大谷正美 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題・解決手段】半導体基板処理動作中に流体を吐出する第1側部および第2側部を有する筐体を備える。筐体は第1処理ステーションおよび第2処理ステーションを備える。第2処理ステーションは第1処理ステーションと隣り合って配置される。さらに、基板処理装置は、第1側部と第1処理ステーションとの間に配置され、第1処理ステーションに流体を供給するように構成された第1吐出アームと、第...

    マルチチャンネル現像システム