ジャン−フランソワ・デ・マルネッフェ さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】半導体装置製造において、層間絶縁膜であるSiOC膜からなる多孔質の低誘電率膜にエッチングを行うときに低誘電率膜におけるダメージを抑えることができる技術を提供する。【解決手段】ウエハに対してイソシアネートとアミンとを原料とし、蒸着重合によりポリ尿素を生成する成膜処理を行う。これにより低誘電率膜20の孔部内にポリ尿素を埋め込む。そして先にビアを形成する場合、低誘電...

    半導体装置の製造方法

  2. 【課題】多孔質膜のエッチングにおいて、当該多孔質膜内で液体が維持される時間を増大させることを可能とする。【解決手段】一実施形態の方法は、(i)チャンバに第1のガスを供給する工程であり、第1のガスはCxFyOzの組成を有する分子からなるガスである、該工程と、(ii)第1のガスを供給する工程と同時に、又は、第1のガスを供給する工程の後に、多孔質膜をエッチングするために、当...

    多孔質膜をエッチングする方法