テトラデカン に関する公開一覧

テトラデカン」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「テトラデカン」の詳細情報や、「テトラデカン」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「テトラデカン」の意味・用法はこちら

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  1. 【課題】保温又は保冷に使用される容器の生産コストを低減する。【解決手段】本発明の蓄熱材シート(1)は、蓄熱材(T)と、温度管理対象物品(X)の外面(X0)の少なくとも一部を被覆する可撓性シート(2)と、を備え、可撓性シート(2)は、蓄熱材(T)を保持する収容ポケット(3)を有し、収容ポケット(3)に保持された蓄熱材(T)は、可撓性シート(2)を介して温度管理対象物品(...

    蓄熱材シート、および定温保管方法

  2. 【課題】大掛かりな設備を必要とせずに酸化金を長期間にわたって残存させることができる酸化金保存方法を提供する。また、厚い酸化金膜を形成することができる酸化金膜製造方法を提供する。【解決手段】実施例に係る酸化金保存方法では、酸化金よりなる酸化金膜F2を、炭素数が12の炭化水素であるドデカンよりなる保存用液体に浸漬した状態で保存する。また、実施例に係る酸化金膜製造方法は、酸...

    酸化金保存方法及び酸化金膜製造方法

  3. 【課題】石炭の自然発火を抑制することのできる石炭の自然発火抑制方法、貯炭設備及び搬送設備を提供すること。【解決手段】堆積される石炭の自然発火を抑制する方法であって、前記石炭に、溶融温度が30℃以上100℃以下の相変化物質を混合する、石炭の自然発火抑制方法。

    石炭の自然発火抑制方法、貯炭設備及び搬送設備

  4. 【課題】比誘電率と誘電正接の値を低くし、しかも、機械的強度と耐熱性を向上させることができ、MHz帯域からGHz帯域を活用した大容量・高速通信の実現を容易に図ることのできる高周波回路基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】樹脂フィルム1と、この樹脂フィルム1に積層される導電層3とを積層構造に備えた高周波回路基板であり、樹脂フィルム1を結晶性の熱可塑性ポリイミド樹脂フ...

    高周波回路基板及びその製造方法

  5. 【課題】本発明は、電気電子部品の封止や回路基板、炭素繊維複合材などに好適に使用される、高耐熱性、低誘電特性に優れる特定の構造を有するマレイミド樹脂、硬化性樹脂組成物およびその硬化剤を提供することを目的とする。【解決手段】下記式(1)で表されるマレイミド樹脂。(式(1)中、Rは炭素数1〜18の炭化水素基を表す。mは1〜4の整数を表し、nは平均値であり、1≦n≦20を表す。)。

    マレイミド樹脂、硬化性樹脂組成物およびその硬化物

  6. 【課題】溶剤溶解性に優れる芳香族アミン樹脂、および、電気電子部品の封止や回路基板、炭素繊維複合材などに好適に使用される、高耐熱性、低誘電特性に優れる、前記芳香族アミンから誘導されるマレイミド樹脂を含有する硬化性樹脂組成物、およびその硬化物を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される芳香族アミン樹脂。(式(1)中、R1、R2、R3は炭素数1〜18の炭化水素基を表す。m...

    芳香族アミン樹脂、マレイミド樹脂、硬化性樹脂組成物およびその硬化物

  7. 【課題】 構造物接着においてピール強度、ひずみ耐性に優れるエポキシ樹脂組成物を提供する事である。【解決手段】C2〜C30のジカルボン酸変性エポキシ化合物(A)を1〜98重量%と、ビスフェノール系エポキシ化合物(B)を1〜98重量%に、硬化剤として、C2〜C30のカルボン酸のカルボキシル基以外の炭素にアミノ基が一つ以上付加した化合物(C)を含有するエポキシ樹脂組成物を...

  8. 【課題】香料成分の香気及び/又は香味の保留性に優れた組成物、例えば、加熱調理等の加熱工程後や長期保管後等においても香料成分の香気及び/又は香味の保留性に優れた組成物の提供。【解決手段】C3−C22の炭化水素基含有化合物を含有する、香料成分の香気及び/又は香味の保留性を高めるための組成物。C4−C8の炭化水素基含有化合物が、1〜2価アルコール化合物であることが好ましく、...

  9. 【課題・解決手段】本発明は、タイプIIIポリケチド合成酵素をコードする遺伝子がゲノムに挿入されているか、それを含む組換えベクターが導入されている、マロニル−CoA検出用の組換え微生物;前記組換え微生物を用いたマロニル−CoA生産誘導物質のスクリーニング方法、マロニル−CoA生産能の増加に関与する遺伝子のスクリーニング方法;および前記方法により選別された遺伝子を微生物で...

    タイプIIIポリケチド合成酵素ベースの新規マロニル−CoAバイオセンサーおよびその用途

  10. 【課題】アルデヒド型ビスフェノール化合物の製造方法において、著しく高い位置選択性で4,4’−置換体を効率的かつ容易に製造することができる方法を提供する。【解決手段】少なくともフェノール類、ヘテロポリ酸、およびパラアルデヒドのようなトリオキサン化合物を共存させた状態から、下記式(1)で表されるビスフェノール化合物を生成させる、製造方法。[式(1)中、R1は水素原子もしく...

  11. 【課題】耐熱エージング性及び耐酸性に優れるポリアミド組成物及び前記ポリアミド組成物を成形してなる成形品を提供する。【解決手段】ポリアミド組成物は、ポリアミドと、元素鉄と、アルカリ金属塩と、を含有する。成形品は、前記ポリアミド組成物を成形してなる。

  12. 【課題】良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[R1及びR2は、夫々独立に、H、F又はFを有する炭素数1〜6のアルキル基;R3は、F又はFを有する炭素数1〜6のアルキル基;R4及びR5は、夫々独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜10のフッ化アルキル基又は炭...

  13. 【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。[R1及びR2は、それぞれ独立に、H、F又はFを有するアルキル基を表す。R3は、F又はFを有するアルキル基を表す。R4及びR5は、それぞれ独立に、ハロゲ...

  14. 【課題】良好なラインエッジラフネスでレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(a2−A)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、ならびに式(I)で表される塩を含有するレジスト組成物。[式中、R1a及びR2aは水素原子又は炭化水素基を表すか、互いに結合し環を形成する;R3aは水素原子を表すか、R1aとR2aと互いに結合し環...

  15. 【課題】良好なマスクエラーファクタ(MEF)でレジストパターンを製造できるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1a及びR2aは、それぞれH又はFを有してもよい炭化水素基等を表す;R3aはHを表すか、又はR1aとR2aとR3aとが互いに結合し、F又はアルキル...

  16. 【課題】良好なラインエッジラフネスを有するレジストパターンを製造可能な塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式Iで表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1aは酸不安定基;R2及びR3はハロゲン、C1〜6のフッ化アルキル、C1〜12のアルキル等;m2は0〜4;m3は0〜5;Q1及びQ2はそれぞれF又はペルフルオロアルキル;L1は飽和炭化...

  17. 【課題】良好なマスクエラーファクタ(MEF)を有するレジストパターンを製造可能な塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式Iで表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、H、F又はFを有するC1〜6のアルキル;R3はF又はFを有するC1〜6のアルキル;R4及びR5は、それぞれ独立に、ハロゲン、C1〜10のフッ化ア...

  18. 【課題】良好なマスクエラーファクタ(MEF)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1a及びR1bはそれぞれ水素原子又は酸不安定基;R2及びR3はそれぞれハロゲン原子、フッ化アルキル基又はアルキル基等を表し、該フッ...

  19. 【課題】良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、H、F又はFを有するアルキル基;R3は、F又はFを有するアルキル基;R4及びR5は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、フッ化アルキル基等を表し...

  20. 【課題】良好なラインエッジラフネスを有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1a及びR2aは、H又はFを有してもよい炭化水素基等;R3aは、H、又はR1aとR2aとR3aとが互いに結合し、F又はアルキル基を有してもよい環等;R4...

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