加藤正紀 さんに関する公開一覧

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  1. 技術 露光方法

    【課題】高い生産性で高い品質の基板を生産することができる露光方法を提供する。【解決手段】所定の縦横比の長方形のマスク領域に形成されたパターンを、走査露光装置によって基板上に走査露光する露光方法であって、所定の中心線から一定半径の直径φで湾曲し、中心線の方向に寸法Lの長さを有する円筒面に沿ってマスク領域の1つ又は複数が形成されると共に、直径φと寸法Lとの比L/φが1.3...

    露光方法

  2. 【課題】フィルム状の基板が連続した状態で供給されデバイスパターンを走査露光するにおいて、振動の影響を低減する。【解決手段】可撓性を有する長尺の基板Pを長尺方向に搬送して、基板Pにデバイスを形成するデバイス製造システム1は、基板Pに対して露光処理を行う基板処理装置U3と、基板処理装置U3に基板Pを供給する基板供給装置2を有する。基板供給装置2は、ロール状に基板Pが巻回さ...

    デバイス製造システムおよびデバイス製造方法

  3. 【課題】露光装置を提供【解決手段】露光装置は、第1偏光状態でパルス発振する第1種光と、第1種光のピーク強度より低く第1種光と略同一のエネルギーを持ち第1偏光状態に対して偏光方向を90度変えた第2偏光状態でパルス発振する第2種光S2とを生成する光源部と、On状態のときに入射した第1種光および第2種光の偏光方向を90度変えて射出する電気光学変調器と、電気光学変調器から射出...

    パターン露光装置

  4. 【課題】複数の描画ラインをつなげたマルチビーム型の描画方式であっても、基板の幅方向に継ぎ合わされるパターン同士の継ぎ誤差を低減する。【解決手段】基板P上にパターンを描画する露光装置EXであって、基板Pの搬送方向に搬送する回転ドラムDRと、基板Pに投射される描画ビームによりパターンを基板P上に描画する描画モジュールUW1〜UW5を複数有し、複数の描画モジュールUW1〜U...

    パターン描画装置

  5. 【課題】基板上に形成される投影像に対する漏れ光の影響を低減し投影像を好適に投影する。【解決手段】光軸BX2を中心点とした円形の結像視野を有する屈折レンズ群71aと、反射光学部材72と、第1の偏光ビームスプリッタPBS1と、第2の偏光ビームスプリッタPBS2と、第1の偏光ビームスプリッタPBS1から射出して第2の偏光ビームスプリッタPBS2に入射する結像光束の偏光状態を...

    投影光学装置、走査露光装置、及びデバイス製造方法

  6. 【課題】高い生産性で高い品質の基板を生産することができる走査露光装置等を提供する。【解決手段】照明光の照明領域に配置されるマスクのパターンからの光束を、投影光学系を介して基板が配置される投影領域に投射する露光方法であって、照明領域と投影領域とのうちの一方の領域において所定曲率で円筒面状に湾曲した第1面に沿うように、マスクと基板のうちの一方を支持することと、照明領域と投...

    走査露光装置、走査露光方法、及びデバイス製造方法

  7. 【課題】マスクのパターンを高精度に基板に露光できるマスクユニットを提供する。【解決手段】露光装置に装着して使われるマスクユニットであって、所定の軸線から一定半径の外周面を有する円筒状のマスク保持部と、湾曲可能な薄いガラス材に露光すべきマスクパターンが形成されたシートマスクをマスク保持部の外周面に巻き付ける際に、シートマスクを所定位置に係合する為の係合部と、シートマスク...

    マスクユニット及び露光装置

  8. 【課題・解決手段】可撓性を有する長尺のシート基板(P)の一部分を、円筒状の外周面の周方向に沿って巻き付けて支持する回転ドラム(DR)であって、中心軸(AXo)から一定の半径の円筒状の外周面を有する円筒体(50)と、円筒体(50)の外周面に向けて投射されて、円筒体(50)の外周面の一部に形成された開口部(501)に入射したビーム(LBn)の強度に対応した信号を出力する光...

    基板支持装置、露光装置、および、パターニング装置

  9. 【課題・解決手段】ビーム(LBn)を基板(P)上で1次元に走査するビーム走査装置である走査ユニット(Un)は、一方向にパワーを有する第1シリンドリカルレンズ(CY1)と、第1シリンドリカルレンズ(CY1)を透過したビーム(LBn)を1次元の走査のために偏向するポリゴンミラー(PM)と、テレセントリックな状態で偏向されたビーム(LBn)を基板(P)に投射するfθレンズ系...

    ビーム走査装置および描画装置

  10. 【課題】搬送中のシート状の媒体(基板)上に連続して描画を行うにあたって、基板の搬送中に読み取り装置とドラムとの相対的な位置関係の誤差を検出すること。【解決手段】露光装置EXは、処理部11と、マーク検出部、スケール計測部と、横ずれ検出部と、回転ドラムの複数回の回転に伴って、基準パターンがマーク検出部の検出領域内に現れる度に、マーク検出部によって検出される基準パターンの位...

    パターン形成装置

  11. 【課題】1つの描画ユニットが描画ラインに沿ってパターンを描画する際の描画精度(露光量の均一性等)や忠実度を高める基板処理方法を提供する。【解決手段】基板処理方法は、パルス光源装置から周波数Fzでパルス発振される紫外波長域のビームを、シート基板の表面でスポット光に集光させると共に、ビームを光走査器によって振ることによって、スポット光を長尺の方向と交差した幅方向に延びる長...

    基板処理方法

  12. 【課題】複数の描画ユニットを使って、基板の幅方向にパターンを継ぎ合わせて露光(描画)した場合でも、パターン同士の継ぎ誤差を低減し、基板に大きな面積のパターンを高精度に安定して描画する基板処理装置の調整方法、及び基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置の調整方法は、複数の描画ユニットの各々によって形成される描画ライン上に、基準マークがもたらされるように、支持部材...

    基板処理装置の調整方法、及び基板処理装置

  13. 【課題】長尺の可撓性シート基板を搬送しながら、基板上にパターンを形成するパターン形成装置を提供する。【解決手段】パターン形成装置18は、基板Pの一部を支持しつつ搬送する搬送部80と、基板P上の所定の複数の位置の各々に形成された被検出体の位置情報を、搬送部80で支持された基板P上に設定される検出領域にて順次検出する検出部AMa〜AMeと、搬送部80の下流側に配置された搬...

    パターン形成装置

  14. 【課題・解決手段】光源装置(LS)からのビーム(LBn)をパターン情報に応じて強度変調させつつ、ビーム(LBn)を基板(P)上に投射して主走査方向に走査することで、基板(P)上にパターンを描画する露光装置(EX)は、ビーム(LBn)の走査のために、ビーム(LBn)を偏向するポリゴンミラー(PM)を含むビーム走査部と、ビーム(LBn)が基板(P)に投射されたときに発生す...

    パターン描画装置、パターン描画方法、および、デバイス製造方法

  15. 【課題・解決手段】反射面の角度が変わるポリゴンミラー(PM)によって偏向されたビーム(LBn)を基板(P)に投射する走査ユニット(Un)は、ポリゴンミラー(PM)で最初に反射された第1の反射ビーム(LBn)を反射してポリゴンミラー(PM)に向かう第2の反射ビーム(LBn)を生成するとともに、ポリゴンミラー(PM)の偏向方向と交差した非偏向方向に関して第2の反射ビーム(...

    ビーム走査装置およびパターン描画装置

  16. 【課題・解決手段】羽ばたき装置(1A)は、動力源と、動力伝達機構と、動力伝達機構によって駆動される羽体(4A,4B)とを備える。動力伝達機構は、動力源からの動力の伝達を受けて回転する回転伝達部材(32c)と、回転伝達部材(32c)からの動力の伝達を受けてX軸方向に往復直線運動するスライダ(35)と、スライダ(35)からの動力の伝達を受けて回転方向に往復運動する回転体(...

    羽ばたき装置