正方形板 に関する公開一覧

正方形板」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「正方形板」の詳細情報や、「正方形板」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「正方形板」の意味・用法はこちら

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  1. 【課題】メイン流路部に比べてT字状に分岐する分岐流路部への流量が極端に少なくなることを防止する。【解決手段】継手本体1に於て、メイン流路部Mを通過する流体の一部を、分岐流路部Sへ、偏向誘導する誘導突隆部Yを、メイン流路部Mに形成する。

    T型管継手

  2. 【課題】処理対象へのプラズマ照射の効率の向上が可能なプラズマ処理装置及びプラズマトーチの提供を目的とする。【解決手段】本発明のプラズマトーチ25では、中空絶縁部材に相当する円筒状の絶縁パイプ25Pを挟んで対向する第1及び第2のプラズマ生成電極25A,25Bが取り付けられている。これにより、プラズマ生成ガスが供給されている状態で第1及び第2のプラズマ生成電極25A,25...

    プラズマ処理装置及びプラズマトーチ

  3. 技術 貯湯装置

    【課題】ナットよりも受圧面積が大きな筐体脚を備える貯湯装置を提供する。【解決手段】比較例は、図(a)に示すように、筐体脚120の受け部123にボルト104及びナット105が取り付けられるが、ボルト104に軸力が作用し、ナット105が図面おもて側へ引かれたときの受圧面積131は、ナット105の外径に対応する大きさとなる。実施例は、図(a)に示すように、筐体脚30の受け部...

    貯湯装置

  4. 技術 貯湯装置

    【課題】筐体脚が1種類でありながら、筐体脚を90°回転させることができる貯湯装置を提供する。【解決手段】図(b)に示すように、筐体脚30は、受け部31と、この受け部31を支える脚柱部35と、この脚柱部35のベースを構成する脚底部46と、受け部31の下に差し込まれる正方形板50とからなる。受け部31には、長孔状の脚側通孔34が設けられている。正方形板50には、正三角形の...

    貯湯装置

  5. 技術 貯湯装置

    【課題】低コストの筐体脚を備える貯湯装置を提供することを課題とする。【解決手段】図(a)に示すブランク材32の全長はL1である。ブランク材32の受け部31の突出長さは、ほぼ奥壁31の幅の半分になる。図(b)に示す奥壁101と略正方形の受け部105を合わせた長さはL2である。受け部105は、奥壁101の幅を一辺とする正方形に近似する。よって、長さL2は、長さL1よりΔL...

    貯湯装置

  6. 【課題・解決手段】底部皿構成部と上部カバー蓋とを含む環状培養皿。底部皿構成部は、底板と、底板の外周囲から上方に延びる連続側壁と、底部皿構成部の中心軸の周りに底板から上方に延びる中心円柱とを含み、底板、側壁、及び中心円柱は、環状チャンバを形成する。

    環状培養皿

  7. 【課題・解決手段】パノラマカメラの大量生産方法及びシステムであって、製造予定のカメラのために1つのキャリブレーション部屋を設定するステップと、前記製造予定のカメラのキャリブレーションパラメータを算出し、かつ前記キャリブレーションパラメータにより前記製造予定のカメラのパノラマステッチングを行うステップと、前記製造予定のカメラのパノラマステッチングの効果に従って合格したか...

    パノラマカメラの大量生産方法及びシステム

  8. 【課題】担体を適切な流動状態に維持し、かつ反応槽内におけるスカム等の液面浮遊物の蓄積を抑制しながら反応槽外への担体の流出を抑制し、安定した高効率の嫌気性処理が可能となる、嫌気性流動床式生物処理装置および嫌気性流動床式生物処理方法を提供する。【解決手段】担体13を用いた流動床式の生物処理を行うための反応槽2と、反応槽2に液体を導入したときの液面から所定の深さに設置された...

    嫌気性流動床式生物処理装置および嫌気性流動床式生物処理方法

  9. 【課題】流路孔の内側コーナー部にエッジがない滑らかな弯曲状としたエルボ型管継手を製造する。【解決手段】エルボ型管継手を射出成形する金型(1)を備え、この金型(1)は弯曲状キャビティ(3)を有し、そのキャビティ(3)の開口端(3D)(3D)から、円弧状コアピン(10)を、円弧状軸心(L3 )に沿って、挿入、及び、引抜く作動をする。

    管継手の製造装置

  10. 【課題】LEDパッケージ単独での取替えが可能であり、かつ、使用時にLEDパッケージと外部電極及び放熱手段との接触を確保する光照射装置を提供する。【解決手段】光照射装置10は、アノードバー24、カソードバー26、アノード弾性体32及びカソード弾性体34を備える。アノードバー24は、SMD型LEDパッケージ20のアノード面66に面するアノード端子面108を有するとともにア...

    光照射装置

  11. 【課題】簡素な構成により異なる周波数帯の電波をそれぞれ同時に受信可能にする。【解決手段】アンテナ装置1は、第1の周波数帯(L1帯)の信号を受信するための導電体からなる第1アンテナ21Aと、第1アンテナとの間に誘電体によるギャップG3を介して配置され、第1の周波数帯とは異なる第2の周波数帯(L2帯)の信号を受信するための導電体からなる第2アンテナ21Bと、第1アンテナと...

    アンテナ装置

  12. 【課題】 従来のマグネトロンスパッタ法による装飾被膜の形成方法では、高硬度でありかつ鮮やかな金色の窒化チタン膜を当該装飾被膜として形成することができない。【解決手段】 本発明に係るマグネトロンスパッタ装置10によれば、アーク放電による高密度なプラズマ300が発生する。この言わばアーク放電型のマグネトロンスパッタ法によって、高硬度でありかつ鮮やかな金色の窒化チタン膜...

    マグネトロンスパッタ法による装飾被膜の形成方法

  13. 【課題】小型で、高いQ値を有する振動デバイスを提供する。【解決手段】本発明の振動デバイス1は、輪郭振動する振動片10、振動片10の輪郭とは異なる位置において振動片10を支持する第2の基材14と、第2の基材14の振動片10と同じ側に振動片10とは離間して配置され、少なくとも一部が振動片10と同じ材料である接続体12と、を含む。

    振動デバイス、振動デバイスの製造方法、発振器、電子機器、および移動体

  14. 【課題・解決手段】メタルマスク基材は、レジストが配置されるように構成された金属製の表面を備え、表面に入射した光の正反射における反射率が、45.2%以上である。

    メタルマスク基材、メタルマスク基材の管理方法、メタルマスク、および、メタルマスクの製造方法

  15. 【課題】本発明は、前記患者支持部を安定して昇降させることができる昇降装置及び医療用診療台を提供することを目的とする。【解決手段】 昇降装置1は、基台11に対して固定された固定軸12と、上端部分に患者を支持する座席支持部14が連結され、固定軸12と並行に配置された移動軸13と、固定軸12と移動軸13とを連結するとともに、固定軸12に沿って昇降自在な昇降部材40と、昇降...

    昇降装置及び医療用診療台

  16. 【課題】本発明は、基台に対して患者を支持する患者支持部が相対回転することを防止できるとともに、部品点数を削減できる昇降装置及び医療用診療台を提供することを目的とする。【解決手段】 昇降装置1は、高さ方向Hに延びるとともに、基台11に対して固定された固定軸12と、上部に患者を支持する座席支持部14が連結され、固定軸12に対して高さ方向Hに昇降自在な昇降部材40と、昇降...

    昇降装置及び医療用診療台

  17. 【課題】原料である炭化珪素粉末の昇華速度の向上を図ることが可能な炭化珪素単結晶の製造方法を提供する。【解決手段】るつぼ内に原料となる炭化珪素粉末を充填し、炭化珪素粉末を昇華させて、単結晶炭化珪素を製造する。原料の炭化珪素粉末の安息角は25°以上45°以下であり、30°以上40°以下であることがより好ましい。

  18. 技術 照明装置

    【課題】プラグボックスの大きさを最適化しやすい照明装置を提供する。【解決手段】照明装置1は、ダクトレールに取り付けられて使用され、LED素子371を光源として備える灯体3と、ダクトレールに取り付けられるプラグボックス5と、LED素子371に電力を供給する電源回路7と、灯体3とプラグボックス5とを連結するアーム8とを備え、灯体3は、電源回路7を構成する複数の回路部品のう...

    照明装置

  19. 【課題】処理対象へのプラズマ照射の効率の向上が可能なプラズマ処理装置及びプラズマトーチの提供を目的とする。【解決手段】本発明のプラズマトーチ25では、中空絶縁部材に相当する円筒状の絶縁パイプ25Pを挟んで対向する第1及び第2のプラズマ生成電極25A,25Bが取り付けられている。これにより、プラズマ生成ガスが供給されている状態で第1及び第2のプラズマ生成電極25A,25...

    プラズマ処理装置及びプラズマトーチ

  20. 【課題】レジストと表面との界面における密着性を高めることができる表面を備えたメタルマスク基材、および、メタルマスク基材の管理方法を提供する。【解決手段】メタルマスク基材11は、レジストが配置されるように構成された金属製の表面11aを備え、表面11aに入射した光の正反射における反射率が、45.2%以上である。メタルマスク基材11の圧延方向と直交する方向が幅方向であり、表...

    メタルマスク基材、および、メタルマスク基材の管理方法

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