チョイセウンウー さんに関する公開一覧
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【課題】薄膜蒸着方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】下部膜の損失量及び損失均一度を改善させながら、所望エッチング特性を有する薄膜を蒸着するための方法を提供するためのものであり、該方法は、半導体基板のパターン構造上に薄膜を蒸着するにおいて、半導体基板とパターン構造とに対して、(a1)ソースガス供給段階、(b1)反応ガス供給段階、(c1)プラズマ供給段階...
- 公開日:2020/01/09
- 出願人: エーエスエムアイピーホールディングビー.ブイ.
- 発明者: リマンス 、...
- 公開番号:2020-004971号