乾燥 に関する技術一覧

「乾燥」に関する技術の関連情報です。 「乾燥」 の関連技術、「固体材料または固形物から液体を除去することによる乾燥」 など、その他「乾燥」に関する技術情報を、出願された情報を元に収録しています。 「乾燥」の分野ページはこちら

乾燥に所属する技術動向

乾燥の分野に属する技術の状況としては、2016年に315件、2017年に312件の新たな技術が出願されるといった動きがあります。

また、乾燥の分野においては特に近年固体材料または固形物から液体を除去することによる乾燥の分野における動向が活発です。

この分野でのメインプレイヤーとしては井関農機株式会社やパナソニック株式会社、月島機械株式会社が豊富な実績を残しており、 株式会社日立製作所などは、 基本的電気素子や計算,計数といった分野も含め、 株式会社ルネサス東日本セミコンダクタや株式会社日立ハイテクノロジーズといった法人と共に共同研究を行っている実績もあります。

注目の技術

乾燥』に分類される技術のうち、技術力の高さや近年注目されている・今後活用可能性の高いと目されている技術の一覧です。

  1. 【課題・解決手段】本発明は、金属性抵抗加熱器及びその使用法を特徴とする。該抵抗加熱器は、導電性の(すなわち低い抵抗率を有する)金属成分と、電気絶縁性の(すなわち高い抵抗率を有する)金属成分の酸化物、窒化物、炭化物、及び/または硼化物誘導体とを含む。抵抗率は、金属成分及び誘導体の堆積中の酸化物、窒化物、炭化物、及び硼化物形成の量を制御することによって部分的に制御される。

    抵抗加熱器及びその使用法

  2. 【課 題】比較的低い温度でも比較的短時間で乾燥させることができ、かつ、庫内に給水される水を低いランニングコストで温めることができるとともに、洗濯以外の用途にも使用可能である洗濯乾燥機を提供する。【解決手段】洗濯乾燥機(K)は、洗濯物を収納する庫内(3)と、洗濯物を攪拌する攪拌装置(4)と、庫内の空気を吸い込む吸込口(11)と、吸込口から吸い込まれた空気を、風路(16...

    洗濯乾燥機

  3. 【課題】水分を多く含んだ状態で細断すると生ゴミが粥状になるとか、粘性が高い団塊状となるとか、乾燥が進むとマイクロ波照射による局所的な加熱過多となって発火したり焦げ付く等の問題を解消する。【解決手段】回転カッタを回転させるカッタモータの回転を複数のステップに切り替え、各ステップ毎に切替時間及び回転数を任意に設定できるカッタモータ制御手段を備える。タッチ操作パネルの画面上...

    生ゴミ処理機

  4. 技術 乾燥機

    【課題】ノズル部の構成を特に複雑化したり、新たなエネルギーロスを生じたり、また、風切り音を発生させたりすることなく騒音を抑制することのできる乾燥機を提供する。【解決手段】、送風ファンと、送風ファンの駆動源と、送風ファンに連結され送風ファンにより生成される空気流を噴出させるノズルを備えた乾燥機において、ノズルの先端部に空気流との接触面にて平滑面を有した多孔質体にて構成さ...

    乾燥機

  5. 技術 乾燥機

    【課題】ランニングコストを低減できる乾燥機を提供すること。【解決手段】乾燥ユニット2は、回転軸1aに支持された乾燥剤ロータ1が第1の空気通路5と第2の空気通路6とに跨がって配置されている。第2の空気通路6には、温水式熱交換器7と凝縮器8とが設置されている。温水式熱交換器7は、空気の流れ方向で乾燥剤ロータ1の上流に設置されて、蓄熱タンクに溜められた高温のブライン(熱媒体...

    乾燥機

新着の技術

乾燥』に分類される技術のうち、最近新たに出願された技術の一覧です。

  1. 【課題】乾燥装置の乾燥効率を向上させること。【解決手段】本発明では、被乾燥物に含有される水分を蒸発させることで被乾燥物を乾燥させる乾燥装置(1)において、被乾燥物に含有される水分を蒸発させて乾燥物と蒸気とに分離するための分離部(21)と、分離部(21)で分離した乾燥物を収集するための収集部(22)と、分離部(21)と収集部(22)との間に設けて分離部(21)で分離した...

    乾燥装置及び乾燥方法

  2. 【課題】乾燥海苔製造設備の品質評価の低下による利益率の低下、エネルギー消費原単位の悪化によるエネルギー費の上昇、深夜及び厳寒期等の劣悪な環境下でのメンテナンス作業にかかる保守費の上昇による製造コストの悪化を防止する。【解決手段】乾燥海苔製造装置の品質の維持又は品質低下原因の遡及を支援し、メンテナンス作業を支援し、製造におけるエネルギー原価の低減を支援するシステムにおい...

    乾燥海苔製造支援システム

  3. 【課題】半導体基板洗浄後の洗浄液乾燥時に発生するパターンの倒れや崩壊等を抑制し、効率よく洗浄液を除去できる洗浄乾燥方法を提供する。【解決手段】パターンが形成された半導体基板1を洗浄液3で洗浄し、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を含有する樹脂及び溶剤を含む組成物溶液を用いて半導体基板1上に残留した洗浄液3を置換した後、溶剤を樹脂の分解温度未満の温度で加熱除去し、半...

    半導体基板の洗浄乾燥方法

  4. 【課題】本発明は、原料液の冷却設備が不要で、通常の噴霧乾燥設備を利用でき、効率的で、キャビテーションのリスクも低い噴霧乾燥システムを提供するものである。また、多孔質で有ることに加え、粉末の直径を大きくすることで、溶解性を向上させた粉末を提供する。【解決手段】二酸化炭素の臨界点以上の条件下にある原料液に、超臨界二酸化炭素を定量的に添加可能な、超臨界二酸化炭素連続供給装置...

    噴霧乾燥システム及び噴霧乾燥方法

  5. 技術 乾燥装置

    【課題】被乾燥体への加熱及び冷却の急速な熱サイクルが可能になり、よって、被乾燥体の基材の表面に微細な配線パターンを縁の乱れが無く、所望のパターンを精度良く得られることができる。【解決手段】基台と、該基台の上方に配設された熱源と、該熱源を冷却するために該熱源の上方及び又は側面に配設され、冷媒を貫通させるための冷媒用管体とを備え、熱源の中心と冷媒用管体の中心との間隔は、2...

    乾燥装置

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