弗素化 に関する公開一覧

弗素化」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「弗素化」の詳細情報や、「弗素化」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「弗素化」の意味・用法はこちら

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  1. 【課題・解決手段】この発明は、標的分子と特異的に結合し得るアプタマー群の配列情報を用いて標的分子を検出する方法を提供し、この方法が、(a)標的分子と、ランダマイズされた異なる配列を持つ複数の核酸アプタマーからなるオリゴヌクレオチド集団とを接触させる工程、(b)前記標的分子と結合するオリゴヌクレオチド集団を選別する工程、(c)前記選別したオリゴヌクレオチド集団のそれぞれ...

    標的分子の検出法

  2. 【課題】レジストパターンの倒れ、露光量変化に対する性能安定性(露光ラチチュード)が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【手段】活性光線又は放射線の照射により、フッ素原子及びエステル結合を有する特定のスルホン酸を発生する化合物、酸の...

    ポジ型レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法

  3. 【課題・解決手段】1つまたはそれ以上のエチレン系不飽和モノマーを液相中で、反応性の5価の無機または有機リン化合物と3当量の有機α,β−ジヒドロキシ化合物との反応によって得られるプロトン酸化合物、例えばジアルキルエーテルによって安定化されたトリス(オキサラト)−またはトリス(オルトフェニレンジオキシ)リン酸をベースとする、溶解されたか、分散されたか、または担持された触媒...

  4. 【課題】無機フィラーを安定かつ高密度に分散でき、パターン形成(アンダーカット)の改良、絶縁性、平坦性、解像性、耐熱性さらには現像性や転写性に優れた高性能な硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フイルム、感光性積層体、永久パターン形成方法およびプリント基板の提供。【解決手段】酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂、無機フィラー、分散剤、ラジカル重...

  5. 【課題】絶縁性、耐折性、解像性および難燃性が優れる感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性積層体、フレキシブル配線基板、フレキシブル配線基板の製造方法、及び永久パターン形成方法の提供。【解決手段】バインダー樹脂、重合性化合物、光重合開始剤及び熱架橋剤を含有し、該バインダー樹脂として、酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂と、側鎖に特定の部分構造を有する酸変性...

  6. 【課題】非常に低水準のポリマーコーティング添加剤で、より広いプロセシングウィンドと限られたまたは観察出来ないストリエーションを有するスピンオン誘電体処方を提供する。【解決手段】本発明は、(a)有機溶媒に分散性を有するオリゴマーまたはポリマーで、低誘電率を有するか、硬化性を有し低誘電率を有する材料を形成する、(b)一以上の有機溶媒および(c)全組成物の重量に対して100...

  7. 【課題】絶縁性、耐折性、解像性、めっき耐性および難燃性の向上に加え、熱硬化時の反りの抑制、樹脂のガラス転移温度を低下させることなく表面タック発生を抑制した感光性組成物、フレキシブル配線基板などの提供。【解決手段】酸変性のエチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂および少なくとも2つのエポキシ基を有するエポキシ系熱架橋剤を含有し、該エポキシ系熱架橋剤がグリシジルオキシベンゼ...

  8. 【課題】無機フィラーを安定かつ高密度に分散させることで、硬化膜の絶縁性、耐熱衝撃性を高めながら、解像性にも優れる感光性樹脂組成物、並びに、該感光性樹脂組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法およびプリント基板の提供。【解決手段】(A)酸変性エチレン性不飽和基含有ポリウレタン樹脂、(B)酸変性エチレン性不飽和基含有非ポリウレタン樹脂、(C)無機フ...

  9. 【課題・解決手段】本発明は、F-18ラベルされた陽電子放射断層(PET)トレーサーの調製のための前駆体として適切な新規化合物に関する。さらに、本発明は、そのような前駆体分子の調製、及びそのような前駆体のF-18ラベリングによるPETトレーサーの調製に関する。

    F−18ラベルされたPETトレーサーのための新規前駆体分子

  10. 【課題・解決手段】本発明は、珪素化合物、殊にオルガノシラン及び/又は無機シラン並びに少なくとも1種の異種金属及び/又は異種金属含有化合物を含有している組成物を処理する方法に関し、この際、前記組成物を少なくとも1種の吸着剤及び/又は第1フィルターと接触させ、引き続き、その中の異種金属及び/又は異種金属含有化合物の含分が低減されている組成物を取得する。更に本発明は、前記化...

  11. 【課題・解決手段】天然油を含む原料から得られるジェット燃料組成物を製造する方法が提供される。本発明の方法は、メタセサイズされた生成物を形成するに十分な条件下で、メタセシス触媒の存在下に低分子量オレフィンと原料を反応させることを含む。本発明はさらにジェット燃料組成物を形成するに十分な条件下で、メタセサイズされた生成物を水素化することを含む。

    天然油原料からメタセシス反応を介してジェット燃料を製造する方法

  12. 【課題・解決手段】本発明は、随意にドープされたフルオロ硫酸塩の粒子から構成される材料に関するものである。このフルオロ硫酸塩は、次式(I)の歪タボライト型構造を有する:(A1-aA’a)x(Z1-bZ’b)z(SO4)sFf。式中、A=Li又はNaであり、A’は原子価又は少なくとも1個のドーパント元素であり、ZはFe、Co及びNiから選択される少なくとも1個の元素であり...

    電極材料として有用なフルオロ硫酸塩

  13. 【課題】2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンの製造方法。【解決手段】 (i) ヘキサフルオロプロピレンを水素化して1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンにし、(ii) 上記段階で得られた1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを110〜180℃の温度で水と水酸化カリウムとの混合物(混合物中の水酸化カリウムの濃度は58〜86重量%)を用いてデヒドロ...

  14. 【課題】感度、露光ラチチュード、マスクエラーエンハンスメントファクター、パターン形状に優れ、線幅バラツキを低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜の提供。【解決手段】(ア)(A)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂と(B)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表されるスルホン酸を発生する少なく...

    パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物、及び、レジスト膜

  15. 【課題】 露光ラチチュード(EL)及びデフォーカス余裕度(DOF)に優れたパターンを形成可能とするパターン形成方法並びにレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、(A)レジスト組成物を用いて膜を形成することと、(B)前記膜を露光することと、(C)有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。上記レジスト組...

  16. 【課題・解決手段】式(I)(式中、置換基は請求項1に定義される通りである)の化合物は、除草剤としての使用のために適切である。

    除草剤としての5−ヘテロシクリルアルキル−3−ヒドロキシ−2−フェニルシクロペント−2−エノン

  17. 【課題】感光性組成物の室温での溶融粘度が好適であり、感光層の感度低下を抑制できると共に、パターン形成材料による基体への積層体形成時に、保護フィルムの剥離跡が発生せず、保護フィルムをスムーズに剥離でき、効率よくパターンが形成でき、高感度かつ高精細なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形...

    パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

  18. 【課題・解決手段】塗装された光ファイバの生産方法は、1本の光ファイバを線引き炉から第1の垂直通路に沿って線引きすることを含む。この光ファイバは次いで少なくとも1個の第1の流体ベアリングを通して送られ、これにより、光ファイバを第2の垂直通路に沿うように方向転換させる。その後、熱可塑性樹脂塗装システムを用いて1層の熱可塑性塗膜が光ファイバに施される。次に光ファイバは、光フ...

    熱可塑性塗膜を付された光ファイバを生産するシステムおよび方法

  19. 【課題】一方で良好な溶解度を有し、かつ他方でNIR−線による良好な光活性化能を有する、NIR−光開始剤系を提供する【解決手段】(A)シアニン−カチオンCya+1個及び相応するアニオン1/m Anm−1個からイオン構成されている吸収剤少なくとも1種及び(B)1個の会合した対イオン1/x Katx+を有する、式(VII):の共−開始剤少なくとも1種を含有する混合物によって...

  20. 【課題】有機半導体層の膜厚の均一性が良好な有機薄膜トランジスタの製造方法、および、この製造方法で形成された有機薄膜トランジスタを提供する。【解決手段】ゲート電極をパターン形成する第1の工程、ゲート電極を覆って、ゲート絶縁層となる絶縁体層を形成する第2の工程、絶縁体層の上に、有機半導体層に対応する第1の犠牲膜をパターン形成する第3の工程、絶縁体層をエッチングして、ゲート...

    有機薄膜トランジスタの製造方法および有機薄膜トランジスタ

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