近似 に関する公開一覧

近似」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「近似」の詳細情報や、「近似」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「近似」の意味・用法はこちら

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  1. 技術 遊技機

    【課題】設定に関する効率の良い制御処理を実行することができる技術を提供する。【解決手段】設定変更中又は設定参照中であることを確認した場合(S643;Yes)、主制御CPUは、ステップS648を実行する。一方、設定変更中又は設定参照中であることを確認できない場合(S643;No)、主制御CPUは、ステップS644を実行する。このような処理を実行することにより、設定変更中...

    遊技機

  2. 技術 遊技機

    【課題】設定に関する効率の良い制御処理を実行することができる技術を提供する。【解決手段】払出制御装置92は、コマンド送信前に、主制御装置70側の「主コマンド許可信号」を確認する。主制御装置70側の「主コマンド許可信号」とは、主制御装置70のコマンド受信可能状態を示す信号である。設定変更中又は設定参照中は、主制御装置70側で「主コマンド許可信号」をオフ状態に設定し、払出...

    遊技機

  3. 【課題】非接触軸受を採用した主軸装置において、接触センサを主軸に装着してワークの測定を行う場合でも、測定精度を向上させることが可能な主軸装置を提供する。【解決手段】この主軸装置100は、主軸10と、非接触で主軸10を中心軸線回りに回転可能に支持する非接触軸受20と、主軸10を回転駆動する駆動部30と、主軸10の一端部に設けられ、工具1またはワーク3の測定を行う接触セン...

    主軸装置および工作機械

  4. 技術 遊技機

    【課題】設定に関する効率の良い制御処理を実行することができる技術を提供する。【解決手段】ベースを表示する性能表示モニタに設定値を表示するため、性能表示モニタを有効的に活用して設定値を表示することができるだけでなく、性能表示モニタの制御処理(例えば、ダイナミックポート出力処理の一部等)を利用して設定値を表示することができ、設定に関する効率の良い制御処理を実行することがで...

    遊技機

  5. 技術 遊技機

    【課題】設定に関する効率の良い制御処理を実行することができる技術を提供する。【解決手段】主制御装置70は、払出制御装置92によって送信される払出起動コマンドを受信すると(F02)、払出制御装置92に起動確認コマンドを返す(F03)。払出制御装置92は、起動確認コマンドを受信すると、一定時間経過後(G01)に遊技球の払い出しを実行するため、その前に、主制御装置70は、払...

    遊技機

  6. 技術 遊技機

    【課題】電源投入時の制御処理を効率よく安全に実行することができる技術を提供する。【解決手段】電源が投入されると、主制御装置70は、RAMクリアスイッチ304及び設定キースイッチ302からの入力信号に基づいて起動方法を分岐させる。RAMクリア信号がONかつ設定キー信号がONであれば、RAMを初期化した上で設定変更状態に移行する。RAMクリア信号がONかつ設定キー信号がO...

    遊技機

  7. 【課題】誤差の最小化を図る演算手法における初期値が不明な場合であっても、誤差の最小化を図る演算手法によって電波の発信源の位置を精度よく検出することができる位置検出装置を提供すること。【解決手段】位置検出装置は、誤差の最小化を図る演算手法によって電波の発信源の位置を検出する位置検出装置であって、1つ以上の飛行体が受信した電波のドップラーシフトに応じて電波の発信源の位置の...

    位置検出装置、及び位置検出システム

  8. 【課題】1次光及び−1次光のうち一方の光を、他方の光に対して減光する。【解決手段】この方法は、進行波AR,AL,AU,ADのそれぞれに関する複数の複素振幅分布を用意する第1ステップS1と、各進行波に関する複素振幅分布を修正する第2ステップS2と、各進行波に関する修正後の複素振幅分布を重ね合わせて総合的な複素振幅分布を求める第3ステップS3と、総合的な複素振幅分布から位...

    位相変調層設計方法

  9. 技術 発光装置

    【課題】1次光及び−1次光のうち一方の光を、他方の光に対して減光する。【解決手段】半導体発光素子1Aは、活性層12、及び活性層12と光学的に結合された位相変調層15を備える。位相変調層15は複数の異屈折率領域15bとを含む。位相変調層15の厚さ方向に垂直な面内において仮想的な正方格子を設定した場合に、複数の異屈折率領域15bの重心は、正方格子の格子点Oを通り正方格子に...

    発光装置

  10. 技術 発光装置

    【課題】S−iPMレーザから出力される0次光の光量を低減する。【解決手段】半導体発光素子1Aは、活性層12及び位相変調層15Aを備える。位相変調層15Aは、基本層15aと、基本層15aとは屈折率が異なる複数の異屈折率領域15bと、基本層15aとは屈折率が異なる複数の異屈折率領域15cとを含む。位相変調層15Aの厚さ方向に垂直な面内において仮想的な正方格子を設定した場合...

    発光装置

  11. 【課題】 目標符号量への符号量制御を行いながらも、画質劣化の抑制した符号化データを生成する。【解決手段】 動画像を符号化する画像符号化装置であって、入力した動画像のフレームを、それぞれが単一の成分で構成される複数のプレーンに分離する分離部と、分離して得た複数のプレーンにおける着目プレーンをウェーブレット変換するウェーブレット変換部と、該ウェーブレット変換部で得られ...

    画像符号化装置及びその制御方法、並びにプログラム

  12. 【課題】2つのモーターにより異なるトルクで同一の駆動軸を駆動する場合に、定常時のモーターの消費電流を抑制できる、搬送駆動装置を提供する。【解決手段】ローラーの駆動軸に動力を伝達する第1モーターと、第1モーターよりも小さいトルクで第1モーターとともに駆動軸に動力を伝達する第2モーターと、ローラーが一定の設定速度で回転する定常時における、第1モーターおよび第2モーターの駆...

    搬送駆動装置、搬送駆動装置の制御方法および制御プログラム、モーターの駆動電流設定用テーブルの作成方法および作成プログラム、画像形成装置、ならびに画像形成装置の制御方法および制御プログラム

  13. 【課題】モデルに関する前提条件を置かずに判別することを課題とする。【解決手段】判別装置は、時系列で発生した複数の事象間の隣接発生間隔それぞれを複数の成分として有する間隔ベクトルを生成する。判別装置は、時系列において所定数の連続した間隔ベクトルから、特定の成分を1組の座標とする局所変動点を生成する。判別装置は、始点となる間隔ベクトルが異なる複数の局所変動点に対しパーシス...

    判別プログラム、判別方法および判別装置

  14. 【課題】通過帯域の変更の前後で中心周波数が変化した場合でも、受信性能の劣化を抑制する。【解決手段】IFフィルタ104は、ミキサ103から出力される中間周波数信号を帯域制限する。AFC部114は、中間周波数信号の周波数が所定周波数になるようにPLL102の発振周波数を制御する。帯域制御部105は、AFC部114がPLL102の発振周波数の制御を行っている場合はIFフィル...

    無線受信機、及び中間周波数信号生成方法

  15. 【課題】本発明が解決しようとする課題は、従来技術に比べて、アスコクロリン、アスコフラノン、イリシコリンA及びそれらの誘導体といったイソプレノイドを高収量で安定生産することができることから、工業的規模でのイソプレノイドの製造を可能にする、イソプレノイドの製造方法を提供することにある。【解決手段】上記課題は、アスコクロリン生合成遺伝子及び/又はアスコフラノン生合成遺伝子を...

    イソプレノイドの製造方法並びにそのためのタンパク質、遺伝子及び形質転換体

  16. 【課題】NOX吸蔵触媒よりも下流側の排気通路に備えられたNOX選択還元触媒の欠落や劣化等の異常の検出精度を向上可能な診断装置及び内燃機関の排気浄化装置を提供する。【解決手段】内燃機関の排気通路に上流側から順にNOX吸蔵触媒とNOX選択還元触媒とを備えた排気浄化装置におけるNOX選択還元触媒の異常を診断する診断装置は、NOX選択還元触媒よりも下流側の排気通路内のアンモニ...

    診断装置及び内燃機関の排気浄化装置

  17. 【課題】半導体装置の性能を向上させる。【解決手段】アクティブセル領域ACには、Y方向に延在し、且つ、ゲート電位が印加されるゲート電極G1と、エミッタ電位が印加されるエミッタ領域NEおよびベース領域PBとが形成されている。エミッタ領域NEは、ベース領域PBによってY方向で互いに分離されるように、複数形成されている。インアクティブセル領域IAC内には、エミッタ電位が印加さ...

    半導体装置およびその製造方法

  18. 【課題】fθ特性を有する走査レンズを用いない場合であっても、潜像ドットの太りを抑制することのできる画像形成装置を提供する。【解決手段】画像形成装置1は、感光体4と、露光装置400と、画像データに基づいて露光装置を制御する制御手段100、200と、を有し、制御手段は、画像データに基づいて露光装置のレーザ光の照射、非照射を切り替える画像信号のパルス幅が、感光体の表層の厚さ...

    画像形成装置

  19. 【課題】フッ化ビニリデン系ポリマー組成物の成形体であって50μmを超える厚みを有する成形体であっても低いヘイズの成形体およびその新たな製造方法を提供する。【解決手段】本発明のフッ化ビニリデン系ポリマーの成形体は、50μm超の厚みと40%以下のヘイズとを有する。成形体の製造では、所定の形状を有するフッ化ビニリデン系ポリマーの組成物を当該ポリマーの融点の±5℃の温度で溶融...

    成形体およびその製造方法

  20. 【課題】断面厚さが均一で且つ梁の接合面である外周の平板部分(コーナー部の曲率部分を除く平坦な部分)が周方向に大きい外ダイヤフラムの製造方法を提供する。【解決手段】角形リング状に成形され、角形鋼管柱10に対する梁20の接合位置に外嵌される外ダイヤフラム30の製造方法であって、板厚Tが40mm以上の極厚鋼板を冷間プレス成形によって、各コーナー部の内面曲率半径が均一となる冷...

    外ダイヤフラムの製造方法

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