写真,映画,光波以外の波を使用する類似技術,電子写真,ホログラフイ に関する技術一覧

「写真,映画,光波以外の波を使用する類似技術,電子写真,ホログラフイ」に関する技術の関連情報です。 「写真,映画,光波以外の波を使用する類似技術,電子写真,ホログラフイ」 の関連技術、「写真を撮影するためのまたは写真を投影もしくは直視するための装置または配置,光波以外の波を用いる類似技術を用いる装置または配置,そのための付属品」「写真用感光材料,写真法,例.映画,X線写真法,多色写真法,立体写真法,写真の補助処理法」 など、その他「写真,映画,光波以外の波を使用する類似技術,電子写真,ホログラフイ」に関する技術情報を、出願された情報を元に収録しています。 「写真,映画,光波以外の波を使用する類似技術,電子写真,ホログラフイ」の分野ページはこちら

写真,映画,光波以外の波を使用する類似技術,電子写真,ホログラフイに所属する技術動向

写真,映画,光波以外の波を使用する類似技術,電子写真,ホログラフイの分野に属する技術の状況としては、2016年に11,527件、2017年に12,876件の新たな技術が出願されるといった動きがあります。

また、写真,映画,光波以外の波を使用する類似技術,電子写真,ホログラフイの分野においては特に近年ホログラフィー的方法または装置の分野における動向が活発であり、他にも露光済み写真材料の処理装置,そのための付属品や 写真用感光材料,写真法,例.映画,X線写真法,多色写真法,立体写真法,写真の補助処理法といった分野においても、日々新たな動きが生まれています。

この分野でのメインプレイヤーとしてはキヤノン株式会社や株式会社リコー、富士ゼロックス株式会社が豊富な実績を残しており、 株式会社東芝などは、 計算,計数や基本的電気素子といった分野も含め、 東芝テック株式会社や東芝インテリジエントテクノロジ株式会社といった法人と共に共同研究を行っている実績もあります。

注目の技術

写真,映画,光波以外の波を使用する類似技術,電子写真,ホログラフイ』に分類される技術のうち、技術力の高さや近年注目されている・今後活用可能性の高いと目されている技術の一覧です。

  1. 【課題】ベルト状伝熱媒体を用いる定着方法において省エネルギーのための低温定着、耐ホットオフセット性、耐熱保存性を満足しカラートナーにおいては光沢性能、OHPでの透明性を満足した画像形成方法を提供する。【解決手段】発熱体と、該発熱体により加熱される一つ以上の伝熱媒体、及び、該伝熱媒体の一つに記録媒体を圧接させる加圧部材とにより、記録媒体上のトナー像を加熱定着する定着方法...

    画像形成方法

  2. 【課題】トナー形状制御によりクリーニング不良を伴わずに高解像度、高画質の画像を多数回にわたり安定して形成することができるトナーを提供する。【解決手段】少なくとも樹脂、着色剤を含有する乾式トナーにおいて、該トナーの円形度が0.960〜1.000であって、かつ表面に複数のくぼみを有することを特徴とする乾式トナー。

    乾式トナー及び該トナーの製造方法並びに該トナーを用いた画像形成装置

  3. 【課題】粒度分布が狭く、粒径が均一な樹脂分散体、樹脂粒子およびそれを安全かつ経済的に得る製法を提供する。【解決手段】樹脂(a)からなる樹脂粒子(A)の水性分散液中に、樹脂(b)若しくはその溶剤溶液、又は、樹脂(b)の前駆体(b0)若しくはその溶剤溶液を分散させ、前駆体(b0)又はその溶剤溶液を用いる場合には、さらに、前駆体(b0)を反応させて、樹脂粒子(A)の水性分散...

  4. 【課題】シリカの埋め込みやキャリア上がりを生じることなく、高速機においても、高品質な画像を連続して得ることができる二成分現像剤を提供すること。【解決手段】トナーとキャリアとからなる二成分現像剤であって、前記トナーが平均粒径25nm以上の疎水性シリカを外添してなり、前記キャリアの飽和磁化が50〜95emu/gであり、電界強度100V/cmにおける前記キャリアの表面抵抗率...

    二成分現像剤

  5. 【課題】 耐摩耗性、耐傷性が高く、且つ電気的特性が良好であるほか、特に感光層にクラックや膜剥がれが生じにくく、高耐久性、高性能な電子写真感光体を提供すること。また、それらの高耐久性、高性能感光体を使用し、長期間にわたり高画質化を実現した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供すること。【解決手段】 導電性支持体上に少なくとも電荷発生層...

    電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ

新着の技術

写真,映画,光波以外の波を使用する類似技術,電子写真,ホログラフイ』に分類される技術のうち、最近新たに出願された技術の一覧です。

  1. 【課題・解決手段】流動性に優れ、硬化物における耐熱性及びドライエッチング耐性が高いフェノール性水酸基含有樹脂、これを含有する硬化性組成物、及びレジスト材料を提供することを目的とし、下記構造式(1)(式中Xは炭素原子数1〜14の炭化水素基を表す。R1はそれぞれ独立に脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基の何れかである。mは0、1又は2、n...

    フェノール性水酸基含有樹脂及びレジスト材料

  2. 【課題・解決手段】耐熱性やアルカリ現像性に加え、厚膜形成時の耐クラック性にも優れるフェノール性水酸基含有樹脂、これを含有する感光性組成物、硬化性組成物、及びレジスト材料を提供することを目的として、下記構造式(1)又は(2)[式中R2、R3はそれぞれ独立に脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子の何れかである。]で表される構造部位(α)と、下記...

    フェノール性水酸基含有樹脂及びレジスト材料

  3. 【課題】被写体に対して、撮像装置の撮像角度を自動で調整することが可能な撮像角度調整システム、撮像角度調整方法及びプログラムを提供することを目的とする。【解決手段】撮像角度調整システム1は、カメラ200の撮像画像を取得し、カメラ200の3次元の撮像角度を取得し、撮像画像の被写体を画像解析し、画像解析した被写体と、取得した撮像角度とを対応付けて記憶する。さらに、撮像角度調...

    撮像角度調整システム、撮像角度調整方法及びプログラム

  4. 【課題・解決手段】半導体装置等の製造プロセスでは、従来より高温度で硬化を行いレジストの硬化不良を回避している。したがって、従来より剥離力の強い剥離液が必要となる。二級アミンと、極性溶媒として、プロピレングリコール(PG)と、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)と、2−ピロリドン(2P)若しくは1−メチル−2−ピロリドン(NMP)の少なくとも一方と、水と、ヒドラジンを...

    レジスト剥離液

  5. 【課題・解決手段】半導体装置等の製造プロセスでは、従来より高温度で硬化を行いレジストの硬化不良を回避している。したがって、従来より剥離力の強い剥離液が必要となる。二級アミンと、極性溶媒として、1,3−ジメチルー2−イミダゾリジノン(DMI)と、水を含み、添加剤としてヒドラジンを含み、前記水は、10.0質量%以上31.0質量%未満であることを特徴とするレジスト剥離液は、...

    レジスト剥離液

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その他の分野

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