シクロヘプチル に関する公開一覧

シクロヘプチル」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「シクロヘプチル」の詳細情報や、「シクロヘプチル」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「シクロヘプチル」の意味・用法はこちら

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  1. 【課題】 効率良く耐熱性、耐放射線性、耐酸化性等に優れたエチレン−イソオレフィン系共重合体を製造することが可能となる新規なエチレン−イソオレフィン系共重合体製造用触媒及びそれを用いたエチレン−イソオレフィン系共重合体の製造方法を提供する。【解決手段】 特定の構造を有する遷移金属化合物(A)、特定の活性化助触媒(B)、及び有機アルミニウム化合物(C)を含むメタロセン...

  2. 【課題】本発明は、高信頼性、高熱伝導率、高粘着及び高伸び性を有する異方性熱伝導性シートを提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、下記(A)及び(B)成分、 (A)繊維状熱伝導性充填材、 (B)熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物を含む樹脂組成物の硬化物からなる熱伝導層を有する熱伝導性シートであって、上記熱伝導性シートの針入度が30以上であることを特徴とする...

    自己粘着性を有する異方性熱伝導性シート

  3. 【課題】特定のテトラジン化合物を配合したゴム組成物において、加工性および低発熱性をさらに良化する。【解決手段】ジエン系ゴム、シリカ、シランカップリング剤、酸化亜鉛、および特定のテトラジン化合物を配合してなるタイヤ用ゴム組成物の製造方法であって、ジエン系ゴムとテトラジン化合物とを混合する工程(A−1)と、前記工程(A−1)で得られた混合物にシリカおよびシランカップリング...

  4. 【課題】耐候性に優れた保護フィルムおよびそれを用いたシートの提供。【解決手段】表面保護層12と、表面保護層12の下層に形成された透明樹脂層11とを少なくとも含み、表面保護層12が該層の全質量100質量部に対して0.1〜15質量部以下の下記一般式(I)で表されるヒンダードアミン系光安定剤を含有する保護フィルム10。(一般式(I)中、Rは炭素数が1から18までのアルキル基...

    保護フィルムおよびシート

  5. 【課題】硬度および密着性のバランスに優れた硬化物を形成することが可能な組成物を提供することを主目的とする。【解決手段】8個以上15個以下のエチレン性不飽和基および1個以上のウレタン結合を有する化合物と、3個以上7個以下のエチレン性不飽和基を有する化合物と、1個または2個のエチレン性不飽和基を有する水酸基含有化合物と、を含む組成物である。この組成物の硬化物である。この組...

  6. 【課題】人畜に対する毒性が低く取扱い安全性に優れ、かつ広範な植物病害に対して優れた防除効果および植物病菌に対する高い抗菌性を示す植物病害防除剤の提供。【解決手段】式(I)で表されるアゾール誘導体、またはそのN−オキシドもしくは農薬学的に許容可能な塩。式中、Aは、NまたはCH;pは、0、1または2;X1は、CH2、O、NH等;Zは、H、C2−C6−アルキニル基、フェニル...

  7. 【課題】空気入りタイヤには、高い強度を維持しながら燃費を向上させる性能が望まれている。そのために、タイヤトレッド用ゴム組成物へシリカを配合する技術が知られているが、シリカはジエン系ゴムに対する親和性が低く、分散性が悪化し所望の物性が得られず、また破断伸びが低下するという問題点がある。【解決手段】ジエン系ゴム100質量部に対し、シリカを30質量部以上、および特定のテトラ...

  8. 【課題】撥水・撥油性に優れ、さらに耐摩耗性にも優れた皮膜を実現できる混合組成物を提供する。【解決手段】少なくとも1つのトリアルキルシリル基含有分子鎖と、少なくとも1つの加水分解性基とがケイ素原子に結合している有機ケイ素化合物(A)と、金属化合物(B)と、酸(C)と、水(D)との混合組成物であり、前記水(D)に対する前記酸(C)のモル比(C/D)が、0.002〜0.15...

  9. 【課題】撥水・撥油性に優れ、さらに耐摩耗性にも優れた皮膜、並びに基材の上に該皮膜が形成された積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、最表面の層(M)及び該層(M)に接する層(K1)を少なくとも有する皮膜であって、前記層(M)の密度が0.7g/cm3以上、1.0g/cm3未満であり、前記層(K1)の密度が1.0g/cm3以上、2.2g/c...

  10. 【課題】香料成分の香気及び/又は香味の保留性に優れた組成物、例えば、加熱調理等の加熱工程後や長期保管後等においても香料成分の香気及び/又は香味の保留性に優れた組成物の提供。【解決手段】C3−C22の炭化水素基含有化合物を含有する、香料成分の香気及び/又は香味の保留性を高めるための組成物。C4−C8の炭化水素基含有化合物が、1〜2価アルコール化合物であることが好ましく、...

  11. 【課題】酸素阻害の影響が顕著な光ラジカル重合開始剤を用いた光ラジカル性組成物を、塗膜表面での酸素阻害を低減し、酸素存在下でも問題なく硬化できる塗膜組成物を提供する。【解決手段】ラジカル重合性化合物と光ラジカル重合開始剤と下記一般式(1)で表されるエステル基を有するアントラセン系化合物を含有することを特徴とする、光ラジカル重合性組成物。(一般式(1)において、Aは炭素数...

    光重合性組成物及び該光重合性組成物を含有する塗膜並びにその硬化方法

  12. 【課題】アルデヒド型ビスフェノール化合物の製造方法において、著しく高い位置選択性で4,4’−置換体を効率的かつ容易に製造することができる方法を提供する。【解決手段】少なくともフェノール類、ヘテロポリ酸、およびパラアルデヒドのようなトリオキサン化合物を共存させた状態から、下記式(1)で表されるビスフェノール化合物を生成させる、製造方法。[式(1)中、R1は水素原子もしく...

  13. 【課題】水中における色素の発光強度および経時での吸光度の低下抑制、および光照射による退色の抑制により蛍光標識剤として好適に使用できる色素組成物を提供すること。【解決手段】色素と、水溶性樹脂と、水とを含んでなる色素組成物であって、水溶性樹脂が、イオン性官能基を有する重合性不飽和単量体由来の構成単位(A)、およびアルキル基を有する重合性不飽和単量体由来の構成単位(B)を含...

    蛍光標識剤用色素組成物および蛍光標識剤

  14. 【課題】良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[R1及びR2は、夫々独立に、H、F又はFを有する炭素数1〜6のアルキル基;R3は、F又はFを有する炭素数1〜6のアルキル基;R4及びR5は、夫々独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜10のフッ化アルキル基又は炭...

  15. 【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。[R1及びR2は、それぞれ独立に、H、F又はFを有するアルキル基を表す。R3は、F又はFを有するアルキル基を表す。R4及びR5は、それぞれ独立に、ハロゲ...

  16. 【課題】良好なラインエッジラフネスでレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(a2−A)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、ならびに式(I)で表される塩を含有するレジスト組成物。[式中、R1a及びR2aは水素原子又は炭化水素基を表すか、互いに結合し環を形成する;R3aは水素原子を表すか、R1aとR2aと互いに結合し環...

  17. 【課題】良好なマスクエラーファクタ(MEF)でレジストパターンを製造できるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1a及びR2aは、それぞれH又はFを有してもよい炭化水素基等を表す;R3aはHを表すか、又はR1aとR2aとR3aとが互いに結合し、F又はアルキル...

  18. 【課題】良好なラインエッジラフネスを有するレジストパターンを製造可能な塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式Iで表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1aは酸不安定基;R2及びR3はハロゲン、C1〜6のフッ化アルキル、C1〜12のアルキル等;m2は0〜4;m3は0〜5;Q1及びQ2はそれぞれF又はペルフルオロアルキル;L1は飽和炭化...

  19. 【課題】良好なマスクエラーファクタ(MEF)を有するレジストパターンを製造可能な塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式Iで表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、H、F又はFを有するC1〜6のアルキル;R3はF又はFを有するC1〜6のアルキル;R4及びR5は、それぞれ独立に、ハロゲン、C1〜10のフッ化ア...

  20. 【課題】良好なマスクエラーファクタ(MEF)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1a及びR1bはそれぞれ水素原子又は酸不安定基;R2及びR3はそれぞれハロゲン原子、フッ化アルキル基又はアルキル基等を表し、該フッ...

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