機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程 に関する技術一覧

「機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程」に関する技術の関連情報です。 「機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程」 の関連技術、「化学的手段による金属質材料のエッチング」「腐食のおそれがある表面への抑制剤の適用または腐食媒体への抑制剤の添加による金属質材料の防食」 など、その他「機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程」に関する技術情報を、出願された情報を元に収録しています。 「機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程」の分野ページはこちら

機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程に所属する技術動向

機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程の分野に属する技術の状況としては、2017年に224件、2018年に164件の新たな技術が出願されるといった動きがあります。

また、機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程の分野においては特に近年化学的手段による金属のつや出しの分野における動向が活発であり、他にも物理的または化学的目的のための液体加熱装置の鉱皮の抑制や 少なくとも1工程はクラスC23に分類され,少なくとも1工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程といった分野においても、日々新たな動きが生まれています。

この分野でのメインプレイヤーとしては新日鐵住金株式会社や栗田工業株式会社、東京エレクトロン株式会社が豊富な実績を残しており、 株式会社日立製作所などは、 半導体装置,他に属さない電気的固体装置や電気的デジタルデータ処理といった分野も含め、 株式会社日立プラントテクノロジーや日立交通テクノロジー株式会社といった法人と共に共同研究を行っている実績もあります。

注目の技術

機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程』に分類される技術のうち、技術力の高さや近年注目されている・今後活用可能性の高いと目されている技術の一覧です。

  1. 【課題】耐食性に優れ、長時間使用しても接触電気抵抗の増加が小さい通電部品用ステンレス鋼材の製造方法の提供。【解決手段】ステンレス鋼材を酸性水溶液中で腐食して、その表面に導電性を有するM23C6型、M4C型、M2C型、MC型炭化物系金属介在物およびM2B型硼化物系金属介在物のうちの1種以上を露出させ、次いでpHが7以上であるアルカリ性水溶液中により中和処理をおこない、そ...

    通電部品用ステンレス鋼材の製造方法

  2. 【課題】ストリーマー放電の発生を防ぐとともに、被処理物の大面積を効率良くプラズマ処理できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】このプラズマ処理装置は、少なくとも一対の電極と、電極間に定義される放電空間にプラズマ生成用ガスを供給するガス供給手段と、電極間に交流電圧を印加して、放電空間にプラズマ生成用ガスのプラズマを生成するための電力供給手段とを含むものであり、一対の...

    プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

  3. 【課題】露光によるレジストパターンの形成においては、波長による微細化の限界があり、これを超える必要がある。【解決手段】露光により酸を発生する材料を含むレジストパターンの上を、酸の存在で架橋する材料を含むレジストで覆う。加熱又は露光によりレジストパターン中に酸を発生させ、界面に生じた架橋層をレジストパターンの被覆層として形成し、レジストパターンを太らせる。これにより、レ...

    微細パターン形成材料及びこれを用いた半導体装置の製造方法並びに半導体装置

  4. 【課題】処理容器内壁の腐食の問題が生じ難い処理装置を提供すること。また、耐プラズマ性および耐腐食ガス性に優れた、処理装置に用いられる耐食性部材を提供すること。【解決手段】被処理基板であるウエハWを収容するチャンバー11と、チャンバーの11上方に設けられたベルジャー12と、ベルジャー12内に誘導電磁界を形成するためのアンテナ部材としてのコイル65と、コイル65に高周波電...

    処理装置およびそれに用いられる耐食性部材

  5. 【課題】ポリイミドフィルムを使用した2層めっき基板のエッチング処理において微細配線でも短絡がなく高い絶縁抵抗値が得られるエッチング方法及びエッチング液を提供する。【解決手段】この2層めっき基板はポリイミドフィルム1と銅層3,4の密着性の改善やマイグレーション防止を目的として薄いNi−Cr合金のスパッタリング膜2が施されている。本発明は塩化第2鉄溶液又は塩酸を含む塩化第...

    プリント配線板のエッチング方法及びエッチング液

新着の技術

機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程』に分類される技術のうち、最近新たに出願された技術の一覧です。

  1. 【課題】硝酸イオンを含有する水系において、水系に用いられている軟鋼のような金属部材の局部腐食を効果的に抑制し、リンの使用量をなるべく抑え、スケール化を抑制し得る方法を提供することを課題とする。【解決手段】硝酸イオンを含有する水系に、亜鉛含有化合物および/またはリン酸含有化合物を含む金属防食剤と共にホスホン酸類を添加して、前記水系における金属の局部腐食を抑制することを特...

    水系における金属の局部腐食抑制方法

  2. 【課題】ポータブル電子デバイス用のマルチピースエンクロージャの提供。【解決手段】エンクロージャは、金属基板204と、金属基板を覆う金属酸化物層206とを含む金属部分240を含み、金属酸化物層は、アンダーカット領域に通じる開口部を含む外部面254を有する。開口部は、第1の幅を有するものとして特徴付けられ、アンダーカット領域は、第1の幅よりも大きい第2の幅を有するものとし...

    ポリマー材料を陽極酸化金属に接合するエッチング

  3. 【課題】蒸着によって形成されるパターンの精度を向上可能とした蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】蒸着マスクを形成するための金属板の幅方向での各位置における金属板の長手方向に沿った形状は、金属板の長手方向に繰り返す波を有し、波における一方の谷から他方の谷までを結ぶ直線の長さが波の長さであり...

    蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法および表示装置の製造方法

  4. 【課題】防汚性に優れた保護部材およびこれを用いた移動体、ならびに保護部材の形成方法を提供する。【解決手段】基材1上に形成される保護部材2は、水溶性高分子と防錆剤とからなり、保護部材2は、水溶性である。また、保護部材2を有する移動体は、保護部材2が、移動体を構成する基材1上に形成され、水溶性高分子と防錆剤とからなる。また、保護部材2の形成方法は、(a)基材1上に水溶性高...

    保護部材、移動体および保護部材の形成方法

  5. 【課題】蒸着によって形成されるパターンの精度を向上可能とした蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】蒸着マスクを形成するための金属板の幅方向での各位置における金属板の長手方向に沿った形状は、金属板の長手方向に繰り返す波を有し、波における一方の谷から他方の谷までを結ぶ直線の長さが波の長さであり...

    蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法および表示装置の製造方法

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機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程の分類に属する、詳細カテゴリの一覧です。

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その他の分野

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