プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速 に関する技術一覧

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プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速に所属する技術動向

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分野に属する技術の状況としては、2017年に796件、2018年に614件の新たな技術が出願されるといった動きがあります。

また、プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分野においては特に近年磁気誘導型加速器,例.ベータトロンの分野における動向が活発であり、他にも荷電粒子の他に分類されない加速方法または装置や 核反応を起こすためのターゲットといった分野においても、日々新たな動きが生まれています。

この分野でのメインプレイヤーとしては東京エレクトロン株式会社やラムリサーチコーポレイション、アプライドマテリアルズ,インコーポレイティドが豊富な実績を残しており、 東京エレクトロン株式会社などは、 半導体装置,他に属さない電気的固体装置や金属質への被覆,金属材料による材料への被覆,表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般といった分野も含め、 国立大学法人東北大学や株式会社東芝といった法人と共に共同研究を行っている実績もあります。

注目の技術

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速』に分類される技術のうち、技術力の高さや近年注目されている・今後活用可能性の高いと目されている技術の一覧です。

  1. 【課題】プラズマを用いた表面処理を行なった後の表面処理の効果の低減を少なくする絶縁部材の表面処理方法及び絶縁部材の表面処理装置を提供する【解決手段】 絶縁材料により形成される被処理物Pを移動させる搬送手段1と、プラズマ生成用ガスGが流入する流入口2aaと生成されたプラズマPLを被処理物Pに向けて吹き出す吹出口2abとを備える反応容器2aと、反応容器2a内に流入したプ...

    絶縁部材の表面処理方法及び絶縁部材の表面処理装置

  2. 【課題】大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して、安定して発生させ、単一の処理ガスのみならず複数の処理ガスを用いた薄膜形成、エッチング処理、アッシング処理等の工程における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法の提供。【解決手段】3枚以上の電極によって2つ以上の放電空間を形成してなり、前記放電空間を形成する電極対向面の少なくと...

    放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法

  3. 【課題】ストリーマー放電の発生を防ぐとともに、被処理物の大面積を効率良くプラズマ処理できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】このプラズマ処理装置は、少なくとも一対の電極と、電極間に定義される放電空間にプラズマ生成用ガスを供給するガス供給手段と、電極間に交流電圧を印加して、放電空間にプラズマ生成用ガスのプラズマを生成するための電力供給手段とを含むものであり、一対の...

    プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

  4. 【課題】 プラズマにより処理を行うプラズマ処理装置において、互いに異なる複数のプロセスを行うにあたり装置の共用化を図ること、また複数の装置で同じプロセスを行うにあたり装置間のプラズマの状態を容易に揃えること【解決手段】 処理容器内の被処理基板を絶縁材からなるリング部材で囲み、このリング部材内にプラズマのシース領域を調整するための電極を設け、例えば被処理基板に対して...

    プラズマ処理装置、リング部材およびプラズマ処理方法

  5. 【課題】 プラズマ処理装置においてプラズマ密度の均一化を効率的に達成すること。【解決手段】 サセプタ12の主面上で凸部70は、上部電極側つまりプラズマ側に向って突出しているので、主面の底面部12aよりも低いインピーダンスでプラズマと電気的に結合する。このため、サセプタ12の主面の表面層を流れる高周波電流によって運ばれる高周波電力は主として凸部70の頂面からプラズマ...

    プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板及び電極板製造方法

新着の技術

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速』に分類される技術のうち、最近新たに出願された技術の一覧です。

  1. 【課題】 置換ガスの供給量を少なく保ちながら、目的の表面改質を実現できる表面改質度装置を提供すること。【解決手段】 放電電極6と対向電極4との間に放電エリアE1を形成するとともに、放電エリアE1に置換ガスを供給して、処理基材の表面を改質する表面改質装置であって、スリット状の置換ガス通路と、放電電極との対向隙間でカーテン用通路22,23を形成するカバー部材7,8とを...

    表面改質装置

  2. 【課題】RF電力が、処理チャンバ内でプラズマを生成するために、基板支持体の導電性のベースプレートに供給されるが、電極およびエッジリングの加熱素子は、RF発生システムの動作周波数付近で局部共振を引き起こし、インピーダンスシフトを引き起こしうるのを防止する。【解決手段】基板支持体200が、エッジリング220と、加熱素子216と、電源228からエッジリングならびに加熱素子に...

    RF環境内で加熱される構成要素のための高電力ケーブル

  3. 【課題】特に、処理時間の短縮と低抵抗化とを図ることが可能な導電性パターンの製造方法、及びプラズマ処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明における導電性パターンの製造方法は、酸化銅を分散させたインクを用いて基板上にパターンを形成した被処理物を、水が存在する状態でプラズマ処理を行うことを特徴とする。水を、外部からチャンバー内に供給し、或いは、被処理物に付帯さ...

    導電性パターンの製造方法、及びプラズマ処理装置

  4. 【課題】堆積サイクルを含むPEALDによって基板上に膜を形成する方法を提供する。【解決手段】堆積サイクルを含むPEALDによって基板上に膜を形成する方法であって、各サイクルは、(i)基板の表面上に前駆体を吸着するために、反応空間11へ前駆体をパルスで供給するステップと、(ii)ステップ(i)の後、反応空間にプラズマを生成するために、第2の電極2にRFパワーを印加し、前...

    負バイアスを用いてPEALDによって膜を堆積する方法

  5. 【課題】大気圧下の環境における被処理物に対する制約を緩和することが可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置は、大気圧下でプラズマを生成する放電部と、前記放電部において生成されたプラズマが進展可能な非金属の管と、を備え、前記管から大気圧下の環境へプラズマを放出する。

    プラズマ処理装置および半導体装置の製造方法

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の詳細カテゴリ一覧

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分類に属する、詳細カテゴリの一覧です。

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その他の分野

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