岡崎光樹 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】間接光の中でも特に散乱光について、発生部分に直接的に作用して所望の特定波長のみを効率的にカットする化粧品材料を提供すること。【解決手段】マトリックス材料と該マトリックス材料とは屈折率の異なる充填材料とを含む2種以上の材料からなる混合体に於いて、該充填材料中に特定波長光吸収剤が0.00001〜99重量%の範囲で含まれる充填材料分散体を含む化粧品材料、および特定波...

    化粧品材料

  2. 技術 塗料材料

    【課題】間接光の中でも特に散乱光について、発生部分に直接的に作用して所望の特定波長のみを効率的にカットする塗料材料を提供すること。【解決手段】マトリックス材料と該マトリックス材料とは屈折率の異なる充填材料とを含む2種以上の材料からなる混合体であって、前記充填材料は前記マトリックス材料とは異なる屈折率を有し、前記充填材料中に特定波長光吸収剤が0.00001〜99重量%の...

    塗料材料

  3. 技術 導光板

    【課題】間接光の中でも特に散乱光について、発生部分に直接的に作用して所望の特定波長のみを効率的にカットする導光板を提供すること。【解決手段】マトリックス材料と該マトリックス材料とは屈折率の異なる充填材料とを含む2種以上の材料からなる混合体であって、前記マトリックス材料は、400〜800nmの可視光透過率が10%以上であり、前記充填材料は前記マトリックス材料とは異なる屈...

    導光板

  4. 【課題】高アッベ数かつ高屈折率であり、さらに透明性および寸法安定性にも優れる成形体が得られる光学材料用組成物を提供する。【解決手段】本発明の光学材料用組成物は、(A)エポキシ基含有化合物と、(B)チオール化合物と、を含み、チオール化合物(B)は、4−メルカプトメチル−1,8−ジメルカプト−3,6−ジチアオクタン、5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,...

  5. 【課題】本発明は、イオン性基を有するポリマーを製造する際の微小粒子の生成を抑制することにより、生産性の向上と品質向上を図ることを目的とする。【解決手段】イオン性基含有ポリマーの製造方法であって、攪拌槽中において攪拌翼を用いて液を攪拌する工程を含み、前記攪拌する工程が、前記イオン性基を含有するモノマーの重合を行う反応工程、および/または、前記イオン性基含有ポリマーの晶析...

    イオン性基を有するポリマーの製造方法

  6. 【課題】強度や耐熱性等に優れた高屈折率プラスチックレンズ等の成形体を得ることができる新規な環状トリチオカーボネートを提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表される環状トリチオカーボネート。

  7. 【課題】間接光の中でも特に散乱光について、発生部分に直接的に作用して所望の特定波長のみを効率的にカットする。【解決手段】マトリックス材料と該マトリックス材料とは屈折率の異なる充填材料とを含む2種以上の材料からなる混合体に於いて、該充填材料中に特定波長光吸収剤が0.00001〜99重量%の範囲で含まれる充填材料分散体。

    充填材料分散体