板倉雅彦 さんに関する公開一覧

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  1. 技術 電磁波遮蔽吸収性成形体

    【課題】特定周波数の電磁波吸収率が高く、電磁波反射率が低い、電磁波遮蔽吸収性成形体の提供。【解決手段】 ステンレス繊維を含む熱可塑性樹脂組成物からなる電磁波遮蔽吸収性成形体であって、 前記成形体中の前記ステンレス繊維の含有割合が０．０１質量％以上、０．５質量％未満であり、 前記成形体が、厚みが０．０１〜５ｍｍで、５９GHz〜１００GHzの周波数領域のいずれかの周...

    電磁波遮蔽吸収性成形体

  2. 技術 複合成形体

    【課題】表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体と他の材料の成形体からなる複合成形体を提供する。【解決手段】表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体と他の材料の成形体の複合成形体であって、前記粗面化構造が凹凸を有しており、凹凸の厚さ方向の断面形状が曲面を有しており、凹凸の表面粗さ（Ｒａ）が１〜30μｍの範囲で、凹凸の凸部と凹部の高低...

    複合成形体

  3. 技術 複合成形体

    【課題】非磁性セラミックス成形体と他の材料の成形体からなる複合成形体を提供する。【解決手段】表面に粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体と他の材料の成形体の複合成形体であって、前記粗面化構造が凹凸を有し、SEM（倍率200倍以上）により観察したときに凹凸の厚さ方向の断面形状が曲面で、凸部の曲面が長さ方向に沿って形成されたしわ状突起または凸部の曲面が長さ方...

    複合成形体

  4. 技術 表面に粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体の製造方法

    【課題】表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体の製造方法の提供。【解決手段】表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の製造方法であって、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用して５,０００ｍｍ／ｓｅｃ以上の照射速度でレーザー光を連続照射することで粗面化する、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体の製造方法。

    表面に粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体の製造方法

  5. 技術 表面に粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体の製造方法

    【課題】表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体の製造方法の提供。【解決手段】表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体の製造方法であって、前記非磁性セラミックス成形体が炭化物系の非磁性セラミックス成形体であり、炭化ケイ素を含む炭化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用して５,０００ｍｍ／ｓｅｃ以上の照射速度でレーザー光を連続...

    表面に粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体の製造方法

  6. 技術 複合成形体の製造方法

    【課題】金属成形体と非金属成形体からなる複合成形体の製造方法の提供。【解決手段】金属成形体１０の表面を粗面化して凹凸を形成させる第１工程と、金属成形体と非金属成形体２０を接合させる第２工程を有しており、第１工程により形成された凹凸が、金属成形体の非粗面化面を基準面１１として、基準面から突き出された凸部と凹まされた凹部からなるものであり、第２工程が、金属成形体の粗面化さ...

    複合成形体の製造方法

  7. 技術 複合成形体

    【課題】表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体と他の材料成形体との複合成形体の提供。【解決手段】表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体と他の材料からなる成形体からなる複合成形体であって、前記非磁性セラミックス成形体が、前記粗面化構造が凹凸を有しており、走査型電子顕微鏡写真（50〜400倍）により観察したときの前記凹凸の厚さ方向の...

    複合成形体

  8. 技術 窒化物系の非磁性セラミックス成形体

    【課題】表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体の提供。【解決手段】表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体であって、前記非磁性セラミックス成形体が厚さ０．５ｍｍ以上の窒化物系の非磁性セラミックス成形体であり、前記粗面化構造が凹凸を有しており、走査型電子顕微鏡写真（５０〜４００倍）により観察したときの前記凹凸の厚さ方向の断面形状が、前記凸部の...

    窒化物系の非磁性セラミックス成形体