炉,キルン,窯,レトルト に関する技術一覧

「炉,キルン,窯,レトルト」に関する技術の関連情報です。 「炉,キルン,窯,レトルト」 の関連技術、「炉,キルン,窯またはレトルト一般,開放式焼結用または類似の装置」「2種以上の炉に見出される種類のものである限りにおける,炉,キルン,窯またはレトルトの細部または付属品」 など、その他「炉,キルン,窯,レトルト」に関する技術情報を、出願された情報を元に収録しています。 「炉,キルン,窯,レトルト」の分野ページはこちら

炉,キルン,窯,レトルトに所属する技術動向

炉,キルン,窯,レトルトの分野に属する技術の状況としては、2016年に526件、2017年に556件の新たな技術が出願されるといった動きがあります。

また、炉,キルン,窯,レトルトの分野においては特に近年炉,キルン,窯またはレトルト一般,開放式焼結用または類似の装置の分野における動向が活発であり、他にも炉,キルン,窯またはレトルト一般,開放式焼結用または類似の装置といった分野においても、日々新たな動きが生まれています。

この分野でのメインプレイヤーとしては新日鐵住金株式会社やJFEスチール株式会社、光洋サーモシステム株式会社が豊富な実績を残しており、 新日鐵住金株式会社などは、 冶金や成形といった分野も含め、 黒崎播磨株式会社やNSプラント設計株式会社といった法人と共に共同研究を行っている実績もあります。

注目の技術

炉,キルン,窯,レトルト』に分類される技術のうち、技術力の高さや近年注目されている・今後活用可能性の高いと目されている技術の一覧です。

  1. 【課題】被処理材を熱処理する場合において、使用する気体の量を最小限にする。【解決手段】亜音速〜音速の範囲の吐出速度で気体を気体吐出手段10から対象物44に向かって吐出してそれにより対象物を浮揚する浮揚装置;対象物に対して気体を気体吐出手段の気体吐出口12から吐出してそれにより対象物を上方で浮揚するプレート14を有して成る浮揚装置であって、プレートは、プレートで開口して...

    浮揚装置、浮揚搬送装置および熱処理装置

  2. 【課題・解決手段】半導体基板のような物体を加熱するパルス処理方法およびシステムは、単一の基板のマルチパルス処理、または異なった物理特性を有する異なった基板の単一パルス処理またはマルチパルス処理のプロセス制御を特徴とする。熱は、バックグラウンド加熱モードの間に、物体(36)へ制御可能な方法で加えられ、それによって選択的に物体(36)を加熱して、バックグラウンド加熱の間に...

    加熱源の組み合わせを使用する半導体パルス加熱処理方法

  3. 【課題】廃棄物のガス化において、タールを形成することなく、高ガス化ガスの発熱量の低下を防止し、廃棄物の焼却において、排ガス又は焼却灰中の有害物質の量を少なくすることを可能とする廃棄物の処理方法を提供すること。【解決手段】有機系廃棄物のガス化に際し、ガス化炉内にガス化促進剤として、有機系廃棄物の焼却に際し、燃焼場に燃焼促進剤として、焼却灰に有害物質分解剤として、排ガスに...

    廃棄物の処理方法

  4. 【課題】下方吸引式焼結機の操業において、装入層中に、希釈した気体燃料を供給することで、装入層全体の通気性を悪化させることなく、高強度の焼結鉱を高歩留で製造することのできる技術を提案する。【解決手段】焼結機のパレット上に堆積させた焼結原料の装入層の上から各種の気体燃料を供給して焼結鉱を製造する方法において、パレット上の前記装入層の上から供給する気体燃料として、燃焼下限濃...

    焼結鉱の製造方法および焼結機

  5. 【課題】高価な耐熱フィルタの使用を極力抑え、かつ、加熱効率の高い平面ガラス基板用連続式焼成炉を提供する。【解決手段】炉内壁表面に不銹金属材料を用いたエアタイト構造とするとともに、独立して温度制御可能な複数のゾーンから構成し、各ゾーンにそれぞれ給気量制御用ダンパ16を有するクリーンエアー供給管1aと排気量制御用ダンパ17を有する炉内雰囲気排気管1bを接続し、かつ、ゾーン...

    平面ガラス基板用連続式焼成炉

新着の技術

炉,キルン,窯,レトルト』に分類される技術のうち、最近新たに出願された技術の一覧です。

  1. 【課題・解決手段】燃料供給システムは、高炉1の送風管4に設けられた取付部に取付可能な筒状部材30、筒状部材30の内部に回転自在に収容され、その基端部分から内部に燃料が供給される中空形状の回転部材40、回転部材40における高炉1側の端縁に取り付けられ、その先端部分から燃料が高炉1内に供給されるパイプ部材20、および回転部材40を回転駆動させる駆動部(例えば、中空ステッピ...

    燃料供給システム

  2. 【課題・解決手段】本発明は、経路に沿って走行する貯蔵機の上方に配置される第1ホッパーと、前記第1ホッパーの下方から斜めに延長され、延長方向と交差する方向に貫通する開口を備える第1装入シュートと、前記貯蔵機の上方で前記第1ホッパーから離隔されて配置される第2ホッパーと、及び前記第2ホッパー及び第1装入シュートの下方から斜めに延長される第2装入シュートとを含む原料装入装置...

    原料装入装置及び方法

  3. 【課題・解決手段】チャネル(3)を通って流れる、1barよりも高い圧力の炉頂ガス流を処理するプロセスおよび装置。石灰などのアルカリ性試薬および/または活性炭などの吸収剤を含む粉末などの粉末薬剤(2)が、チャネル内で中央に配置されたインジェクタ(6)を介して炉頂ガス流内へ過圧下で噴射される。粉末薬剤は流動化されてもよい。粉末を噴射するための圧力は、通気出口(24)を介し...

    炉頂ガスを処理するプロセスおよび装置

  4. 【課題・解決手段】溶融粒子であって、− 前記溶融粒子が、ジルコニア相又はスピネル相で本質的に構成されている内包物を包囲している、ジルコニア−スピネル共晶のマトリックスを含有しており、− 前記溶融粒子が、酸化物の形態において示した重量百分率としての次の全体の化学組成、すなわち、 45.0%超95.0%未満のZrO2、 3.0%超40.0%未満のAl2O3、 1...

    溶融スピネル−ジルコニア粒子、及びこの粒子から得られる耐火材料

  5. 【課題】被処理物の温度の偏りが抑制される過熱蒸気処理装置を提供する。【解決手段】過熱蒸気処理装置1は被処理物を収容する空間61Bが形成された反応炉60と、反応炉60内に収容された被処理物を攪拌する攪拌部90と、反応炉60内に過熱蒸気を供給できるように空間61Bに設けられた蒸気供給口132Aと反応炉内の過熱蒸気を排出できるように設けられた蒸気排出口と、反応炉内から排出さ...

    過熱蒸気処理装置

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