高調波発生素子 に関する公開一覧

高調波発生素子」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「高調波発生素子」の詳細情報や、「高調波発生素子」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「高調波発生素子」の意味・用法はこちら

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  1. 【課題・解決手段】測定用デバイス(10)は、テラヘルツ波発生素子(31)と、測定対象注入流路(32)と、メタマテリアル(35)とを備える。テラヘルツ波発生素子(31)は、テラヘルツ波を発生する。測定対象注入流路(32)には、テラヘルツ波が照射される。メタマテリアル(35)は、テラヘルツ波を共振させる分割リング共振器(36)を1つ又は複数有している。分割リング共振器(3...

    測定用デバイス、及びそれを用いた測定装置

  2. 【課題】電圧印加法によって周期分極反転構造を形成した強誘電性結晶基板を支持基板上に接着した波長変換素子において、波長変換効率を向上させることである。【解決手段】波長変換素子14は、支持基板9、強誘電性結晶のZカット基板またはオフカットZカット基板からなり、第一の主面および第二の主面を備える強誘電性結晶基板1A、基板1Aに設けられた周期分極反転構造7A、基板1Aに設けら...

    波長変換素子の製造方法

  3. 【解決手段】基板Pにパターンを描画する露光装置EXは、ポリゴンミラーPMによりスポットSPを主走査してパターンを描画する走査ユニットUnの複数を、スポットSPの走査範囲が主走査方向につながるように配置した露光ヘッド14と、発振周波数Faでパルス発振するとともに、パターンを規定する画素単位が複数のスポットSPで描画されるように、ビームLBを複数の走査ユニットUnに供給す...

    パターン描画装置、およびパターン描画方法

  4. 【課題】電子デバイスや配線等のパターンを形成するための長尺シート基板に所定の処理を連続して施す基板処理装置及びテスト用シート基板を提供する。【解決手段】可撓性を有する長尺の第1シート基板を長尺方向に送りつつ、第1シート基板に所定の処理を施す基板処理装置は、第1シート基板に所定の処理を施す処理部を通るように、第1シート基板を長尺方向に搬送する基板搬送部と、基板搬送部によ...

    基板処理装置およびテスト用シート基板

  5. 【課題】パルス光源部からのビームのスポット光を相対的に走査して、被照射体上にパターンを描画する描画装置において、高精度に倍率補正できる方法を提供する。【解決手段】スポット光SPの走査中に1画素当りN個のクロックパルスを生成し、クロックパルスに応答してビームを発生するようにパルス光源部を制御するとともに、順次送出される描画データの画素毎の論理情報に基づいてスポット光の強...

    パターン描画装置、パターン描画方法、基板処理装置、および、デバイス製造方法

  6. 【解決手段】パターンに応じて強度変化するビームを基板上に投射して主走査方向に走査するとともに、前記基板と前記ビームとを副走査方向に相対移動させるパターン描画方法であって、前記ビームの前記主走査の速度をVs、前記画素の前記主走査方向の寸法をPyとしたとき、Vs/Pyで決まる周波数に対してN倍高い周波数のクロック信号を用意し、前記ビームの主走査の際、非補正画素については前...

    パターン描画方法およびパターン描画装置

  7. 【課題】光導波路基板を別体の光伝送素子に対して光学結合するのに際して、光伝送素子の光伝送部における光のニアフィールド径を大きくし、光導波路基板の素子長を短する光導波路素子および光学デバイスを提供する。【解決手段】光導波路基板1は、支持基板15、支持基板15上に設けられたクラッド14、およびクラッド14上に設けられ、光を伝搬させるためのコア2であって、光が入射する入射部...

    光導波路素子および光学デバイス

  8. 【課題・解決手段】ビーム(LB)のスポット光(SP)を対象物(FS)の被照射面に投射しつつ、スポット光(SP)を被照射面上で走査線(SLn)に沿って1次元に走査するビーム走査装置(MD)であって、ビーム(LB)を入射する入射光学部材(M10)と、入射光学部材(M10)からのビーム(LB)を走査のために偏向する走査用偏向部材(PM)と、偏向されたビーム(LB)を入射して...

    ビーム走査装置、ビーム走査方法、および描画装置

  9. 【課題・解決手段】基板(P)を長手方向に沿って搬送して、基板(P)上に電子デバイス用のパターンを露光する露光装置(EX)であって、基板(P)上に形成された複数のマークのマーク位置情報を検出するアライメント顕微鏡(ALG)と、基板(P)上の露光領域にパターンを露光するために、パターンの設計情報に対応したエネルギー線をマーク位置情報に基づいて位置調整して投射する第1のパタ...

    露光装置、露光システム、基板処理方法、および、デバイス製造装置

  10. 【課題】非破壊で被検物の内部検査をすることができる光学検査装置を提供する。【解決手段】実施形態の光学検査装置1は、被検物60の第1の表面領域A11と第1の表面領域A11に隣接している第1の内部領域A12とを含む第1の領域A1を透過し、かつ、第1の内部領域A12内に配置されている吸収体50により吸収される第1の波長λ1の励起光R1を、第1の表面領域A11に照射する励起光...

    光学検査装置、半導体素子及び光学検査方法

  11. 【課題・解決手段】描画ユニット(Un)は、角度可変のポリゴンミラー(PM)の反射面(RP)で偏向された加工用のビーム(LBn)を入射して、基板Pに加工用のビーム(LBn)をスポット光(SP)として集光する屈折力を持つfθレンズ系(FT)を備え、ポリゴンミラー(PM)の反射面(RP)の角度変化に応じた走査速度でスポット光(SP)を走査する。描画ユニット(Un)は、ポリゴ...

    ビーム走査装置およびパターン描画装置

  12. 【解決手段】パターン形成装置は、回転ドラムの外周面で支持された基板の部分領域に、電子デバイス用のパターンを形成するための設計情報に基づいてエネルギービームを投射する処理ユニットと、電子デバイス用のパターンを基板の長尺方向に複数のブロックに分割したとき、予め想定される部分領域の複数の変形形態に応じて、ブロック内に露光されるパターンを変形させるための複数の補正データを記憶...

    パターン形成装置

  13. 【課題】長尺基材の伸縮が変動しても下地パターンとの重ね合せ精度やトータルピッチ精度を劣化させない倍率補正機能を備えるパターン描画装置を提供する。【解決手段】パターン描画装置EXは、描画ビームLBnのスポットが主走査方向の走査開始位置になったことを表す検知信号を繰り返し走査の度に出力する原点センサと、スポットが主走査方向に走査される間に描画すべきパターンに対応した描画デ...

    パターン描画装置

  14. 【課題】導光部材及び光吸収体からなる光音響波発生部の不良を検出可能とした光音響計測装置を提供する。【解決手段】パルスレーザ光を出射する主光源(35)、主光源(35)から出射されるパルスレーザ光の波長と異なる波長の光を出射する副光源(45)、主光源(35)及び副光源(45)と切り換え可能に接続される、基端から入射された、主光源(35)及び副光源(45)から出射される光を...

    光音響計測装置

  15. 【解決手段】パターン描画装置は、スポット光の元となる周波数Fbでパルス状に発生する種光のピーク強度を描画データに応答して変調し、変調された種光を増幅して高調波の周波数Fbのパルス状の第1ビームを生成する第1の光源装置と、スポット光の元となる周波数Fbでパルス状に発生する種光のピーク強度を描画データに応答して変調し、変調された種光を増幅して高調波の周波数Fbのパルス状の...

    パターン描画装置

  16. 【課題】強誘電性結晶基板に周期分極反転構造を形成するのに際して、基板表面に斑点状に分布する反転不良部分を抑制する。【解決手段】積層体は、強誘電性結晶基板1、および基板1の表面1aに形成されている絶縁膜2Aを備えている。絶縁膜2Aにホウ素が含有されている。これによって、基板に周期分極反転構造7を形成したときに、斑点状の分極反転不良部分を抑制できる。

    積層体および光学素子の製造方法

  17. 【課題・解決手段】反射面の角度が変わるポリゴンミラー(PM)によって偏向されたビーム(LBn)を基板(P)に投射する走査ユニット(Un)は、ポリゴンミラー(PM)で最初に反射された第1の反射ビーム(LBn)を反射してポリゴンミラー(PM)に向かう第2の反射ビーム(LBn)を生成するとともに、ポリゴンミラー(PM)の偏向方向と交差した非偏向方向に関して第2の反射ビーム(...

    ビーム走査装置およびパターン描画装置

  18. 【課題・解決手段】光源装置(LS)からのビーム(LBn)をパターン情報に応じて強度変調させつつ、ビーム(LBn)を基板(P)上に投射して主走査方向に走査することで、基板(P)上にパターンを描画する露光装置(EX)は、ビーム(LBn)の走査のために、ビーム(LBn)を偏向するポリゴンミラー(PM)を含むビーム走査部と、ビーム(LBn)が基板(P)に投射されたときに発生す...

    パターン描画装置、パターン描画方法、および、デバイス製造方法

  19. 【課題・解決手段】ビーム(LBn)を基板(P)上で1次元に走査するビーム走査装置である走査ユニット(Un)は、一方向にパワーを有する第1シリンドリカルレンズ(CY1)と、第1シリンドリカルレンズ(CY1)を透過したビーム(LBn)を1次元の走査のために偏向するポリゴンミラー(PM)と、テレセントリックな状態で偏向されたビーム(LBn)を基板(P)に投射するfθレンズ系...

    ビーム走査装置および描画装置

  20. 【課題・解決手段】パターン描画装置(EX)は、複数の描画ユニット(Un)によって描画すべき基板(P)上の被露光領域の位置を計測する位置計測部(MU)と、描画ユニット(Un)の各々で描画されるパターンの被露光領域に対する位置誤差を低減する為に、位置計測部(MU)で計測された位置に基づいて描画ユニット(Un)の各々によるスポット光(SP)の位置を基板(P)の移動中に第2方...

    パターン描画装置、およびパターン描画方法

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