージWST1の位置情報を計測するエンコーダ...

    露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

  10. 【課題・解決手段】ビームを用いて対象面(TAS)上に三次元造形物を形成する造形システムは、軸(AX)に対して傾斜する光路を通るビーム(LB1、LB2)を射出するビーム照射部(520)と、材料供給口を有し、ビーム照射部からのビームで照射される粉状の造形材料(PD)を軸(AX)に沿って供給する材料供給部(530)と、一端側から他端側に徐々に収束する内面を有し、他端にビーム...

    造形システム及び造形方法