CMP法 に関する公開一覧

CMP法」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「CMP法」の詳細情報や、「CMP法」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「CMP法」の意味・用法はこちら

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  1. 【課題】半導体装置の性能を向上させる。【解決手段】ハフニウム、酸素および第1元素を含むアモルファス膜AM1を形成し、アモルファス膜AM1上に、ハフニウム、酸素および第1元素の何れとも異なる第2元素を含む複数の粒を形成する。続いて、複数の粒上およびアモルファス膜AM1上に、ハフニウムおよび第2元素の何れとも異なる第3元素を含む絶縁膜IF2を形成することで、第2元素と第3...

    半導体装置およびその製造方法

  2. 【課題】受光画素領域に配された画素の光電変換部における暗電流を低減し且つ暗電流の不均一性を改善しうる半導体装置を提供する。【解決手段】各々が光電変換部を含む複数の画素が設けられた半導体層と、半導体層の上に配された配線構造体と、を有する半導体装置であって、複数の画素は、第1の受光画素及び第2の受光画素を含み、配線構造体は、第1の絶縁材料よりなる第1の絶縁膜と、第1の受光...

    半導体装置

  3. 技術 発光装置

    【課題】高画質で信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造することができる技術を提供する。【解決手段】第1の基板上のトランジスタと、トランジスタ上の第1の絶縁層と、第1の絶縁層上の第1の電極と、第1の電極の端部を覆う領域を有し、且つ上面に凸部が設けられた第2の絶縁層と、第1の電極上の有機化合物を有する層188と、有機化合物を有する層上の第2の電極189と、第2...

    発光装置

  4. 【課題】半導体装置の信頼性を高める。【解決手段】半導体装置の製造方法は、第1絶縁層上に第1導電膜を形成する工程と、第1導電膜上に第1無機膜を形成する工程と、第1無機膜の一部上に第1エッチングマスクを形成する工程と、第1エッチングマスクを用いて、第1無機膜および第1導電膜をパターニングして、第1配線を形成する工程と、第1無機膜の一部上に第2エッチングマスクを形成する工程...

    半導体装置およびその製造方法

  5. 【課題】放熱構造を有する半導体装置の特性を向上させる。【解決手段】半導体装置は、基板および熱伝導膜を有する。基板は、互いに反対側に位置する表面および裏面を有する。基板の裏面には、第1開口部が形成されている。熱伝導膜は、第1開口部内に形成された第1熱伝導部を含む。第1熱伝導部は、第1開口部内にボイドが形成されるように第1開口部内に埋め込まれている。

    半導体装置

  6. 【課題】選択用トランジスタにおいて双方向に電流を流すことなく、単一の方向に電流を流すことで情報の書き込みを行うことを可能とする不揮発性メモリセルを提供する。【解決手段】不揮発性メモリセルは、抵抗変化型の不揮発性メモリ素子50及び選択用トランジスタTRから構成されており、不揮発性メモリ素子50の一端は、選択用トランジスタTRの一方のソース/ドレイン領域15Aに接続されて...

    不揮発性メモリセル、不揮発性メモリセルアレイ、及び、不揮発性メモリセルアレイの情報書き込み方法

  7. 【課題】 光電変換の性能を向上した光電変換装置を提供する。【解決手段】 半導体層100の表面1側に配され、絶縁体11によって構成された素子分離部10と、画素分離部20と、を備える光電変換装置であって、画素分離部は、法線方向において分離領域102に重なる部分201を有し、中間面3では半導体領域121、124、123に渡って半導体層100が連続しており、かつ、部分20...

    光電変換装置およびカメラ

  8. 【課題・解決手段】本発明は、(a)湿式法シリカと、(b)(i)式(I)のアルコールと(ii)式(II)のアルコールとの組み合わせと、(c)過酸化水素と、(d)鉱酸と、(e)水と、を含む化学機械研磨組成物を提供し、その研磨組成物は、約1〜約5のpHを有する。本発明はまた、基板を研磨パッドおよび化学機械研磨組成物と接触させて、基板に対して研磨パッドおよび研磨組成物を動かし...

  9. 【課題】一実施形態において、表面の一部が酸化珪素である半導体デバイス用基板の基板表面に残留するセリアに対する洗浄性に優れる基板の洗浄方法の提供。【解決手段】本開示は、一実施形態において、下記工程(1)及び(2)を含む、基板の洗浄方法に関する。(1)被洗浄基板を、分子内にカルボキシル基を2個以上有する化合物(成分A)及び水を含むpH5以下の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工...

  10. 【課題】一実施形態において、基板表面に残留するセリアに対する洗浄性に優れる半導体デバイス用基板に用いる洗浄剤組成物の提供。【解決手段】本開示は、一実施形態において、水溶性重合体(成分A)及び水(成分B)を含有する洗浄剤組成物であって、成分Aが、主鎖に、下記式(I)で表される構成単位、及び、下記式(II)で表される基を含む構成単位を含有し、pHが1以上5以下であり、半導...

  11. 【課題】一態様において、酸化珪素膜の研磨速度を向上できる研磨液組成物の提供。【解決手段】本開示は、一態様において、酸化セリウム粒子(成分A)と、水溶性高分子(成分B)と、水系媒体とを含有し、成分Bは、下記式(I)で表される構成単位b1と、下記式(II)で表される構成単位、下記式(III)で表される構成単位、及び下記式(IV)で表される構成単位から選ばれる少なくとも1種...

  12. 【課題】半導体装置の信頼性を向上させる。【解決手段】SOI基板の製品領域にメモリセルアレイを設け、SOI基板のスクライブ領域にテスト用セルアレイTEGAを設ける。テスト用セルアレイTEGAには、メモリセルアレイと同じ構造からなる活性領域AcN1、活性領域AcN2および給電領域TAPが形成されている。活性領域AcN1、活性領域AcN2および給電領域TAPには、それぞれプ...

    半導体装置の製造方法

  13. 【課題】今までと同等のチップサイズで、1画素あたりの面積の微細化を阻害することのない撮像装置を提案する。【解決手段】本開示の実施形態に係る撮像装置は、光電変換素子、及び、当該光電変換素子から出力された電荷を一時的に保持するフローティングディフュージョンからなる画素を有する第1の半導体基板と、前記第1の半導体基板上に絶縁膜を介して設けられ、前記フローティングディフュージ...

    撮像装置及び電子機器

  14. 【課題】 高密度研磨層であっても、ドレス処理を少なくさせることができ、また、塊が脱落しにくい構造の研磨層を有する研磨パッドを提供することを目的とする。【解決手段】 研磨層を構成する硬化樹脂がジャイロイド構造状に相分離した研磨パッドであって、前記相分離した硬化樹脂の少なくとも一種は、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、及びポリウレタンポリウレア樹脂からなる群から選択さ...

    研磨パッド

  15. 【課題】一態様において、酸化珪素膜の研磨速度を確保しつつ、研磨選択性を向上できる研磨液組成物を提供する。【解決手段】本開示は、一態様において、酸化セリウム粒子(成分A)と、水溶性高分子(成分B)と、アニオン性縮合物(成分C)と、水系媒体とを含有し、成分Bは、下記式(I)で表される構成単位b1を含む重合体ある、酸化珪素膜用研磨液組成物に関する。

  16. 【課題】 色シェーディングを低減する上で有用な技術を提供する。【解決手段】 所定の方向における第1間隙の幅は、所定の方向における第2間隙の幅よりも大きく、第1のカラーフィルタおよび第2のカラーフィルタのそれぞれは、基体の側の面である下面と下面とは反対側の面である上面とを有し、表面に沿った平面を基準面として、基準面から第1のカラーフィルタの上面までの距離と基準面から...

    カラーフィルタアレイの形成方法および電子デバイスの製造方法

  17. 【課題】枠体を用いて機能素子を封止する電子デバイスの製造方法を簡略化する。【解決手段】電子デバイスの製造方法は、複数の機能素子(弾性波素子12)が設けられた支持基板10上に、複数の機能素子をそれぞれ囲み第1空隙29を介し互いに離れる複数の枠体20を形成する工程と、複数の機能素子が第2空隙28に封止されるように、複数の枠体上にリッド26を接合する工程と、リッドを接合する...

    電子デバイスおよびその製造方法

  18. 【課題】十分な保持容量と、高い遮光性とを備え、コンパクトな構成の電気光学装置を提供すること。【解決手段】液晶装置100の素子基板10は、データ線と走査線3との交差に対応して設けられたトランジスターと、画素の4辺に沿って形成されたトレンチ4と、トレンチ4の側面に沿って設けられる第1の容量電極81b,81dと、トランジスターの半導体層28が、第1の容量電極81b,81dと...

    電気光学装置、および電子機器

  19. 【課題】研磨の際の剥離層の剥離を抑制することができる配線基板の製造方法及び積層構造を提供する。【解決手段】配線基板の製造方法は、支持体と、前記支持体上の剥離層と、を備えた支持基板を準備する工程と、前記剥離層上に絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層にビアホールを形成する工程と、前記ビアホール内及び前記絶縁層上に第1の導電層を形成する工程と、前記第1の導電層を研磨する工程と...

    配線基板の製造方法及び積層構造

  20. 【課題】酸化物半導体膜を有するトランジスタにおいて、電界効果移動度を向上させると共に信頼性を向上させる。【解決手段】トランジスタを有する半導体装置であって、トランジスタは、酸化物半導体膜を有し、トランジスタは、トランジスタのゲート電圧が0Vより大きく10V以下の範囲での電界効果移動度の最大値が、40cm2/Vs以上150cm2/Vs未満である領域と、しきい値電圧が、−...

    トランジスタ

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