描画倍率 に関する公開一覧

描画倍率」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「描画倍率」の詳細情報や、「描画倍率」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「描画倍率」の意味・用法はこちら

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  1. 【課題】複数装置にわたるロール・ツー・ロール製造システムで1つの装置に動作中断が発生しても全体が正常に稼働し続けるようにする。【解決手段】シート基板を搬送しつつ、複数の処理装置によって連続的にシート基板に処理を施すデバイス製造システム10は、処理装置PR2と処理装置PR3との間に設けられ、シート基板を蓄積可能な第1の蓄積装置BF1と、処理装置PR3と処理装置PR4との...

    製造システム

  2. 【課題】 小型であり、高い光学性能を有するズームレンズを提供することである。【解決手段】 ズームレンズは、最も物体側に配置された負の屈折力の第1レンズ群L1と、最も像側に配置された最終レンズ群Lkと、第1レンズ群L1と最終レンズ群Lkの間に配置されたレンズ群からなる正の屈折力の中間群Lpと、を有する。隣り合うレンズ群の間隔はズーミングに際して変化する。広角端から望...

    ズームレンズおよびそれを有する撮像装置

  3. 【課題・解決手段】長尺の可撓性のシート基板(P)を長尺方向に搬送しつつ、複数の処理装置(PR)によって連続的にシート基板に処理を施す製造システム(10)であって、複数の処理装置(PR)のうちの第1処理装置(PR2)と隣接する第2処理装置(PR3)との間に設けられた蓄積部(BF1)と、第1処理装置(PR2)において、シート基板(P)に対する処理、またはシート基板(P)の...

    製造システム

  4. 【課題】 複合現実感提示システムを構成するデバイス及び情報処理装置間の通信帯域が圧迫されるのを抑制する。【解決手段】ユーザが持つHMDは、位置姿勢を検出するセンサと、検出した位置姿勢を表す位置姿勢情報の情報処理装置への送信、並びに、情報処理装置からのCGコマンドの受信を行う通信インターフェイスと、受信したCGコマンドに基づき、CGを描画する描画部と、描画したCGを、...

    複合現実感提示システム及び情報処理装置及びそれらの制御方法

  5. 【解決手段】基板Pにパターンを描画する露光装置EXは、ポリゴンミラーPMによりスポットSPを主走査してパターンを描画する走査ユニットUnの複数を、スポットSPの走査範囲が主走査方向につながるように配置した露光ヘッド14と、発振周波数Faでパルス発振するとともに、パターンを規定する画素単位が複数のスポットSPで描画されるように、ビームLBを複数の走査ユニットUnに供給す...

    パターン描画装置、およびパターン描画方法

  6. 【課題】電子デバイスや配線等のパターンを形成するための長尺シート基板に所定の処理を連続して施す基板処理装置及びテスト用シート基板を提供する。【解決手段】可撓性を有する長尺の第1シート基板を長尺方向に送りつつ、第1シート基板に所定の処理を施す基板処理装置は、第1シート基板に所定の処理を施す処理部を通るように、第1シート基板を長尺方向に搬送する基板搬送部と、基板搬送部によ...

    基板処理装置およびテスト用シート基板

  7. 【課題】パルス光源部からのビームのスポット光を相対的に走査して、被照射体上にパターンを描画する描画装置において、高精度に倍率補正できる方法を提供する。【解決手段】スポット光SPの走査中に1画素当りN個のクロックパルスを生成し、クロックパルスに応答してビームを発生するようにパルス光源部を制御するとともに、順次送出される描画データの画素毎の論理情報に基づいてスポット光の強...

    パターン描画装置、パターン描画方法、基板処理装置、および、デバイス製造方法

  8. 【解決手段】パターンに応じて強度変化するビームを基板上に投射して主走査方向に走査するとともに、前記基板と前記ビームとを副走査方向に相対移動させるパターン描画方法であって、前記ビームの前記主走査の速度をVs、前記画素の前記主走査方向の寸法をPyとしたとき、Vs/Pyで決まる周波数に対してN倍高い周波数のクロック信号を用意し、前記ビームの主走査の際、非補正画素については前...

    パターン描画方法およびパターン描画装置

  9. 【課題】変調(偏向)可能な周波数等に依存しないビーム走査速度(回転多面鏡の回転速度)を有するマルチビーム露光装置を提供する。【解決手段】被照射体にパターンを露光するための露光用のビームLBを射出する光源装置12Aは、露光用のビームLBの元となる種光を発生する光源部と、種光を入射して増幅するファイバー光増幅器216と、増幅された種光から露光用のビームLBを生成する波長変...

    光源装置および露光装置

  10. 【課題】 視認性に優れた監視盤を、必要なときに必要な場所でみることができるよう、携帯型端末のディスプレイパネルに表示する監視盤表示装置及び方法を提供することを課題とする。【解決手段】 監視盤上の選択されたエリアを表示するエリア表示モード、設定された複数個の表示エリアが監視盤上でどの位置に存在するかを表示するエリア位置イメージ表示モード、設定された複数個の表示エリア...

    監視盤表示装置並びに監視盤表示方法

  11. 【課題・解決手段】ビーム(LB)のスポット光(SP)を対象物(FS)の被照射面に投射しつつ、スポット光(SP)を被照射面上で走査線(SLn)に沿って1次元に走査するビーム走査装置(MD)であって、ビーム(LB)を入射する入射光学部材(M10)と、入射光学部材(M10)からのビーム(LB)を走査のために偏向する走査用偏向部材(PM)と、偏向されたビーム(LB)を入射して...

    ビーム走査装置、ビーム走査方法、および描画装置

  12. 【課題・解決手段】基板(P)を長手方向に沿って搬送して、基板(P)上に電子デバイス用のパターンを露光する露光装置(EX)であって、基板(P)上に形成された複数のマークのマーク位置情報を検出するアライメント顕微鏡(ALG)と、基板(P)上の露光領域にパターンを露光するために、パターンの設計情報に対応したエネルギー線をマーク位置情報に基づいて位置調整して投射する第1のパタ...

    露光装置、露光システム、基板処理方法、および、デバイス製造装置

  13. 【解決手段】パターン形成装置は、回転ドラムの外周面で支持された基板の部分領域に、電子デバイス用のパターンを形成するための設計情報に基づいてエネルギービームを投射する処理ユニットと、電子デバイス用のパターンを基板の長尺方向に複数のブロックに分割したとき、予め想定される部分領域の複数の変形形態に応じて、ブロック内に露光されるパターンを変形させるための複数の補正データを記憶...

    パターン形成装置

  14. 【課題】走査線の配置精度や光学性能を安定に維持でき、高精細なパターンを描画できるパターン描画装置を提供する。【解決手段】基板上で集光されたスポット光SPa,SPbを描画ラインSLa,SLbに沿って主走査するとともに、基板を副走査することによって、基板上に所定のパターンを描画するパターン描画装置は、ポリゴンミラーPMで反射された第1のビームLBaを集光してスポット光SP...

    パターン描画装置

  15. 【課題】 広画角で、しかも迅速なフォーカシングが容易で、物体距離全般にわたり高い光学性能が容易に得られるズームレンズを得ること。【解決手段】 物体側から像側へ順に配置された、負の屈折力の第1レンズ群と、1つ以上のレンズ群を含む後群、とを有し、ズーミング及びフォーカシングに際して隣り合うレンズ群との間隔が変化するズームレンズにおいて、後群は、フォーカシングに際して移...

    ズームレンズ及びそれを有する撮像装置

  16. 【課題】複数の描画ユニットを使って、基板の幅方向にパターンを継ぎ合わせて露光(描画)した場合でも、パターン同士の継ぎ誤差を低減し、基板に大きな面積のパターンを高精度に安定して描画する基板処理装置の調整方法、及び基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置の調整方法は、複数の描画ユニットの各々によって形成される描画ライン上に、基準マークがもたらされるように、支持部材...

    基板処理装置の調整方法、及び基板処理装置

  17. 【課題】1つの描画ユニットが描画ラインに沿ってパターンを描画する際の描画精度(露光量の均一性等)や忠実度を高める基板処理方法を提供する。【解決手段】基板処理方法は、パルス光源装置から周波数Fzでパルス発振される紫外波長域のビームを、シート基板の表面でスポット光に集光させると共に、ビームを光走査器によって振ることによって、スポット光を長尺の方向と交差した幅方向に延びる長...

    基板処理方法

  18. 【解決手段】可撓性を有する長尺のシート基板Pを長尺方向に送る搬送部12と、シート基板Pに電子デバイスのパターンを形成する為の所定の処理を施す処理部14とを備えた基板処理装置10の性能をテストする基板処理装置10の性能確認方法は、搬送部12と処理部14とにシート基板Pが通された状態で、搬送部12による搬送方向に関して所定の長さを有する可撓性のテスト用シート基板TFを処理...

    基板処理装置の性能確認方法

  19. 【課題】オブジェクトの描画が表示に間に合わなくなる可能性を低減することを目的とする。【解決手段】メモリを有する画像処理装置であって、表示部に表示されるオブジェクトの表示情報を取得する第1の取得手段と、オブジェクトの描画時間を取得する第2の取得手段と、メモリの空き容量を抽出する抽出手段と、オブジェクトの表示情報とオブジェクトの描画時間と空き容量とに基づいて、メモリのオブ...

    画像処理装置、情報処理方法及びプログラム

  20. 【課題】高精度な倍率補正にきめ細かく対応できるパターン描画装置の提供。【解決手段】基板上でスポット光を主走査方向に走査する複数の描画ユニットの各々によって基板上にパターンを描画するパターン描画装置は、スポット光となるビームLB1〜6を射出する光源装置と、複数の描画ユニットの各々に対応して設けられ光源装置からのビームLBを順番に透過するように配置すると共に駆動信号の印加...

    パターン描画装置

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