村山哲 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】 金属原子を含有したパーティクルの発生を低減し、良好なパターンを形成することができる半導体製造用処理液、及び、パターン形成方法を提供すること。【解決手段】 本発明の実施形態に係る半導体製造用処理液は、一般式(N)で表される第4級アンモニウム化合物と、アニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、及び、キレート剤からなる群より選択される少なくと...