上村哲也 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】 本発明の目的は、現像性及び欠陥抑制性能に優れたパターン形成方法を提供することにある。また、本発明の他の目的は、上記パターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供することにある。また、本発明の他の目的は、現像性及び欠陥抑制性能に優れたパターンを形成できるキットを提供することにある。【解決手段】 本発明のパターン形成方法は、感活性光線性又は感放射線性樹脂...

  2. 【課題】 金属原子を含有したパーティクルの発生を低減し、良好なパターンを形成することができる半導体製造用処理液、及び、パターン形成方法を提供すること。【解決手段】 本発明の実施形態に係る半導体製造用処理液は、一般式(N)で表される第4級アンモニウム化合物と、アニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、及び、キレート剤からなる群より選択される少なくと...

  3. 【課題・解決手段】半導体デバイス用の処理液であって、処理対象物に対する防食性、残渣物除去性、及び欠陥抑制性に優れる処理液を提供する。また、キット、及び上記処理液を用いた基板の洗浄方法を提供する。半導体デバイス用の処理液であって、水と、有機溶剤と、2種以上の含窒素芳香族複素環化合物と、を含む、処理液。

    処理液、キット、基板の洗浄方法

  4. 【課題・解決手段】薬液の精製装置、及び/又は、薬液を収容する容器の接液部等に適用した場合、得られる薬液の欠陥抑制性能を長期間維持することができる部材を提供することを課題とする。また、容器、薬液収容体、薬液の精製装置、及び、製造タンクを提供することも課題とする。含フッ素重合体、及び、含フッ素界面活性剤を含有する部材であって、部材の少なくとも一部の表面において、表面におけ...

    部材、容器、薬液収容体、薬液の精製装置、製造タンク

  5. 【課題・解決手段】薬液を収容して、長期間保管した場合にも、経時的に薬液の性能が低下しにくい容器を提供することを課題とする。また、容器の製造方法、及び、薬液収容体を提供することを課題とする。容器は、基材と、基材上の少なくとも一部に配置された、ポリオレフィンと、Ti、Al、Mg、Zr、Hf、Fe、Ni、Sn、Zn、Cr、及び、Moからなる群から選択される少なくとも1種の金...

  6. 【課題】低温環境下で硬化可能な着色感光性組成物、ならびに、上記着色感光性組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、および、硬化膜の製造方法を提供する。【解決手段】上記着色感光性組成物は、着色剤と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、上記光重合開始剤は、上記光重合開始剤をアセトニトリルに0.001質量%溶解させた溶液の波長340nm...

  7. 【課題・解決手段】本発明は、フォトリソグラフィプロセスにより製造される半導体基板において、ショートの発生を抑制できる薬液が得られる薬液の精製方法を提供することを課題とする。本発明は、薬液の製造方法、及び、薬液を提供することも課題とする。本発明の薬液の精製方法は、フィルタを用いて、被精製液をろ過する精製工程を有する、薬液の精製方法であって、フィルタとして、以下の試験にお...

    薬液の精製方法、薬液の製造方法、及び、薬液

  8. 【課題・解決手段】本発明の課題は、コバルト含有層を含む被研磨体のCMPに適用した際に、被研磨面にディッシング及び欠陥が発生しにくい研磨液を提供することである。また、本発明の他の課題は、研磨液の製造方法、研磨液原液、研磨液原液収容体、及び化学的機械的研磨方法を提供することである。本発明の研磨液は、会合度1〜3のコロイダルシリカと、有機酸と、アゾール系化合物と、過酸化水素...

    研磨液、研磨液の製造方法、研磨液原液、研磨液原液収容体、化学的機械的研磨方法