弗素化 に関する公開一覧

弗素化」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「弗素化」の詳細情報や、「弗素化」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「弗素化」の意味・用法はこちら

101〜120件を表示(3,390件中)6/170ページ目

  1. 【課題】光ファイバに熱可塑性塗膜を施す方法及びシステムの提供。【解決手段】塗装された光ファイバの生産方法は、1本の光ファイバ16を線引き炉14から第1の垂直通路に沿って線引きすることを含む。光ファイバ16は次いで少なくとも1個の第1の流体ベアリング24を通して送られ、これにより、光ファイバ16を第2の垂直通路に沿うように方向転換させる。その後、熱可塑性樹脂塗装システム...

    熱可塑性塗膜を付された光ファイバを生産するシステムおよび方法

  2. 【課題】エチレンを原料として、プロピレン、ブタジエン及び芳香族化合物などを同時に高収率で製造する方法を提供する。【解決手段】本発明に係る炭化水素化合物の製造方法は、エチレンをオリゴマー化して炭化水素組成物を製造する工程と、前記炭化水素組成物を水蒸気の存在下で熱分解し、プロピレン、ブタジエン及び芳香族化合物を含む熱分解ガスを得る工程と、を有する。このように構成されている...

  3. 【課題】高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス(LER)を満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、該膜を有するマスクブランクス及びパターン形成方法を提供する。特に、電子線や極紫外線を使用した露光による超微細なパターンの形成において、高い解像力を示す感活性光線性又は感射線性樹...

    感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス及び新規化合物

  4. 【課題】医療技術デバイスを提供する。【解決手段】本発明の医療技術は、人間や動物の身体と係合するようになっており、デバイスの内部摩擦に露呈された自己潤滑エレメントを含む。

    自己潤滑エレメントを含む医療技術デバイス

  5. 【課題】パターンに処理剤を作用させる(いわゆる、シュリンク工程を実施する)ことによりパターンの微細化を図るパターン形成方法において、上記パターンの微細化に優れることにより、超微細のスペース幅(例えば60nm以下)を有するラインアンドスペースパターンを確実に形成でき、かつ、該ラインアンドスペースパターンを、シュリンク工程が適用された後におけるラフネス性能が優れた状態で形...

  6. 【課題】 感度、限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード(EL)、露光後加熱(PEB)温度依存性、及びフォーカス余裕度(DOF)に優れたパターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。【解決手段】 (I)酸の作用により分解してアルコール性水酸基を生じる基を有する繰り返し単位...

  7. 【課題】パターントップ部の平坦性や二重現像時のパターン残存性に優れたパターンを形成できるパターン形成方法及びそれに用いられる表面処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。【解決手段】 (1)酸の作用により分解して極性基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、 (2)前記感活...

    パターン形成方法及びそれに用いられる表面処理剤、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス

  8. 【課題】 高感度、高解像性(高解像力など)、膜べり低減性能、EL(露光ラチチュード)、及び、局所的なパターン寸法の均一性(Local−CDU)を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は...

  9. 【課題・解決手段】本発明は、ポリオキシメチレンホモ−もしくは−コポリマーの混合物を含有する熱可塑性材料、その製造、金属成形体またはセラミック成形体を製造するための当該熱可塑性材料の使用ならびにこうして得られた成形体に関する。

    熱可塑性POM材料

  10. 【課題】高感度、孤立ラインパターン形成時における高い解像力、良好なパターン形状、並びに、高いドライエッチング耐性を同時に満足するパターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。【解決手段】下記一般式(Ab1)で表される繰り返し単位を有する樹脂(Ab)を含有する、感活性光線性又は感放...

  11. 【課題】線幅50nm以下の極微細なパターン形成において、感度及び解像力が高く、ラインエッジラフネス(LER)が小さく、パターン形状及び経時安定性に優れ、アウトガス発生も少ない半導体製造プロセス用レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)下記一般式(I)で表される化合物を含有する半導体製造プロセス用レジスト組成物。上記一般式(I)中、 R1は、アルキル基、シクロアル...

  12. 【課題】パターンの超微細化に伴うパターン倒れの問題が改善され、且つ、解像性並びにラフネス特性に優れる微細パターンを形成することが可能なパターン形成方法、このパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、前記膜を露光する工程、露光した前記膜を、有機溶剤を含...

  13. 【課題】本発明の目的は、電子線あるいは極紫外線(EUV光)を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性(高解像力など)、良好なパターン形状及びスカムの低減を高次元で同時に満足するパターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提...

  14. 【課題】 線幅バラツキ(LWR)が小さく、更には膜べりが低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、この方法に好適に用い得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び感活性光線性又は感放射線性膜を提供すること。また、このパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】 酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する樹脂、溶...

  15. 【課題】高感度、高解像性(高解像力など)、膜べり低減性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法を提供する。【解決手段】(1)感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、(2)膜を活性光線又は放射線で露光することと、(3)有機溶剤を含んだ現像液を用いて露光された膜を現像することと、を含んだパターン形成方法であって、感活性光線性又は感放射線性樹...

  16. 【課題】 ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードおよびパターン形状に優れたパターンを形成することが可能なパターン形成方法、それに好適に用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び感活性光線性又は感放射線性膜、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布して感...

  17. 【課題】露光ラチチュード(以下、DOFとも称する)及びラインウィズスラフネス(以下、LWRとも称する)などのパターンラフネスに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)少なくとも1種の下記一般式(I)で表される活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物と、(B)少なくとも1種の下記一般式(1)で表...

  18. 【課題】PET技法(陽子放出断層法)に基づく診断のための[18F]−ラベルされた形で適切である新規化合物の測定参照剤の提供。【解決手段】式(I)で表される化合物、又はそのジアステレオマー若しくは鏡像異性体。前記化合物群は[T18F]−ラベルされた形の化合物のPET造影剤の測定参照化合物として用いる。[Aはヒドロキシル又はO-Z;Gはヒドロキシル又はO-Z;R1は枝分か...

    [F−18]−ラベルされたL−グルタミン酸、[F−18]−ラベルされたL−グルタミン、それらの誘導体、及びそれらの調製のためへのそれらの使用及び方法

  19. 【課題】線幅50nm以下の微細なパターン形成において、感度、解像力、LWR、及びパターン形状を損なうことなく、ブロッブ欠陥を低減し、特に、アウトガス発生の抑制に優れるパターン形成方法、組成物キット、それを用いたレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。【解決手段】(ア)(A)酸の作用により分解して現像液に対する溶解性が変化する樹脂と、(C)フッ素...

  20. 【課題】シランカップリング剤として有用な新規重合性化合物を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表される重合性アルコキシシラン化合物。(式中、環A:置換基を有してもよいベンゼン環、シクロヘキサン環又はナフタレン環、X:H又はMe、Y:H又はC1〜5アルキル基、L1:単結合、−O−、−S−、−COO−、−OCO−、−SCO−、−OCOO−、−(CE2)p−、−(CE2...

  1. 1
  2. 2
  3. 3
  4. 4
  5. 5
  6. 6
  7. 7
  8. 8
  9. 9
  10. 10
  11. 11
  12. ...
  13. 170