ナヴァロ,クリストフ さんに関する公開一覧

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  1. 技術 転写法

    【課題・解決手段】本発明は、付着防止層の新規クラスを用いた転写法に関する。より具体的には、本発明は、ナノインプリントリソグラフィー法のための付着防止層の新規クラスを用いた転写法に関する。

    転写法