プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速 に関する技術一覧

「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」に関する技術の関連情報です。 「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」 の関連技術、「プラズマの生成,プラズマの取扱い」「磁気誘導型加速器,例.ベータトロン」 など、その他「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」に関する技術情報を、出願された情報を元に収録しています。 「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」の分野ページはこちら

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速に所属する技術動向

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分野に属する技術の状況としては、2015年に630件、2016年に607件の新たな技術が出願されるといった動きがあります。

また、プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分野においては特に近年磁気誘導型加速器,例.ベータトロンの分野における動向が活発であり、他にも荷電粒子の他に分類されない加速方法または装置や 核反応を起こすためのターゲットといった分野においても、日々新たな動きが生まれています。

この分野でのメインプレイヤーとしては東京エレクトロン株式会社やラムリサーチコーポレイション、パナソニック株式会社が豊富な実績を残しており、 東京エレクトロン株式会社などは、 半導体装置,他に属さない電気的固体装置や金属質への被覆,金属材料による材料への被覆,表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般といった分野も含め、 国立大学法人東北大学や株式会社東芝といった法人と共に共同研究を行っている実績もあります。

注目の技術

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速』に分類される技術のうち、技術力の高さや近年注目されている・今後活用可能性の高いと目されている技術の一覧です。

  1. 【課題】プラズマを用いた表面処理を行なった後の表面処理の効果の低減を少なくする絶縁部材の表面処理方法及び絶縁部材の表面処理装置を提供する【解決手段】 絶縁材料により形成される被処理物Pを移動させる搬送手段1と、プラズマ生成用ガスGが流入する流入口2aaと生成されたプラズマPLを被処理物Pに向けて吹き出す吹出口2abとを備える反応容器2aと、反応容器2a内に流入したプ...

    絶縁部材の表面処理方法及び絶縁部材の表面処理装置

  2. 【課題】大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して、安定して発生させ、単一の処理ガスのみならず複数の処理ガスを用いた薄膜形成、エッチング処理、アッシング処理等の工程における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法の提供。【解決手段】3枚以上の電極によって2つ以上の放電空間を形成してなり、前記放電空間を形成する電極対向面の少なくと...

    放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法

  3. 【課題】ストリーマー放電の発生を防ぐとともに、被処理物の大面積を効率良くプラズマ処理できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】このプラズマ処理装置は、少なくとも一対の電極と、電極間に定義される放電空間にプラズマ生成用ガスを供給するガス供給手段と、電極間に交流電圧を印加して、放電空間にプラズマ生成用ガスのプラズマを生成するための電力供給手段とを含むものであり、一対の...

    プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

  4. 【課題】 プラズマにより処理を行うプラズマ処理装置において、互いに異なる複数のプロセスを行うにあたり装置の共用化を図ること、また複数の装置で同じプロセスを行うにあたり装置間のプラズマの状態を容易に揃えること【解決手段】 処理容器内の被処理基板を絶縁材からなるリング部材で囲み、このリング部材内にプラズマのシース領域を調整するための電極を設け、例えば被処理基板に対して...

    プラズマ処理装置、リング部材およびプラズマ処理方法

  5. 【課題】 プラズマ処理装置においてプラズマ密度の均一化を効率的に達成すること。【解決手段】 サセプタ12の主面上で凸部70は、上部電極側つまりプラズマ側に向って突出しているので、主面の底面部12aよりも低いインピーダンスでプラズマと電気的に結合する。このため、サセプタ12の主面の表面層を流れる高周波電流によって運ばれる高周波電力は主として凸部70の頂面からプラズマ...

    プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板及び電極板製造方法

新着の技術

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速』に分類される技術のうち、最近新たに出願された技術の一覧です。

  1. 荷電粒子ビームを入射させるターゲットの構成を最適化することで、安定核種への変換処理を効率化させる長寿命核分裂生成物の処理方法を提供する。【解決手段】長寿命核分裂生成物の処理方法は、放射性廃棄物10からCs、Zr、Se、Sn及びPdのうち少なくとも二種類の元素(第1元素11及び第2元素12)を個別に分離抽出し(S21)、荷電粒子ビーム15が入射した場合の飛程データを取得...

    長寿命核分裂生成物の処理方法

  2. 【課題・解決手段】プラズマ処理システムは、処理チャンバと、プラズマキャビティ内でプラズマを発生させるプラズマ源とを含む。プラズマキャビティはトロイダル軸の周囲で実質的に対称である。プラズマ源は、プラズマキャビティの第1軸方向側に複数の出口開孔を画定する。プラズマによって生成されたプラズマ生成物は、複数の出口開孔を通りプラズマキャビティから処理チャンバに向かって、軸方向...

    直接出口型トロイダルプラズマ源を有するプラズマ処理システム

  3. 【課題・解決手段】プラズマ生成物を供給するための装置は、トロイダルプラズマキャビティを内部に画定する、プラズマ発生ブロックを含む。プラズマキャビティは、トロイダル軸の周囲で実質的に対称であり、トロイダル軸は、プラズマ発生ブロックの第1軸方向側と第2軸方向側とを画定する。磁気素子は、プラズマ生成物を生成するプラズマを一又は複数の源ガスから発生させるために、磁気素子の中の...

    直接出口型トロイダルプラズマ源

  4. 【課題・解決手段】本明細書に開示された実施形態は、プラズマ源、および半導体プロセスで生成された化合物を軽減するための軽減システムを含む。一実施形態において、プラズマ源が開示される。プラズマ源は、入口および出口を有する本体を含み、入口および出口は、本体内部で流体結合される。本体は、内側表面をさらに含み、内側表面は、イットリウム酸化物またはダイヤモンド類似カーボンで被覆さ...

    耐腐食性軽減システム

  5. 【課題・解決手段】一実施形態では、プラズマ源は、第1電極であって、その内部の第1の複数の貫通孔を通じて一又は複数のプラズマ源ガスを移送するように構成された、第1電極と、第1電極の外縁の周囲に第1電極と接触して配置された、絶縁体と、第2電極であって、第1と第2の電極、及び絶縁体がプラズマ発生キャビティを画定するように、第2電極の外縁が絶縁体に接している状態で配置された、...

    プラズマ処理設備における内表面調整評価のためのシステム及び方法

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