プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速 に関する技術一覧

「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」に関する技術の関連情報です。 「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」 の関連技術、「プラズマの生成,プラズマの取扱い」「磁気誘導型加速器,例.ベータトロン」 など、その他「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」に関する技術情報を、出願された情報を元に収録しています。 「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」の分野ページはこちら

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速に所属する技術動向

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分野に属する技術の状況としては、2017年に798件、2018年に614件の新たな技術が出願されるといった動きがあります。

また、プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分野においては特に近年磁気誘導型加速器,例.ベータトロンの分野における動向が活発であり、他にも荷電粒子の他に分類されない加速方法または装置や 核反応を起こすためのターゲットといった分野においても、日々新たな動きが生まれています。

この分野でのメインプレイヤーとしては東京エレクトロン株式会社やラムリサーチコーポレイション、アプライドマテリアルズ,インコーポレイティドが豊富な実績を残しており、 東京エレクトロン株式会社などは、 半導体装置,他に属さない電気的固体装置や金属質への被覆,金属材料による材料への被覆,表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般といった分野も含め、 国立大学法人東北大学や株式会社東芝といった法人と共に共同研究を行っている実績もあります。

注目の技術

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速』に分類される技術のうち、技術力の高さや近年注目されている・今後活用可能性の高いと目されている技術の一覧です。

  1. 【課題】プラズマを用いた表面処理を行なった後の表面処理の効果の低減を少なくする絶縁部材の表面処理方法及び絶縁部材の表面処理装置を提供する【解決手段】 絶縁材料により形成される被処理物Pを移動させる搬送手段1と、プラズマ生成用ガスGが流入する流入口2aaと生成されたプラズマPLを被処理物Pに向けて吹き出す吹出口2abとを備える反応容器2aと、反応容器2a内に流入したプ...

    絶縁部材の表面処理方法及び絶縁部材の表面処理装置

  2. 【課題】大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して、安定して発生させ、単一の処理ガスのみならず複数の処理ガスを用いた薄膜形成、エッチング処理、アッシング処理等の工程における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法の提供。【解決手段】3枚以上の電極によって2つ以上の放電空間を形成してなり、前記放電空間を形成する電極対向面の少なくと...

    放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法

  3. 【課題】ストリーマー放電の発生を防ぐとともに、被処理物の大面積を効率良くプラズマ処理できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】このプラズマ処理装置は、少なくとも一対の電極と、電極間に定義される放電空間にプラズマ生成用ガスを供給するガス供給手段と、電極間に交流電圧を印加して、放電空間にプラズマ生成用ガスのプラズマを生成するための電力供給手段とを含むものであり、一対の...

    プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

  4. 【課題】 プラズマにより処理を行うプラズマ処理装置において、互いに異なる複数のプロセスを行うにあたり装置の共用化を図ること、また複数の装置で同じプロセスを行うにあたり装置間のプラズマの状態を容易に揃えること【解決手段】 処理容器内の被処理基板を絶縁材からなるリング部材で囲み、このリング部材内にプラズマのシース領域を調整するための電極を設け、例えば被処理基板に対して...

    プラズマ処理装置、リング部材およびプラズマ処理方法

  5. 【課題】 プラズマ処理装置においてプラズマ密度の均一化を効率的に達成すること。【解決手段】 サセプタ12の主面上で凸部70は、上部電極側つまりプラズマ側に向って突出しているので、主面の底面部12aよりも低いインピーダンスでプラズマと電気的に結合する。このため、サセプタ12の主面の表面層を流れる高周波電流によって運ばれる高周波電力は主として凸部70の頂面からプラズマ...

    プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板及び電極板製造方法

新着の技術

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速』に分類される技術のうち、最近新たに出願された技術の一覧です。

  1. 【課題】エッチング残渣の発生を抑制可能なSiGe層のエッチング方法を提供する。【解決手段】本発明に係るSiGe層10のエッチング方法は、基板Sの表面に形成されたSiGe層をプラズマを用いてエッチングするエッチング処理と、エッチング処理によって形成された凹部にプラズマを用いて保護膜を形成する保護膜形成処理とを交互に繰り返し行うことで、SiGe層を深掘りエッチングする工程...

    SiGe層のエッチング方法

  2. 【課題】プラズマチャンバーの内側の処理領域内にプラズマを閉じ込めるための改善されたバッフルアセンブリを提供する。【解決手段】バッフルアセンブリ200はリング202及びベース部分204を含む。また、ベース部分204は約19インチと約20インチとの間の第1の直径Dを有するフランジ206を含む。湾曲したウォールはフランジ206から、ベース部分204に結合された加熱アセンブリ...

    環状のバッフル

  3. 【解決手段】マルチレジームプラズマウエハ処理を提供するためのシステムおよび方法が開示されている。システムおよび方法は、3つの状態を有する。それらの状態の内の第1状態中に、エッチング動作が実行される。それらの状態の内の第2状態中に、キロヘルツ高周波信号の電力レベルは、スタック層の底面に入射するイオンの方向性を増大させるために、0より高い。それらの状態の内の第3状態中に、...

    イオンの方向性を増大させるためのマルチレジームプラズマウエハ処理

  4. 【課題】ガス種に依存せず確実に且つ安定的にプラズマを生成可能な大気圧プラズマ生成装置を提供する。【解決手段】大気圧下でプラズマを生成させる大気圧プラズマ生成装置は、予備電離部10とプラズマ生成部20とからなる。予備電離部10は、入力細管11に接続され、平行な対向平面を少なくとも有する電離室12と、電離室12の対向平面を挟むように対向平面に平行に配置され、予備放電用電源...

    大気圧プラズマ生成装置

  5. 【課題】プラズマ処理装置の大気開放における処理室の真空排気時の水分に起因したアウトガスの発生を低減する。【解決手段】プラズマ処理装置は、ウエハ4にプラズマ処理が行われる処理室7と、処理室7に接続された排気用配管10を介して処理室7を減圧するDP11と、処理室7の真空度を高い真空度に排気するTMP12と、ウエハ4を載置するステージ6と、を有する。さらに、温度調節されたス...

    プラズマ処理装置および大気開放方法

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の詳細カテゴリ一覧

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分類に属する、詳細カテゴリの一覧です。

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その他の分野

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