弗素化 に関する公開一覧

弗素化」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「弗素化」の詳細情報や、「弗素化」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「弗素化」の意味・用法はこちら

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  1. 【課題・解決手段】(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位(a)を含む樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)有機溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が提供される。上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、固形分濃度が4質量%以下である。(式中、R11及びR12は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は1価の有機基...

    感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法

  2. 【課題】ブリッジ欠陥の発生が抑制された微細な反転パターンを形成することができるパターン形成方法の提供。【解決手段】(a)酸の作用により極性が増大する樹脂(A)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を、基板上に塗布して第一の膜30を形成する工程、(b)第一の膜30を露光する工程、(c)露光された第一の膜30を現像によりパターニングし、第一のパターン30aを形成す...

    パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及びパターン反転用樹脂組成物

  3. 【課題・解決手段】本発明の課題は、半導体デバイスの欠陥の発生を抑制でき、耐食性及び濡れ性に優れた処理液を提供することである。本発明の処理液は、エーテル類、ケトン類及びラクトン類からなる群より選択される少なくとも1種の有機溶剤と、水と、Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni、Ti及びZnからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含む金属成...

    処理液及び処理液収容体

  4. 【課題・解決手段】エッチング耐性に優れ、かつ、パターン倒れの発生を抑制できるパターンが得られるパターン形成方法、及び、上記パターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供する。上記パターン形成方法は、特定の一般式(I)で表される繰り返し単位と、特定の一般式(BII)で表される繰り返し単位とを有する樹脂Aを含有する感活性光線又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する...

  5. 【課題】現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び、この方法に用いられる処理液を提供する。【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(a)感活性光線又は感放射線性組成物を用いて膜を形成する工程と、(b)前記膜を露光する工程と、(c)処理液を用いて前記露光された膜を処理する工程とを含んでいる。前記処理液は、SP値16.2MPa1/2以上の有機溶剤を...

    処理液及びパターン形成方法

  6. 【課題】現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び、この方法に用いられる処理液を提供する。【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(a)感活性光線性又は感放射線性組成物を用いて膜を形成することと、(b)前記膜を露光することと、(c)処理液を用いて前記露光された膜を処理することとを含む。前記処理液は、標準沸点が172℃以上である有機溶剤を含有し、...

    処理液及びパターン形成方法

  7. 【課題】 優れた初期の耐傷性(耐擦り傷性)と、擦り傷ダメージを受けた後の擦り傷回復性を有し、かつ、耐候性、耐酸性に優れる塗料組成物を提供すること。【解決手段】 (a)水酸基含有アクリル樹脂、(b)ポリカーボネートポリオール、及び(c)硬化剤を含み、 前記(b)ポリカーボネートポリオールの一分子中の平均水酸基価数が2.2〜3.5であり、 前記(b)ポリカーボネー...

  8. 【課題・解決手段】パターン形成方法は、感活性光線性又は感放射線性組成物を用いてレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、上記レジスト膜を露光する露光工程と、露光された上記レジスト膜を、Hansenの溶解性パラメータδpの値が2.9以上5以下の有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程と、上記現像されたレジスト膜を、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含有する有機溶...

  9. 【課題】有機電子構成部品における使用に適しているイリジウム錯体および白金錯体を提供する。【解決手段】本発明は、イリジウムおよび白金から選択された中心原子および特殊なアザベンズイミダゾールカルベン配位子を有する金属カルベン錯体、かかる錯体を含むOLEDs(Organic Light Emitting Diode(有機発光ダイオード)、OLED)、かかるOLEDを有...

  10. 【課題・解決手段】(A)酸架橋性基及び遷移金属原子を有する分子量1000以下の化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性組成物により、微細パターン(例えば、線幅50nm以下のラインパターン)の形成において、高感度、高解像力、優れたパターン形状、優れたラフネス性能、高エッチング耐性、及び、優れたスカム性能の全てを高次元で達成する感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、...

  11. 【課題】イージークリーンコーティングの特性が改善され、かつ接触面が十分に要求される特性を有するように、多数のイージークリーンコーティングと相互作用することに好適である特別な表面を有する、強く反射を低減させる基材要素の提供。【解決手段】支持材料(2)及び反射防止コーティング(3、4、5)を包含するイージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素(11、12、...

    イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素

  12. 【課題・解決手段】トランジスタの製造において、3個以上のアライメントマークが形成されたフィルム基板を用い、アライメントマークを検出して、その検出結果に応じて、基板の伸縮を制御する処理を1回以上行う。これにより、フィルムを基板とするトランジスタの製造において、環境変化に起因する基板の伸縮によらず、ソース電極やドレイン電極等のトランジスタの構成部材をパターンズレなく形成できる。

    トランジスタの製造方法

  13. 【課題】面状及び硬度に優れ、表面の水に対する接触角が小さく、他の層との積層性に優れるハードコートフィルム、このハードコートフィルムを有する偏光板、及びタッチパネルディスプレイを提供する。【解決手段】支持体の少なくとも一方の面に、(a)酸の作用により分解して親水性が増大する基を有し、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも1種を含む基を有する樹脂と、(b)酸発生...

  14. 【課題】移動度の高い有機半導体素子を製造する。【解決手段】有機半導体膜の形成面に、有機半導体を溶媒に溶解した溶液を塗布し、溶媒が残っている状態で、チャネル長方向のチャネル形成予定領域の外において、溶液に、レーザ光をチャネル幅方向にチャネル幅の80%以上の長さの領域に照射することにより、この課題を解決する。

    有機半導体素子の製造方法

  15. 【課題】ウレア系グリースに対する耐久性及び耐熱性を有し、しかも低温特性及び耐燃料油性に優れており、速い加硫速度及び良好な加工性を有する材料から製造することができる転がり軸受用シール部材を提供する。【解決手段】ウレア化合物を含有するグリースを転がり軸受に封入するために使用する転がり軸受用シール部材であって、ガラス転移温度が25℃以下である含フッ素ポリマーと架橋剤とを含む...

    転がり軸受用シール部材、成形品、及び、ウレア化合物による成形品の硬化又は膨潤を防止又は低減する方法

  16. 【課題】特性の向上した気泡材料を提供する。【解決手段】耐加水分解性軟質気泡材料のポリマーマトリックスを形成するポリウレタンの、ポリオール成分またはポリオール−ポリアミン成分を形成するために用いる、ポリスチレン、ポリアクリロニトリルおよびスチレン/アクリロニトリルコポリマーのうち少なくとも1種の鎖によってグラフトされたポリエステルおよびポリエーテルポリオール、ならびに、...

  17. 【課題・解決手段】本発明は、式(I) (式中:置換基は、特許請求の範囲に定義したとおりである)の弗素置換三環式ヌクレオシドを提供する。また、本発明は、それから調製されるオリゴマー化合物を提供する。前記三環式ヌクレオシドの1つ又はそれ以上をオリゴマー化合物に組み込むと、前記オリゴマー化合物の1つ又はそれ以上の特性が高められる。このようなオリゴマー化合物は、二本鎖組成物に...

    三環式ヌクレオシド及びそれから調製されるオリゴマー化合物

  18. 【課題・解決手段】本明細書に開示されているのは、透明な基体用の防曇性で透明なナノ織目加工された表面である。また開示されているのは、その上に形成された防曇性で透明なナノ織目加工された表面を有する基体を含む物品である。

    防曇性のナノ織目加工された表面及び同表面を含有する物品

  19. 【課題】電子線あるいは極紫外線(EUV光)を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、高ラインウィズスラフネス(LWR)性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。【解決手段】(...

  20. 【課題・解決手段】下記式(1)により表されるΔDthが0.8以上を満たす感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法。(式中、Dth(PTI)は、アルカリ現像液を用いた現像後における感活性光線性又は感放射線性膜の膜厚に対する酸分解性基の閾値脱保護率を表し、Dth(NTI)は、有機溶剤を含む現像液を用いた現像後における感活性光線性又は感放射線性膜の膜厚に...

    パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜及び電子デバイスの製造方法

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