ボロシリケートガラス に関する公開一覧

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「ボロシリケートガラス」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「ボロシリケートガラス」の詳細情報や、「ボロシリケートガラス」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「ボロシリケートガラス」の意味・用法はこちら

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出願人・発明者

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  1. 技術 マスクブランク用基板の製造方法

    【課題】従来に比べて、ガラス基板への異物の付着が有意に抑制された、マスクブランク用基板の製造方法を提供する。【解決手段】マスクブランク用基板の製造方法であって、（Ｉ）コロイダルシリカを含む研磨スラリーを用いてガラス基板を研磨する工程と、（ＩＩ）ｐＨが９超１４以下の洗浄液を用いて、前記ガラス基板を洗浄する工程であって、前記ガラス基板の洗浄後に、前記洗浄液のシリカ濃度は、...

    マスクブランク用基板の製造方法

  2. 技術 ガラス用研磨液および研磨方法

    【課題】ガラス研磨を行った際のディンプルの発生は、前研磨工程で成長するディンプルの元となる微細なキズを予め削ってから、本研磨を行うことで抑制されてきた。しかし、前研磨工程で成長が抑制されたディンプルの痕には、微妙な表面荒れが生じることが分かった。【解決手段】フッ酸とアルカリ金属と水と界面活性剤を含み、 前記界面活性剤は、スルホン酸型若しくは硫酸エステル型であることを...

    ガラス用研磨液および研磨方法

  3. 技術 歯科用組成物

    【課題】保存安定性を向上させた歯科用組成物を提供する。【解決手段】歯科用組成物が、硫黄−ケイ素結合を有するシランカップリング剤を含有する。

  4. 技術 積層体および表示装置

    【課題】２以上の透明面材が粘着層を介して貼り合わせた積層体において、２つの透明面材の粘着層と接する面に水滴等が付着しても、その水滴が粘着層に接触することを防止すること。【解決手段】第１の透明面材、第１の粘着層および第２の透明面材がこの順で積層されており、前記第１の透明面材の面積は、前記第２の透明面材の面積より大きく、前記第１の粘着層の周縁の少なくとも一部には、第１の粘...

    積層体および表示装置

  5. 技術 レーザ加工用ガラス及びそれを用いた孔付きガラスの製造方法

    【課題・解決手段】本発明は、紫外線レーザ照射による変質部形成とエッチングとを組合せた微細孔一括加工技術において、円形の輪郭と平滑な内壁を有する孔を作製可能にし、実用的な連続生産が可能なガラス組成を提供する。本発明は、ガラスの組成が、モル％で表示して、４５．０％≦ＳｉＯ2≦７０．０％、２．０％≦Ｂ2Ｏ3≦２０．０％、３．０％≦Ａｌ2Ｏ3≦２０．０％、０．１％≦ＣｕＯ≦２...

    レーザ加工用ガラス及びそれを用いた孔付きガラスの製造方法

  6. 技術 化学強化ガラス及び化学強化ガラスの製造方法

    【課題】ガラス表面が研磨されていても、面強度及び平坦性に優れた化学強化ガラスの提供。【解決手段】表層に圧縮応力層を有し、以下の（１）〜（５）の条件を満たす化学強化ガラス。（１）表面に研磨傷を有する。（２）テクスチャ方向インデックス（Ｓｔｄｉ）が０．７０以上。（３）下式（ｉ）におけるシラノール基量が１以下。（表面シラノール基量）＝（ガラス内部のカチオン量）−（ガラス表面...

    化学強化ガラス及び化学強化ガラスの製造方法

  7. 技術 マスクブランク、レジスト膜付きマスクブランク、レジストパターン付きマスクブランク、およびそれらの製造方法、ならびに転写用マスクの製造方法

    【課題】マスクパターンの微細化を可能とする技術を提供する。【解決手段】薄膜１１を有する基板１０と、当該薄膜１１の主表面に形成された下地膜１２とを備えるマスクブランク５であって、薄膜１１の主表面に修飾されたカップリング剤に対し、下地膜１２を構成する分子鎖が共有結合しており、当該分子鎖はフェノール性水酸基を有するマスクブランク５およびその関連技術を提供する。

    マスクブランク、レジスト膜付きマスクブランク、レジストパターン付きマスクブランク、およびそれらの製造方法、ならびに転写用マスクの製造方法

  8. 技術 磁気ディスク用基板の製造方法

    【課題・解決手段】磁気ディスク用基板の研磨処理後の歩留まりを向上させる。基板の主表面を研磨する研磨処理に用いる研磨液の原料となるスラリーを、疎水性高分子材料からなり、開口径が１００ｎｍ以下であるフィルタに通す。スラリーに含まれる、砥粒の平均粒径よりも大きな粒径の粒子をフィルタにより除去した後の研磨液を用いて研磨処理を行う。

  9. 技術 耐久性および耐擦傷性反射防止物品

    【課題・解決手段】耐久性反射防止物品の実施形態が記載される。１つまたはそれ以上の実施形態において、物品は、基体と、主要表面上に配置された光学コーティングとを含む。光学コーティングは、反射防止表面を形成する反射防止コーティングおよび耐擦傷性コーティングを含む。物品は、約１００ｎｍ以上の押し込み深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ Ｉｎｄｅｎｔｅｒ Ｈａｒｄｎｅｓｓ Ｔ...

    耐久性および耐擦傷性反射防止物品

  10. 技術 インクジェットインク組成物

    【課題・解決手段】本発明は、分散剤および混合金属酸化物顔料を含有する、カルボン酸を利用して分散された無機の混合金属酸化物顔料組成物を提供する。金属酸化物顔料は、セラミックまたはガラス物品を着色するために使用されるタイプのものである。少なくとも１つのカルボン酸基に加えて、分散剤は、少なくとも１つの３００〜３０００ｇ／モルの可溶性鎖であるヒドロカルビレン由来の繰り返し単位...

  11. 技術 電子デバイス用ワイヤレス充電デバイス

    【課題・解決手段】電子デバイス用のワイヤレス充電デバイスを製造する方法は、この電子デバイスのエリアを被覆するように構成された形状及びサイズを有するガラスまたはガラスセラミック製の基板を提供するステップを含む。この基板の表面上またはこの基板の表面上の装飾層上には、導電性インクを用いてコイルが印刷される。

    電子デバイス用ワイヤレス充電デバイス

  12. 技術 ガラス部材およびガラス部材の製造方法

    【課題】機能層により発現される機能を損なうことなく、良好な手触り感を得ることの可能なガラス部材。【解決手段】ガラス板の第１の表面に機能層を有するガラス部材であって、前記機能層の側から測定されるマルテンス硬度が１１００Ｎ／ｍｍ２以上であり、前記機能層は、シリカを含有し、前記機能層の表面の粗さ曲線（評価長さＬ＝１０ｍｍ）において、切断レベルをｃとして、以下の（１）式で表さ...

    ガラス部材およびガラス部材の製造方法

  13. 技術 磁気ディスク用ガラス基板

    【課題・解決手段】アルカリ金属成分をガラス組成として含んだ磁気ディスク用ガラス基板の端面は、鏡面であり、前記端面を２．５μｍ、エッチングした後の前記端面の表面粗さを測定したときに得られる粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ断面積の負荷率が５０％であるときの粗さ百分率が４０％以上である。

    磁気ディスク用ガラス基板

  14. 技術 歯列矯正用接着材および歯列矯正用接着材キット

    【課題・解決手段】余剰接着材の除去性や、接着材を硬化させた硬化体の切削性に優れること。平均一次粒子径が０．０７〜０．６μｍであり、球状または略球形状の粒子である無機充填材成分（Ａ１）１０〜３５質量％、および、平均粒子径が０．７〜３５μｍの充填材成分（Ａ２）６５〜９０質量％、を含む充填材（Ａ）を２５０〜７５０質量部と、重合性単量体（Ｂ）を１００質量部と、重合開始剤（Ｃ）...

  15. 技術 歯科用硬化性組成物及びその製造方法

    【課題・解決手段】フルオロアルミノシリケートガラス粒子（Ａ）、リン酸カルシウム粒子（Ｂ）、エチレンジアミン四酢酸又はその塩（Ｃ）、ポリアルケン酸（Ｄ）及び水（Ｅ）を含有する歯科用硬化性組成物であって、該歯科用硬化性組成物の全量１００重量部に対し、フルオロアルミノシリケートガラス粒子（Ａ）を３５〜７５重量部含み、フルオロアルミノシリケートガラス粒子（Ａ）１００重量部に対...

  16. 技術 歯科材料用重合性モノマー組成物

    【課題・解決手段】［課題］高い靭性と剛性を両立する物性を有する硬化物を与える歯科材料用重合性モノマー組成物、及び該歯科材料用重合性モノマー組成物を含有する歯科材料用組成物、及び高い機械的物性を有するその硬化物を提供する。［解決手段］特定のヒドロキシアクリレート（ａ１）と、二価の炭素数６〜９の芳香族炭化水素基または二価の炭素数６〜９の橋かけ環式炭化水素基が、水素原子が炭...

  17. 技術 歯科材料用重合性モノマー

    【課題・解決手段】[課題]高い靭性と剛性を両立する物性を有する硬化物を与える歯科材料用重合性モノマー、該重合性モノマーを含有する歯科材料用重合性モノマー組成物、及び該歯科材料用重合性モノマー組成物を含有する歯科材料用組成物、及び高い機械的物性を有するその硬化物を提供する。[解決手段]適度な剛直性を有する特定のジイソシアネートと、適度な柔軟性を有する特定のヒドロキシアク...

  18. 技術 磁気ディスク用基板の製造方法

    【課題・解決手段】磁気ディスク用基板の端面研磨処理を行う前に、磁性粒子の粒径に対する研磨砥粒の粒径比と、該粒径比の磁性粒子と研磨砥粒を有する磁気機能性流体を用いて基板の端面の研磨をしたときの基板の側壁面に対する基板の面取り面の研磨レートの比との関係を予め取得しておき、前記端面研磨処理の対象とする基板の側壁面と面取り面における目標とする研磨レートの比から、前記粒径比の値...

    磁気ディスク用基板の製造方法

  19. 技術 磁気ディスク用基板の製造方法

    【課題】基板の研磨処理後に研磨砥粒が基板の表面に残存することを抑制する。【解決手段】磁気ディスク用基板の研磨処理に用いる研磨液は、表面をスルホン酸基（−ＳＯ３Ｈ）で修飾されたシリカ粒子を研磨砥粒として含み、研磨液はアルカリ性である。

  20. 技術 分散液組成物及び被研磨体の製造方法

    【課題】シリカ粒子が凝集及び沈殿しにくく、長期にわたって分散状態が保持されうる、研磨液組成物として有用な分散液組成物を提供する。【解決手段】シリカ粒子を分散状態で含有する分散液組成物である。リシン、アルギニン、及び下記一般式（Ｉ）（Ｒ1及びＲ2：炭素原子数１〜４のアルキル基、Ａ：炭素原子数１〜５のアルカンジイル基）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の...

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