大谷正美 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】複数の処理ユニットに基板を搬送する主搬送機構を備えた装置の設置面積を低減することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】塗布処理ユニット31a〜cは、塗布用主搬送機構Tの搬送経路Rと直交する略水平方向の一方側に設けられている。隣接する塗布処理ユニット31a〜c同士はそれぞれ、平面視で搬送経路Rに対して斜め方向に並ぶように配置されている。このため、各塗布処理...

    基板処理装置

  2. 【課題】基板間で処理品質を均一にすることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】塗布ブロックB1には複数の塗布処理ユニット(RESIST、BARC、TARC)が設けられている。各塗布処理ユニットは、塗布する処理液の種類ごとに異なる高さ位置で互いに略上下方向に並べて配置される。また、処理液の種類が同じ塗布処理ユニット同士は略水平方向に並べて配置されている。このため、...

    基板処理装置

  3. 【課題】処理部における基板搬送を効率よく行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】塗布ブロックBcと現像ブロックBdとIF部5とが隣接して設けられている。さらに、現像ブロックBdを経由せずに塗布ブロックBcからIF部5へ基板Wを搬送する第1迂回ブロックBb1を備えている。このように構成される装置では、現像ブロックBdを経由する基板Wを、IF部5から塗布ブロッ...

    基板処理装置

  4. 【課題】省スペースで、水平姿勢の基板に対して処理具を移動させて基板に処理を行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】略水平方向に並べて設けられ、基板Wを略水平姿勢で保持する複数の処理ユニット101a、101bと、基板Wに現像液を供給するノズル111a、111bと、ノズル111a、111bを支持するアーム部材113a、113bと、アーム部材113a、113bを...

    基板処理装置

  5. 【課題】 基板収納容器内の基板の収容状態を把握する基板検出装置を提供する。【解決手段】 隔壁12の通過口12aを塞ぐためのシャッター部材5に反射型センサ10を取り付ける。シャッター部材5とともに下降する反射型センサ10は、カセット1内の基板Wを順次検出していく。データ処理部11は、基板Wの検出情報を収集する。一方、位置検出手段は、昇降機構7aに備えるエンコーダ13...

    基板検出装置

  6. 【課題】長時間を要する処理が含まれている場合であっても処理能力の低下を防止することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置1は、露光後の基板Wの現像処理を行う現像処理部41と洗浄処理部31とを備える。現像処理部41での処理時間が予め設定されている基準時間よりも短い場合には、現像処理の全行程を現像処理部41にて実行する。一方、現像処理部41での処理時間が...

    基板処理装置