基板位置 に関する公開一覧

基板位置」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「基板位置」の詳細情報や、「基板位置」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「基板位置」の意味・用法はこちら

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  1. 技術 フィーダ

    【課題】エンボス型キャリアテープの部品収納部から電子部品を好適な状態で供給することが可能なフィーダを提供する。【解決手段】フィーダは、フィーダ本体と、前記エンボス型キャリアテープを部品取出位置に送る送り装置と、前記部品収納部を覆うカバーテープを剥離するテープ剥離装置を備えたテープガイドと、前記エンボス型キャリアテープの前記部品収納部を挿通可能な凹溝を有するテープ搬送路...

    フィーダ

  2. 【課題】新たな計測光学系をインプリント位置近傍に付加する必要がなく、簡便かつ精度よく基板面の傾き情報が得られる方法を提供する。【解決手段】型を用いて基板5上の硬化性組成物を成形するインプリント装置であって、前記型と前記硬化性組成物とを接触させる接触位置において前記基板5の高さ分布を計測する第1の計測手段を有し、前記第1の計測手段は、前記型よりも接触面の面積が小さい接触...

    インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法

  3. 【課題】基板の下面を吸着しながら支持する基板支持装置および当該基板支持装置を装備する基板作業装置において、基板支持に要するコストおよび作業時間を低減させる。【解決手段】切替部材は、鉛直方向に配列される第1貫通孔および第2貫通孔で構成される貫通孔列毎に、第1貫通孔、負圧通路、第2貫通孔および正圧通路を鉛直方向に移動可能に設けられ、第1貫通孔へのバックアップピンの装着によ...

    基板支持装置および基板作業装置

  4. 【課題】高精度な移動体の移動制御を提供する。【解決手段】制御系は、複数のヘッド66a〜66dのうち、計測ビームが第1格子群のスケール152a〜152c及び第2格子群のスケール152d〜152fの少なくとも2つのスケールに照射される少なくとも4つのヘッドを用いて計測される移動体の位置情報に基づいて、第1格子群のスケール及び第2格子群のスケールの少なくとも2つに関する格子...

    露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイ製造方法

  5. 【課題・解決手段】メトロロジターゲットのインスタンスに放射を加え、且つメトロロジターゲットのインスタンスから放射を検出するための第1のメトロロジレシピを用いてパターニングプロセスの少なくとも1つのパラメータの値を決定するために、パターニングプロセスを用いて処理された基板上のメトロロジターゲットの第1の複数のインスタンスを測定することと、メトロロジターゲットのインスタン...

    パターニングプロセスパラメータを決定する方法

  6. 【課題】ガス噴出口やこれにつながる配管内にSiCが析出することを防止し、組成の均一な膜の成膜が可能な成膜装置および成膜方法を提供することにある。【解決手段】第1面と、前記第1面と対向する第2面と、前記第1面と前記第2面とをつなぐ4つの側面からなる直方体状の内形を有する成膜室と、前記第1面またはその近傍にあり、原料ガスおよびキャリアガスを含む混合ガスを前記成膜室に噴出す...

    成膜装置および成膜方法

  7. 【課題】撮像装置による撮像画像から特定する対象物の位置の特定精度を向上し得る導出装置等の提供。【解決手段】導出装置は、基準平面に対して平行な第一面及び第二面を有し前記第一面に第一マークが形成され、前記第二面の前記第一マークの投影位置に第二マークが形成された透光体と、基準平面に対して略垂直な向きを撮像する前記基準平面に焦点を有する撮像装置による前記第一マークの撮像画像で...

    導出装置、補正装置、デバイス搭載装置、導出方法及び導出プログラム

  8. 【課題】高解像度の画像を形成することができる光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法の提供。【解決手段】光吸収材を表面に配した基材における、前記光吸収材が配された側とは反対側の前記基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、前記光渦レーザビームの照射方向にかつ前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を前記光吸収材から生じさせる光渦レーザーを用いた飛翔体...

    光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法、画像形成方法及び装置

  9. 【課題】基板に光学膜を適切に形成する。【解決手段】基板に光学膜を形成する光学膜形成方法であって、基板に光学材料を含む塗布液を塗布して第1の光学膜を形成する第1の工程と、前記第1の光学膜上に、光学材料を含む塗布液を塗布して第2の光学膜を形成する第2の工程と、を有し、前記第1の光学膜及び前記第2の光学膜の形成においては、前記塗布液の塗布時に光学膜中の分子が一方向に配向され...

    光学膜形成方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び光学膜形成装置

  10. 【課題・解決手段】制御基板のコスト削減と、ユニットのサイズを増大させることなく適切な基板形状を実現することによってサイズの小型化を図り、基板上の素子の最適な配置により機械的および電気的信頼性の向上とを達成することができる、減速機付きモータユニットが提供される。ウォームホイール(8)は、主ケーシングユニット(2)のホイール収容室(3)内に配置され、モータ(9)は、ウォー...

    減速機付きモータユニット

  11. 【課題】貼り合せる2つの基板の各ショット領域間での合わせずれの精度を高めることができる貼合装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、基板貼合装置は、第1基板群から選択される基板を保持する第1基板保持部と、第2基板群から選択される基板を保持する第2基板保持部と、前記第1基板保持部および前記第2基板保持部に保持される基板の貼合を制御するコントローラと、を備える。前記コ...

    基板貼合装置および半導体装置の製造方法

  12. 【課題】モジュールの小型化及び作業の単純化を図りつつ光ファイバの余長処理を行うことができる光送受信モジュールを提供する。【解決手段】光送受信モジュール1Aは、光ファイバ2の一端側が収容されたケース10と、ケース10内に収容され、光ファイバ2の一端が固定された基板20と、光ファイバ2の軸方向(図1のa矢印方向)に対してケース10内での基板20の固定位置を可変できる基板位...

    光送受信モジュール

  13. 【課題】真空堆積処理の間に、正確に位置合わせした配向で基板及び任意選択的なマスクを確実に保持するための装置、システム、及び方法の提供。【解決手段】真空堆積処理において基板(10)を保持するための装置(100)は、支持面(112)、基板(10)及びマスク(20)のうちの少なくとも1つに作用する引力を加えるように構成された複数の電極(122)を有する電極アレンジメント(1...

    真空堆積処理において基板を保持するための装置、基板上に層を堆積するためのシステム、及び基板を保持するための方法

  14. 【課題】堆積プロセス中のより大きな更により薄い基板に対してくわえられる応力による基板の隆起を低減させ、かつ損傷や破壊なしに、より大きく、より薄い基板を支持することのできる基板保持構成、基板支持キャリア、基板保持方法、基板開放方法を提供する。【解決手段】基板を保持するための保持構成(100)は、第1のサイド(112)を有する本体部分(110)、本体部分(110)の第1の...

    基板を保持するための保持構成、基板を支持するためのキャリア、真空処理システム、基板を保持するための方法、及び基板を解放するための方法

  15. 【課題】真空スパッタ堆積のための装置、真空堆積装置中での酸水素爆発のリスクを低減するための方法、及び少なくとも1つの層を製造する方法の提供。【解決手段】真空チャンバ110と、材料を基板200にスパッタリングするための真空チャンバ110内の3以上のスパッタカソード223a、223b、223cと、H2を含む処理ガスを真空チャンバ110に供給するためのガス分配システム130...

    真空スパッタ堆積のための装置及びその方法

  16. 【課題】作製が容易であって、透過率の異なる領域に対して高い反射防止性能を有する光学素子を提供する。【解決手段】透過率が第1の方向に変化する領域を有する光学素子001であって、第1の方向と直交する第2の方向に沿って、吸収層3と、複数の薄膜21、22からなる第1の反射防止層2とを有し、吸収層の第2の方向における厚さは、第1の方向に変化し、複数の薄膜のうち少なくとも二つの薄...

    光学素子、光学系、および、光学機器

  17. 【課題・解決手段】本発明は、層で覆われた基板上のセンサターゲットを露出させるための方法に関する。この方法は、生産的ターゲット部分を有する基板上の第1のエリア及び非生産的ターゲット部分を有する基板上の第2のエリアの位置を決定するステップと、第2のエリア内のセンサターゲットを覆っている層のフィーチャ領域を少なくとも部分的に除去して第2のエリア内のセンサターゲットを露出させ...

    露呈方法、露出デバイス、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法

  18. 【課題】好適な輸送経路相関技術および関連するシステム、方法、およびデバイスを提供すること。【解決手段】プリンタは、電子製品のための製造プロセスの一部として、基板上に材料を堆積させる。少なくとも1つの機械的構成要素は、例えば、「理想的な」運搬経路を提供するように、輸送されるものの位置を均一化する変換器を使用して軽減される、機械的誤差を受ける。基板運搬システムおよび/また...

    輸送経路相関技術および関連するシステム、方法、およびデバイス

  19. 【課題】処理システムを通して、正確かつ滑らかに基板キャリア及びマスクキャリアを搬送する、真空チャンバ内で基板キャリアとマスクキャリアを搬送するための方法を提供する。【解決手段】基板10を真空処理するための装置300は、チャンバ壁201を含む真空チャンバと、支持面122を有する基板キャリアと、マスクキャリア140と、位置合わせシステム310とを、含む。位置合わせシステム...

    基板を真空処理するための装置、基板を真空処理するためのシステム、及び、真空チャンバ内で基板キャリアとマスクキャリアを搬送するための方法

  20. 【課題】製造プロセスにおけるマスクレスリソグラフィパターニング中のエッジ配置誤差を低減する。【解決手段】長いジョグに影響される六方最密配置の対称角に実質的に近い角度のラインを有する露光多角形を操作する露光パターン変更ソフトウェアアプリケーションに関する。長いジョグは、高いエッジ配置誤差領域であることを表している。このように、露光パターン変更ソフトウェアアプリケーション...

    ラインのうねりを低減するための方法

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