2種以上の炉に見出される種類のものである限りにおける,炉,キルン,窯またはレトルトの細部または付属品 に関する技術一覧

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2種以上の炉に見出される種類のものである限りにおける,炉,キルン,窯またはレトルトの細部または付属品に所属する技術動向

2種以上の炉に見出される種類のものである限りにおける,炉,キルン,窯またはレトルトの細部または付属品の分野に属する技術の状況としては、2016年に394件、2017年に431件の新たな技術が出願されるといった動きがあります。

また、2種以上の炉に見出される種類のものである限りにおける,炉,キルン,窯またはレトルトの細部または付属品の分野においては特に近年炉内の装入物のための支持装置,隔壁,または類似のものの分野における動向が活発であり、他にも炉または炉内の装入物の冷却や このサブクラスの他のいずれのグループにも包含されない細部または付属品といった分野においても、日々新たな動きが生まれています。

この分野でのメインプレイヤーとしては新日鐵住金株式会社やJFEスチール株式会社、黒崎播磨株式会社が豊富な実績を残しており、 新日鐵住金株式会社などは、 金属の鋳造,同じ方法または装置による他の物質の鋳造や石灰,マグネシア,スラグ,セメント,その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料,人造石,セラミックス,耐火物,天然石の処理といった分野も含め、 黒崎播磨株式会社やNSプラント設計株式会社といった法人と共に共同研究を行っている実績もあります。

注目の技術

2種以上の炉に見出される種類のものである限りにおける,炉,キルン,窯またはレトルトの細部または付属品』に分類される技術のうち、技術力の高さや近年注目されている・今後活用可能性の高いと目されている技術の一覧です。

  1. 【課題・解決手段】半導体基板のような物体を加熱するパルス処理方法およびシステムは、単一の基板のマルチパルス処理、または異なった物理特性を有する異なった基板の単一パルス処理またはマルチパルス処理のプロセス制御を特徴とする。熱は、バックグラウンド加熱モードの間に、物体(36)へ制御可能な方法で加えられ、それによって選択的に物体(36)を加熱して、バックグラウンド加熱の間に...

    加熱源の組み合わせを使用する半導体パルス加熱処理方法

  2. 【課題】高価な耐熱フィルタの使用を極力抑え、かつ、加熱効率の高い平面ガラス基板用連続式焼成炉を提供する。【解決手段】炉内壁表面に不銹金属材料を用いたエアタイト構造とするとともに、独立して温度制御可能な複数のゾーンから構成し、各ゾーンにそれぞれ給気量制御用ダンパ16を有するクリーンエアー供給管1aと排気量制御用ダンパ17を有する炉内雰囲気排気管1bを接続し、かつ、ゾーン...

    平面ガラス基板用連続式焼成炉

  3. 【課題】プラズマ・ディスプレイ・パネルの製造工程において、ガラス基板の上に形成されたペースト膜を乾燥するに際し、ペースト膜の内部に有機溶媒が残存した状態でペースト膜表面に乾燥した皮膜が形成されることを防止して、ペースト膜が十分に乾燥されるようにする。【解決手段】被処理物を熱処理する熱処理ゾーンを有する熱処理装置において、熱処理ゾーン内にガスを供給する給気部と熱処理ゾー...

    熱処理装置

  4. 【課題】例えば半導体ウエハをバッチで熱処理する縦型熱処理装置においてヒータの発熱パターン(ヒータ形状や各部の発熱量)を高い自由度で調整することができ、均熱性の高い処理領域を形成すること。【解決手段】縦型の反応容器を囲むように筒状の断熱体や銃面を有する熱反射体を設け、この内側に、細いカーボン部材の束を複数用いて編み込むことにより形成されたカーボンワイヤを石英管の中に封入...

    熱処理装置

  5. 【課題】構成を複雑化せずにワークを輻射熱で加熱できるリフロー装置を提供する。【解決手段】上部炉体部11では、シロッコファン30を動作させて送風路21からヒータ32,33方向に送風し、ヒータ32,33で雰囲気を加熱して熱風とし、整流板41の透孔42で整流した後、輻射パネル43の透孔44を介してワークwの上面に熱風を供給する。ヒータ32,33は遠赤外線を照射して輻射パネル...

    リフロー装置

新着の技術

2種以上の炉に見出される種類のものである限りにおける,炉,キルン,窯またはレトルトの細部または付属品』に分類される技術のうち、最近新たに出願された技術の一覧です。

  1. 【課題・解決手段】焼成用セッターは、セラミックス製であり、表面層と中間層と裏面層を備えている。中間層は、ハニカム構造を有しており、表面層及び裏面層より低密度である。また、表面層は、平板状であり、厚みが50μm以上2000μm以下である。さらに、表面層は、開気孔率が5%以上50%以下である。

    焼成用セッター

  2. 【課題】溶融ガラス内に含まれた不純物を回収できるガラス製品の製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】ガラス製品の製造装置100は、ガラス材料が投入される投入口10と、ガラス溶融炉20と、少なくとも1つのノズル41と、ガラス溶融炉20及びノズル41を加熱する加熱手段70と、少なくとも1つの冷却手段80とを備える。ガラス溶融炉20は、少なくとも内壁面が耐火材料から...

    ガラス製品の製造装置、該ガラス製品の製造方法、及び白金族金属の回収方法

  3. 【課題】排気筒が閉塞しにくいロータリーキルンを提供することを課題とする。【解決手段】ロータリーキルン1は、軸周りに回転可能であって、マトリックス樹脂と炭素繊維10Sとを有する炭素繊維強化樹脂製の被処理物10を内部で加熱することにより、被処理物10から炭素繊維10Sを抽出する管体30と、管体30の側周壁を貫通して配置され、管体30の内部においてマトリックス樹脂から生成さ...

    ロータリーキルン

  4. 【課題】リンテル上部が水冷構造でなくエネルギー損失が少なく、水漏れトラブルも発生せず操業が休止せず、リンテル下部が従来とは異なる構成で破損し難いリンテル構造の提供。【解決手段】加熱炉の扉の内面側に存するリンテル構造10であって、一方端部を上部に固定され吊るされている複数の金属製つり棒12と、金属製つり棒12に固定された複数の板状金物14と、セラミックファイバーからなる...

    リンテル構造

  5. 【課題】適切に温度が調整された予熱ガスを高炉に吹込むことができる、高炉シャフト部への予熱ガス吹込み装置および予熱ガス吹込み方法を提供する。【解決手段】高炉シャフト部への予熱ガス吹込み装置であって、高炉ガスを昇圧する昇圧機と、昇圧された高炉ガスを燃焼して予熱ガスを生成する燃焼炉と、燃焼炉で生成された予熱ガスを貯蔵する貯蔵室と、貯蔵室に希釈ガスを供給する希釈ガス流路と、高...

    高炉シャフト部への予熱ガス吹込み装置、予熱ガス吹込み方法および高炉操業方法

2種以上の炉に見出される種類のものである限りにおける,炉,キルン,窯またはレトルトの細部または付属品の詳細カテゴリ一覧

2種以上の炉に見出される種類のものである限りにおける,炉,キルン,窯またはレトルトの細部または付属品の分類に属する、詳細カテゴリの一覧です。

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その他の分野

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