有機基 に関する公開一覧

有機基」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「有機基」の詳細情報や、「有機基」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「有機基」の意味・用法はこちら

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  1. 【課題・解決手段】本発明は遺伝子治療の分野、すなわち標的細胞、組織、器官及び生物への遺伝子送達に関し、特にウイルスベクターを介しての遺伝子送達に関する。本発明者らは、化学カップリングによって、AAV2及びAAV3bなどのAAVのカプシドの表面のリガンドのカップリングを調節できることを示す。特に、本発明は、1以上のリガンドLと化学的にカップリングされ、カプシドタンパク質...

    化学修飾されたカプシドを有するRAAV

  2. 【課題・解決手段】本発明は各種歯科用装置、具体的には義歯床または義歯の複数の層(2層以上)を設計および造形し、ここでは、印刷された多層状義歯床は、部分義歯および総義歯などの最終的な歯科用装置を形成するために義歯用人工歯材料を受け入れるための歯のための空洞を有する。本発明は義歯用人工歯も印刷することができる。本発明は、部分義歯および総義歯などの最終的な歯科用装置を形成す...

    層状歯科用製品を製造するための3次元造形材料系および方法

  3. 【課題】ドライバーショットの飛距離を維持しつつ、ラフ条件およびウェット条件でのアプローチ性能が両立できるゴルフボールを提供する。【解決手段】球状コアと、中間層と、表面に設けられた多層構造を有する塗膜とを備え、塗膜の最内層の10%モジュラス(Pi10)が、塗膜の最外層の10%モジュラス(Po10)およびカバーを構成する材料の10%モジュラス(C10)よりも大きく、かつ、...

    ゴルフボール

  4. 【課題】簡易な工程で、速やかに硬化被膜を形成することができ、保存性に優れた表面処理剤、該表面処理剤の硬化物を有する物品、及び該表面処理剤の表面処理方法を提供する。【解決手段】(A)分子内に加水分解性基を少なくとも1つ有する含フッ素有機ケイ素化合物、及び(B)分子内に酸クロリド基を有する有機化合物:(A)成分100質量部に対して0.001〜10質量部を含有する表面処理剤。

  5. 【課題】有機繊維に対する濡れ性に優れ、強化繊維(特に、炭素繊維)を用いた繊維強化複合材料との密着性に優れる有機繊維の織物を形成できる有機繊維用サイジング剤を提供する。【解決手段】分子内に2個以上の脂環式エポキシ基を有するエポキシ化合物(A)と分子内に2個以上のアミノ基を有するアミン化合物(B)とが付加した構造を有するエポキシ−アミン付加物又はその誘導体である成分[I]...

  6. 【課題】高いガスバリア性を有し、かつ、耐水性および耐油性に優れた新規なパルプモールド製品およびその製造方法を提供する。【解決手段】パルプ、耐水耐油剤、および40℃以下で水性媒体に溶解しない水溶性高分子を含み、前記パルプに対する前記水溶性高分子の含有割合が1〜50質量%である、パルプモールド製品。パルプが水性媒体中に分散したスラリーに、耐水耐油剤および40℃以下で水性媒...

    パルプモールド製品およびその製造方法

  7. 【課題】煩雑な化学的手法や取り扱いに注意を要する試薬類を必要とせず少ない工程数で簡便に有機ホウ素化合物を効率高く安価に合成できる技術を構築する。【解決手段】反応溶媒中で、有機塩化物とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体とを反応させて有機ナトリウム化合物を得る工程と、得られた有機ナトリウム化合物と、三塩化ホウ素等の三ハロゲン化ホウ素とを反応させて、有機ホウ素化合物を得...

    有機ホウ素化合物の合成方法

  8. 【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】下記一般式(b1)で表される化合物(B1)を含むレジスト組成物(式中、Rb1は、ステロイド骨格を有する炭素数17〜50の一価の炭化水素基を表し、Yb1及びYb2は、それぞれ独立に、ヘテロ原子を含む2価の連結基を表し...

  9. 【課題】絶縁膜又は配線形成に用いられる金属膜へのダメージを抑制しつつ、基板上に形成されたマスク材や反射防止膜等の有機系下層膜を良好に除去できる、有機系下層膜を除去する方法と、当該方法において好ましく用いることができる酸性洗浄液とを提供すること。【解決手段】基板上の有機系下層膜を除去する際に、有機系下層膜を酸性洗浄液と接触させ、酸性洗浄液としてハロゲン化されていてもよい...

  10. 【課題】表面に含ケイ素材料を含む下層膜を備える基板において、下層膜上に形成されたパターニングされた有機樹脂膜を除去して、リワークを行う際に、下層膜へのダメージを抑制しつつ、下層膜上から良好に有機樹脂膜を剥離することができるリワーク方法と、当該リワーク方法に好適に用いることができる酸性洗浄液とを提供すること。【解決手段】表面に含ケイ素材料を含む下層膜を備える基板において...

  11. 【課題】樹脂層が接するガラス基板の表面形状や表面性質に影響を受けずに、光学特性に優れ、不純物量の少ないポリイミドフィルム及び機能層付きポリイミドフィルムを製造する方法を提供する。【解決手段】ガラス基板上にポリイミド前駆体溶液を塗布し、熱処理を行って、平均膜厚が5〜50μmのポリイミド層を形成したのち、ガラス基板側からレーザーを照射して、ガラス基板を剥離してポリイミドフ...

  12. 【課題】 ドライバーショットにおけるスピン性能に対する影響を低く抑えつつ、アプローチショットにおいて優れたスピン性能を発揮することができるゴルフボールを提供する。【解決手段】 本発明のゴルフボール1は、コア10と、コアの外側に設けられ、ディンプル22が形成されているカバー20と、カバーの外側に設けられ、−130μN以下の表面力を有する材料から形成されている塗膜層3...

    ゴルフボール

  13. 【課題】高温の金型に対する離型性が良好なダイカスト用離型剤組成物を開示する。【解決手段】シロキサン結合で形成される分子骨格を有するオルガノポリシロキサンを含むダイカスト用離型剤組成物であって、分子骨格はT型構造又はQ型構造の構造単位を介する分岐を複数有している。

    ダイカスト用離型剤組成物

  14. 【課題】塗布中に化粧料が、肌に塗布して伸ばした際に、水中油型乳化化粧料が肌上でいつまでも伸び続けることがなく、肌上で上滑りせず、化粧料がムラ付きせず、均一に肌に色を付着させることができる水中油型乳化化粧料を提供する。【解決手段】次の成分(A)、(B)及び(C):(A)カルボシロキサンデンドリマー構造を側鎖に有するビニル系重合体 0.05〜20質量%、(B)ポリアクリ...

  15. 【課題】電極間距離が短い液晶表示素子において、ツイスト角のシフトを抑制すること。【解決手段】一対の基板2,3と、一対の基板2,3間に配置された液晶層4とを備え、一対の基板2,3の一方の基板3上に、複数の共通電極9a及び画素電極10aが形成されており、複数の共通電極9a及び画素電極10aのうち、一方の基板3上の同一面内に形成されている二つの電極9a,10a間の最短距離L...

    液晶表示素子

  16. 【課題】一態様において、研磨速度を確保しつつ、研磨後の基板表面のスクラッチを低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物の提供。【解決手段】本開示は、一態様において、シリカ粒子(成分A)と、尿素誘導体(但し、尿素を除く)(成分B)と、酸(成分C)と、水と、を含有し、25℃におけるpHが2.3以下である、Ni−Pメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物に関する。

  17. 【課題】高温処理を施した場合でも、デバイス層と支持体との間の剥離のリスクを低減できる積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法を提供する。【解決手段】支持体12、接着層3、中間層10及びデバイス層45がこの順に積層した積層体100であって、少なくとも、中間層10とデバイス層45とは互いに隣接しており、デバイス層45は、金属または半導体により構成される部材と、前記...

    積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法

  18. 【課題】各種リソグラフィー特性のバランスが良好で、かつ、解像性及びラフネスが改善されたレジスト組成物を提供する。【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分を含有し、樹脂成分は、式(a0−1)で表される化合物から誘導される構成単位と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位とを有するレジスト組成物。式中,Wは重合性基含有基,Ya0は炭素...

  19. 【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、下記一般式(d1)で表される化合物(D1)と、を含有する...

  20. 【課題】化合物(I)による加硫ゴム組成物の損失係数の低減効果をより一層改善すること。【解決手段】架橋剤を含有しないゴム組成物の製造方法であって、 カーボンブラックを含む充填剤と、ゴム成分と、下記式(I)で表される化合物とを混練して、混練物を調製する工程1、得られた混練物に冷却操作を施して、冷却混練物を調製する工程2、および得られた冷却混練物を混練する工程3を含む方法...

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