プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速 に関する技術一覧

「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」に関する技術の関連情報です。 「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」 の関連技術、「プラズマの生成,プラズマの取扱い」「磁気誘導型加速器,例.ベータトロン」 など、その他「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」に関する技術情報を、出願された情報を元に収録しています。 「プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速」の分野ページはこちら

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速に所属する技術動向

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分野に属する技術の状況としては、2016年に606件、2017年に796件の新たな技術が出願されるといった動きがあります。

また、プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分野においては特に近年磁気誘導型加速器,例.ベータトロンの分野における動向が活発であり、他にも荷電粒子の他に分類されない加速方法または装置や 核反応を起こすためのターゲットといった分野においても、日々新たな動きが生まれています。

この分野でのメインプレイヤーとしては東京エレクトロン株式会社やラムリサーチコーポレイション、アプライドマテリアルズ,インコーポレイティドが豊富な実績を残しており、 東京エレクトロン株式会社などは、 半導体装置,他に属さない電気的固体装置や金属質への被覆,金属材料による材料への被覆,表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般といった分野も含め、 国立大学法人東北大学や株式会社東芝といった法人と共に共同研究を行っている実績もあります。

注目の技術

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速』に分類される技術のうち、技術力の高さや近年注目されている・今後活用可能性の高いと目されている技術の一覧です。

  1. 【課題】プラズマを用いた表面処理を行なった後の表面処理の効果の低減を少なくする絶縁部材の表面処理方法及び絶縁部材の表面処理装置を提供する【解決手段】 絶縁材料により形成される被処理物Pを移動させる搬送手段1と、プラズマ生成用ガスGが流入する流入口2aaと生成されたプラズマPLを被処理物Pに向けて吹き出す吹出口2abとを備える反応容器2aと、反応容器2a内に流入したプ...

    絶縁部材の表面処理方法及び絶縁部材の表面処理装置

  2. 【課題】大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して、安定して発生させ、単一の処理ガスのみならず複数の処理ガスを用いた薄膜形成、エッチング処理、アッシング処理等の工程における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法の提供。【解決手段】3枚以上の電極によって2つ以上の放電空間を形成してなり、前記放電空間を形成する電極対向面の少なくと...

    放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法

  3. 【課題】ストリーマー放電の発生を防ぐとともに、被処理物の大面積を効率良くプラズマ処理できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】このプラズマ処理装置は、少なくとも一対の電極と、電極間に定義される放電空間にプラズマ生成用ガスを供給するガス供給手段と、電極間に交流電圧を印加して、放電空間にプラズマ生成用ガスのプラズマを生成するための電力供給手段とを含むものであり、一対の...

    プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

  4. 【課題】 プラズマにより処理を行うプラズマ処理装置において、互いに異なる複数のプロセスを行うにあたり装置の共用化を図ること、また複数の装置で同じプロセスを行うにあたり装置間のプラズマの状態を容易に揃えること【解決手段】 処理容器内の被処理基板を絶縁材からなるリング部材で囲み、このリング部材内にプラズマのシース領域を調整するための電極を設け、例えば被処理基板に対して...

    プラズマ処理装置、リング部材およびプラズマ処理方法

  5. 【課題】 プラズマ処理装置においてプラズマ密度の均一化を効率的に達成すること。【解決手段】 サセプタ12の主面上で凸部70は、上部電極側つまりプラズマ側に向って突出しているので、主面の底面部12aよりも低いインピーダンスでプラズマと電気的に結合する。このため、サセプタ12の主面の表面層を流れる高周波電流によって運ばれる高周波電力は主として凸部70の頂面からプラズマ...

    プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板及び電極板製造方法

新着の技術

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速』に分類される技術のうち、最近新たに出願された技術の一覧です。

  1. 【課題・解決手段】プラズマ源およびプラズマの生成方法が提供される。プラズマ源は、第1のホロカソードと、第2のホロカソードと、第3のホロカソードと、を含む、少なくとも3つのホロカソードを含み、各々のホロカソードは、プラズマ出口領域を有する。また、プラズマ源は、第1の出力波と、第2の出力波と、第3の出力波と、を含む、複数の出力波を形成することのできる電力源も含み、第1の出...

    多相交流電流またはパルス電流によって駆動されるプラズマ装置およびプラズマを発生させる方法

  2. 【課題・解決手段】パルス高周波(RF)電力を使用してプラズマ強化基板処理システムを動作させる方法が本明細書に提供される。いくつかの実施形態では、パルス高周波(RF)電力を使用してプラズマ強化基板処理システムを動作させる方法は、第1の時間期間に第1の電力レベルで処理チャンバに第1のパルスRF電力波形を供給するステップと、第1の時間期間に処理チャンバに第1の電力レベルで第...

    基板処理のためのRF電力供給制御

  3. 【課題・解決手段】本明細書では、マルチレベルパルスRF電力を使用してプラズマ強化基板処理システムを動作させる方法が提供される。いくつかの実施形態では、マルチレベルパルスRF電力を使用してプラズマ強化基板処理システムを動作させる方法は、少なくとも第1のパルス期間の第1の電力レベルと第2のパルス期間の第2の電力レベルと第3のパルス期間の第3の電力レベルとを有する第1のマル...

    近似鋸歯状波パルス生成によるRF電力供給

  4. 【課題】トレンチに層構造を製造する方法を提供する。【解決手段】トレンチに層構造を製造する方法は、上面並びにトレンチの底面及び側壁上にSi−N結合を含む誘電体膜を同時に形成するステップであって、上面及び底面上に形成される膜の上部/底部と、側壁上に形成される膜の側壁部とは、2つの電極間に電圧を印加することによって励起されたプラズマの衝突によって異なる化学物質耐性を付与され...

    トレンチの側壁又は平坦面上に選択的に窒化ケイ素膜を形成する方法

  5. 【課題】プラズマ耐性を有するチャンバーコンンポーネントを提供する。【解決手段】物品上に多層プラズマ耐性コーティングを形成する。形成方法は、メッキ又はALDを実施し物品上にコンフォーマルな第1のプラズマ耐性層150を形成するステップを含み、コンフォーマルな第1のプラズマ耐性層150は物品の表面上及び物品内の高アスペクト比構成の壁上に形成される。コンフォーマルな第1のプラ...

    チャンバコンポーネント用多層プラズマ腐食防護

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の詳細カテゴリ一覧

プラズマ技術,加速された荷電粒子のまたは中性子の発生,中性分子または原子ビームの発生または加速の分類に属する、詳細カテゴリの一覧です。

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その他の分野

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