感光 に関する公開一覧

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「感光」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「感光」の詳細情報や、「感光」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「感光」の意味・用法はこちら

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出願人・発明者

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  1. 技術 ＡＭＰＡ受容体に関連する疾患の予防及び／又は治療剤

    【課題】ＡＭＰＡ受容体に関連する疾患の予防及び／又は治療剤の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、その医薬として許容し得る塩若しくは溶媒和物を含有する、ＡＭＰＡ受容体に関連する疾患の予防及び／又は治療剤。（Ａ及びＺは夫々独立にＣＯ、ＳＯ又はＳＯ２；Ｘ及びＹは夫々独立にＳ又はＯ）。

    ＡＭＰＡ受容体に関連する疾患の予防及び／又は治療剤

  2. 技術 発光型治療具

    【課題】光免疫療法を比較的手軽に施すことができ、患者の負担を減らすことができる、発光型治療具を提供する。【解決手段】この発光型治療具１０は、光免疫療法に必要とされる特定波長の光を照射するためのもので、先端部２１に光透過性の発光部２５を設けたチューブ２０と、チューブ２０の発光部２５の内側に配置され、特定波長の光を照射する発光体４０を実装したフレキシブル配線基板３０と、チ...

    発光型治療具

  3. 技術 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法

    【課題】要求される微細な位相シフト膜パターンをウェットエッチングにより形成する際に、１２０％以内の少ないオーバーエッチングタイムであっても、位相シフト効果が良好な断面形状を有する位相シフト膜パターンが形成できる位相シフトマスクブランクを提供する。【解決手段】透明基板上に位相シフト膜を有する位相シフトマスクブランクであって、前記位相シフト膜は、遷移金属と、ケイ素と、酸素...

    位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法

  4. 技術 パララックスバリア及びバリア付き表示装置

    【課題】観察される装置の表面と画像を表示する表示面とが異なる面であることを認識させにくくする。【解決手段】パララックスバリア３０は、意匠部３３と、意匠部３３に積層された遮蔽部３５と、意匠部３３及び遮蔽部３５の非形成部である複数の透過部３７と、を備える。意匠部３３は、意匠を形成する。

    パララックスバリア及びバリア付き表示装置

  5. 技術 樹脂組成物、積層体、及び硬化膜

    【課題】低誘電であり、かつ導体の防錆性、及び、密着性に優れ、５Ｇ通信用の電子部品に好適な樹脂組成物及び積層体を提供する。【解決手段】高周波回路基板の絶縁膜用の樹脂組成物であって、以下の成分：（Ａ）樹脂、（Ｂ）多孔性化合物、および（Ｃ）複素環化合物を含むことを特徴とする樹脂組成物。

  6. 技術 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板

    【課題】解像性に優れ、かつ、粗面化処理後にビアホール用開口部に亀裂が発生しにくい、回路導体との密着性および回路間の絶縁信頼性に優れた層間絶縁層を形成するのに有効な感光性の硬化性樹脂組成物等を提供する。【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）熱硬化性化合物と、（Ｄ−１）粗化剤により分解または溶解する平均粒子径が０．５〜６μｍの無機フィラーと、...

  7. 技術 新規セラミドそれを含む皮膚保湿剤およびセラミド組成物の製造方法

    【課題】天然に存在するグルコシルセラミドから、有害な抽出溶媒を用いないで安全かつ簡便な方法にて、ヒトの皮膚に存在するセラミドとより構造の類似した新規セラミドを得る、製造方法及び該セラミドの提供。【解決手段】式（Ｉ）で示されるセラミド。（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々独立にＨ、メチル基、エチル基またはアセチル基；波線は、隣接する二重結合がＥまたはＺの配置であることを表...

    新規セラミドそれを含む皮膚保湿剤およびセラミド組成物の製造方法

  8. 技術 配線基板、積層型配線基板、半導体装置

    【課題】配線密度が高い配線層を有し、かつ剛性が高く反りが小さい配線基板を提供する。【解決手段】本配線基板は、第１配線層と、前記第１配線層を被覆する第１絶縁層と、前記第１絶縁層の一方の面に形成された、前記第１配線層よりも配線密度が高くかつ前記第１配線層よりも薄い第２配線層と、前記第１絶縁層の一方の面に形成された、前記第２配線層を被覆する第２絶縁層と、を有し、前記第１絶縁...

    配線基板、積層型配線基板、半導体装置

  9. 技術 薄膜トランジスタ基板及びその製造方法、並びに、液晶表示装置

    【課題】酸化物半導体を使用した薄膜トランジスタにおいて、閾値電圧の異なるＴＦＴを同一基板に再現性よく形成することが可能な技術を提供することを目的とする。【解決手段】ＴＦＴ基板２００は、一の基板１上に配設された画素ＴＦＴ２０１及び駆動回路用ＴＦＴ２１１を備える。画素ＴＦＴ２０１は、半導体層１２の表面に配設され、互いに離間されたソース電極７及びドレイン電極８を備える。駆動...

    薄膜トランジスタ基板及びその製造方法、並びに、液晶表示装置

  10. 技術 変性シリコーンおよび変性シリコーンの製造方法

    【課題】本発明は、各種油性成分、特にシリコーン油、エステル油、炭化水素油等を、低添加量で増粘・ゲル化することができる増粘・ゲル化剤として利用可能な変性シリコーンを提供することを課題とする。【解決手段】上記課題を解決するために、水酸基又はアミノ基を有する特定のシリコーン誘導体原料とモノイソシアネート化合物原料を反応させて得られた変性シリコーンを提供する。

  11. 技術 画像形成装置

    【課題】白トナーの画像を他の画像に重ねて階調補正をする際に、他の画像の色ムラによる階調補正への影響を少なくすること。【解決手段】第１画像形成部１０１は、白以外の色のトナーによるパッチ画像（第１パッチ画像）を記録媒体に形成する。第１階調値取得部１０２は、第１パッチ画像が形成された記録媒体を光学的に読み取り、その第１パッチ画像の階調値を取得する。第２画像形成部１０３は、記...

    画像形成装置

  12. 技術 感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版

    【課題】高温高湿度環境下で長期保存しても感光性樹脂層とバリヤ層との間で界面剥離がなく、得られる微細な文字レリーフがＣＴＰマスク層開口サイズと同一となる画像再現性を有する高品質な感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版を提供する。【解決手段】少なくとも支持体、感光性樹脂層、バリヤ層、及び感熱マスク層が順次積層されてなる感光性凸版印刷原版であって、バリヤ層が、分子内に塩基性窒素原子を...

  13. 技術 時計部品の製造方法

    【課題】切断部から本体部にヒビが入ることを低減することができる時計部品の製造方法を提供する。【解決手段】時計部品の製造方法は脆性材料のシリコンウエハー４７をエッチングして、時計部品としてのがんぎ歯車部２３と、がんぎ歯車部２３を支持する第１タイバー４６及び第２タイバー４５と、を形成する工程と、第１タイバー４６とがんぎ歯車部２３とを第１切断部４３で切断する工程と、第１切断...

    時計部品の製造方法

  14. 技術 基板処理方法および基板処理装置

    【課題】簡単な構成で基板の外周端部および下面周縁部に金属成分が残留することを防止することが可能な基板処理方法および基板処理装置を提供する。【解決手段】基板Ｗの外周端部および下面周縁部に保護塗布膜が形成される。保護塗布膜の形成後、基板Ｗの上面に金属含有塗布液が供給され、金属含有塗布膜が形成される。金属含有塗布膜の形成後、保護塗布膜が除去される。保護塗布膜の形成時には、基...

    基板処理方法および基板処理装置

  15. 技術 回路付サスペンション基板および回路付サスペンション基板の製造方法

    【課題】端子を露出させるとともに配線を被覆する配線被覆部分と、スライダの台座となる台座部分との相対的な位置精度の向上を図ることができる回路付サスペンション基板および回路付サスペンション基板の製造方法を提供すること。【解決手段】スライダ７が実装される回路付サスペンション基板１に、ベース絶縁層３と、ベース絶縁層３の一方側に配置され、スライダ接続端子４０およびスライダ配線４...

    回路付サスペンション基板および回路付サスペンション基板の製造方法

  16. 技術 配線回路基板

    【課題】配線が第２絶縁層から露出することを抑制できる配線回路基板を提供すること。【解決手段】回路付サスペンション基板１に、ベース絶縁層３と、配線４２および素子端子４３とを備える導体パターン４と、導体パターン４を被覆するカバー絶縁層５と、ベース絶縁層３およびカバー絶縁層５を厚み方向に貫通する第１貫通部１０とを備える。ベース絶縁層３に、第１貫通部１０と隣接するベース薄肉部...

    配線回路基板

  17. 技術 感光性着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子

    【課題】高輝度かつ高コントラストであり、しかも耐溶剤性に優れた着色硬化膜を得ることができる感光性着色樹脂組成物を提供すること。【解決手段】（Ａ）式（１）で表される染料を含む着色剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）オキシム系開始剤を含む光重合開始剤、及び（Ｅ）溶剤を含有する感光性着色組成物。（式（１）中、ＲＸ１〜ＲＸ１６は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子又は−ＯＲＰ１を表...

  18. 技術 レジスト材料及びパターン形成方法

    【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつＬＷＲやＣＤＵが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記式（１）で表されるスルホニウム塩を含む酸発生剤を含むレジスト材料。式中Ｒ１、Ｒ２は、単結合、エーテル結合、エステル結合、炭素数１〜２０の２価の脂肪族炭化水素基。Ｌ１は、エステル結合、エーテル結合、ア...

  19. 技術 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及びその製造方法並びに化合物

    【課題】ＬＷＲ性能、解像性及び焦点深度に優れる感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び重合体の製造方法並びに化合物の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、オキソ基を有する多環構造を含む構造単位及び酸解離性基を有する重合体と、感放射線性酸発生体とを含有し、上記多環構造を構成する炭素鎖の少なくとも一部が上記重合体の主鎖の一部を構成する感放射線性樹脂組成...

  20. 技術 新規な補助配位子を含有する有機発光材料

    【課題】発光波長をより効果的に制御する方法、および材料の量子効率を向上させる方法を提供する必要がある。【解決手段】本発明は、金属錯体を提供することにより実現され、一連の新規な構造のアセチルアセトン型補助配位子を用いる、新規な補助配位子を含有する有機発光材料を開示する。新規な補助配位子を含む金属錯体は、有機エレクトロルミネセント素子における発光層の発光材料として用いるこ...

    新規な補助配位子を含有する有機発光材料

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