弗素化 に関する公開一覧

弗素化」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「弗素化」の詳細情報や、「弗素化」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「弗素化」の意味・用法はこちら

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  1. 【課題】支持体と、感光層と、保護フィルムとをこの順に積層してなる感光性樹脂積層体。上記保護フィルムは、上記感光層と接する面において、面積2,000μm2以上かつ上記保護フィルム表面からの最大高さが1μm以上のフィッシュアイの個数が、20個を超えて50個未満となる縦10m×横0.1mの領域を含む。【解決手段】ガイドロール上を保護フィルムが搬送される時に、搬送状態への悪影...

    感光性樹脂積層体、感光性樹脂積層体を用いたパターン製造方法及び装置

  2. 【課題】 医薬、農薬等の中間体として有用な2−クロロ−3−トリフルオロメチルピリジンの分離、精製方法を提供する。【解決手段】 1)β−メチルピリジン系化合物と塩素および弗化水素とを反応装置内で反応させるか、β−トリフルオロメチルピリジン系化合物と塩素とを反応装置内で反応させるか、または、クロロβ−トリクロロメチルピリジン系化合物と弗...

  3. 【課題】真空ラミネートの真空環境下に長時間置かれた場合に、一部の感光層が保護フィルム側へ異常密着し、保護フィルムを剥離する際に保護フィルム側に転写してしまうことが少なく、かつ、経時で発生する感光層中の光重合性化合物の保護フィルムからのブリードアウトを抑制することのできる、感光性樹脂積層体を提供すること。【解決手段】支持体と、感光層と、保護フィルムとをこの順に積層してな...

    感光性樹脂積層体、感光性樹脂積層体を用いたパターン製造方法及び装置

  4. 【課題・解決手段】(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位(a)を含む樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)有機溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が提供される。上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、固形分濃度が4質量%以下である。(式中、R11及びR12は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は1価の有機基...

    感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法

  5. 【課題・解決手段】本発明の課題は、半導体デバイスの欠陥の発生を抑制でき、耐食性及び濡れ性に優れた処理液を提供することである。本発明の処理液は、エーテル類、ケトン類及びラクトン類からなる群より選択される少なくとも1種の有機溶剤と、水と、Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni、Ti及びZnからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含む金属成...

    処理液及び処理液収容体

  6. 【課題・解決手段】エッチング耐性に優れ、かつ、パターン倒れの発生を抑制できるパターンが得られるパターン形成方法、及び、上記パターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供する。上記パターン形成方法は、特定の一般式(I)で表される繰り返し単位と、特定の一般式(BII)で表される繰り返し単位とを有する樹脂Aを含有する感活性光線又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する...

  7. 【課題】現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び、この方法に用いられる処理液を提供する。【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(a)感活性光線又は感放射線性組成物を用いて膜を形成する工程と、(b)前記膜を露光する工程と、(c)処理液を用いて前記露光された膜を処理する工程とを含んでいる。前記処理液は、SP値16.2MPa1/2以上の有機溶剤を...

    処理液及びパターン形成方法

  8. 【課題】現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び、この方法に用いられる処理液を提供する。【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(a)感活性光線性又は感放射線性組成物を用いて膜を形成することと、(b)前記膜を露光することと、(c)処理液を用いて前記露光された膜を処理することとを含む。前記処理液は、標準沸点が172℃以上である有機溶剤を含有し、...

    処理液及びパターン形成方法

  9. 【課題】 優れた初期の耐傷性(耐擦り傷性)と、擦り傷ダメージを受けた後の擦り傷回復性を有し、かつ、耐候性、耐酸性に優れる塗料組成物を提供すること。【解決手段】 (a)水酸基含有アクリル樹脂、(b)ポリカーボネートポリオール、及び(c)硬化剤を含み、 前記(b)ポリカーボネートポリオールの一分子中の平均水酸基価数が2.2〜3.5であり、 前記(b)ポリカーボネー...

  10. 【課題・解決手段】パターン形成方法は、感活性光線性又は感放射線性組成物を用いてレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、上記レジスト膜を露光する露光工程と、露光された上記レジスト膜を、Hansenの溶解性パラメータδpの値が2.9以上5以下の有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程と、上記現像されたレジスト膜を、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含有する有機溶...

  11. 【課題】有機電子構成部品における使用に適しているイリジウム錯体および白金錯体を提供する。【解決手段】本発明は、イリジウムおよび白金から選択された中心原子および特殊なアザベンズイミダゾールカルベン配位子を有する金属カルベン錯体、かかる錯体を含むOLEDs(Organic Light Emitting Diode(有機発光ダイオード)、OLED)、かかるOLEDを有...

  12. 【課題・解決手段】(A)酸架橋性基及び遷移金属原子を有する分子量1000以下の化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性組成物により、微細パターン(例えば、線幅50nm以下のラインパターン)の形成において、高感度、高解像力、優れたパターン形状、優れたラフネス性能、高エッチング耐性、及び、優れたスカム性能の全てを高次元で達成する感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、...

  13. 【課題】イージークリーンコーティングの特性が改善され、かつ接触面が十分に要求される特性を有するように、多数のイージークリーンコーティングと相互作用することに好適である特別な表面を有する、強く反射を低減させる基材要素の提供。【解決手段】支持材料(2)及び反射防止コーティング(3、4、5)を包含するイージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素(11、12、...

    イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素

  14. 【課題・解決手段】トランジスタの製造において、3個以上のアライメントマークが形成されたフィルム基板を用い、アライメントマークを検出して、その検出結果に応じて、基板の伸縮を制御する処理を1回以上行う。これにより、フィルムを基板とするトランジスタの製造において、環境変化に起因する基板の伸縮によらず、ソース電極やドレイン電極等のトランジスタの構成部材をパターンズレなく形成できる。

    トランジスタの製造方法

  15. 【課題】特性の向上した気泡材料を提供する。【解決手段】耐加水分解性軟質気泡材料のポリマーマトリックスを形成するポリウレタンの、ポリオール成分またはポリオール−ポリアミン成分を形成するために用いる、ポリスチレン、ポリアクリロニトリルおよびスチレン/アクリロニトリルコポリマーのうち少なくとも1種の鎖によってグラフトされたポリエステルおよびポリエーテルポリオール、ならびに、...

  16. 【課題・解決手段】下記式(1)により表されるΔDthが0.8以上を満たす感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法。(式中、Dth(PTI)は、アルカリ現像液を用いた現像後における感活性光線性又は感放射線性膜の膜厚に対する酸分解性基の閾値脱保護率を表し、Dth(NTI)は、有機溶剤を含む現像液を用いた現像後における感活性光線性又は感放射線性膜の膜厚に...

    パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜及び電子デバイスの製造方法

  17. 【課題】小脳萎縮症を効果的に検出する放射性フッ素含有ヒドロキサム酸型造影剤及びその製造方法の提供。【解決手段】下記一般式(III)で示す放射性フッ素含有ヒドロキサム酸型造影剤。(式中、R1は放射性フッ素18(18F)または放射性フッ素19(19F)を示し、R2はアミドキシル(NH)OHを示す)。

    放射性フッ素含有ヒドロキサム酸型造影剤、その製造方法及びその応用

  18. 【課題・解決手段】高精度の微細パターンにおける、パターン倒れ性能とブリッジ性能を非常に高い次元で両立するために、感活性光線性又は感放射線性組成物から得られるレジスト膜に用いられる現像液であって、分岐アルキル基を有する、ケトン系又はエーテル系溶剤を含む現像液、この現像液を用いるパターン形成方法、及びこのパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供する。

  19. 【課題・解決手段】本発明によれば、(A)極性相互作用を形成する部位を含む繰り返し単位を有し、酸又は塩基の作用により上記極性相互作用が解除されて、極性が低下する樹脂を含有する組成物、又は、(A’)極性基を有する繰り返し単位を有する樹脂と、(B)樹脂(A’)の極性基と極性相互作用を形成する化合物を含有する組成物を用い、有機溶剤を含む現像液を用いて現像するポジ型のパターン形...

  20. 【課題・解決手段】極微細のパターン形成の際に、感度が高く、かつ解像力が高いパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及びレジスト組成物を提供する。パターン形成方法は、(A)明細書中の一般式(1)で表され、ClogP値が2.2以下である繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する...

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