金属質材料への被覆,金属質材料による材料への被覆,化学的表面処理,金属質材料の拡散処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般,金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般 に関する技術一覧

「金属質材料への被覆,金属質材料による材料への被覆,化学的表面処理,金属質材料の拡散処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般,金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般」に関する技術の関連情報です。 「金属質材料への被覆,金属質材料による材料への被覆,化学的表面処理,金属質材料の拡散処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般,金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般」 の関連技術、「金属質への被覆,金属材料による材料への被覆,表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般」「金属へのほうろう被覆またはガラス質層の形成」 など、その他「金属質材料への被覆,金属質材料による材料への被覆,化学的表面処理,金属質材料の拡散処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般,金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般」に関する技術情報を、出願された情報を元に収録しています。 「金属質材料への被覆,金属質材料による材料への被覆,化学的表面処理,金属質材料の拡散処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般,金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般」の分野ページはこちら

金属質材料への被覆,金属質材料による材料への被覆,化学的表面処理,金属質材料の拡散処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般,金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般に所属する技術動向

金属質材料への被覆,金属質材料による材料への被覆,化学的表面処理,金属質材料の拡散処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般,金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般の分野に属する技術の状況としては、2017年に4,084件、2018年に3,105件の新たな技術が出願されるといった動きがあります。

また、金属質材料への被覆,金属質材料による材料への被覆,化学的表面処理,金属質材料の拡散処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般,金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般の分野においては特に近年金属へのほうろう被覆またはガラス質層の形成の分野における動向が活発であり、他にも電解法以外の化学的方法による金属質材料の清浄または脱脂や 機械方法によらない表面からの金属質材料の除去,金属質材料の防食,鉱皮の抑制一般,少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程といった分野においても、日々新たな動きが生まれています。

この分野でのメインプレイヤーとしては新日鐵住金株式会社や東京エレクトロン株式会社、JFEスチール株式会社が豊富な実績を残しており、 日本製鉄株式会社などは、 冶金や成形といった分野も含め、 NSプラント設計株式会社や日本ペイントホールディングス株式会社といった法人と共に共同研究を行っている実績もあります。

注目の技術

金属質材料への被覆,金属質材料による材料への被覆,化学的表面処理,金属質材料の拡散処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般,金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般』に分類される技術のうち、技術力の高さや近年注目されている・今後活用可能性の高いと目されている技術の一覧です。

  1. 【課題】摩擦係数が低く、潤滑油下での利用に最適な被膜と被覆部材を提供する。【解決手段】基材1上に被膜2を設けた被覆部材である。この被膜は摺動面の少なくとも一部に設ける。被膜2は炭素を主成分とする層を具える。そして、この被覆部材を潤滑油の存在下で用いる。潤滑油には芳香族化合物を含有することが望ましい。

    硬質被膜及び被覆部材

  2. 【課題】耐食性に優れ、長時間使用しても接触電気抵抗の増加が小さい通電部品用ステンレス鋼材の製造方法の提供。【解決手段】ステンレス鋼材を酸性水溶液中で腐食して、その表面に導電性を有するM23C6型、M4C型、M2C型、MC型炭化物系金属介在物およびM2B型硼化物系金属介在物のうちの1種以上を露出させ、次いでpHが7以上であるアルカリ性水溶液中により中和処理をおこない、そ...

    通電部品用ステンレス鋼材の製造方法

  3. 【課題】水素還元作用による劣化を抑制した優れた特性の強誘電体キャパシタを持つ半導体装置を提供する。【解決手段】シリコン基板1上に絶縁膜2を介して、第1の水素バリア膜101、下部電極膜30、強誘電体膜4、上部電極膜50及び第2の水素バリア膜102を順次堆積し、マスク103を用いて水素バリア膜102及び上部電極膜50を順次エッチングして上部電極5をパターン形成する。露出し...

    半導体装置及びその製造方法

  4. 【課題】大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して、安定して発生させ、単一の処理ガスのみならず複数の処理ガスを用いた薄膜形成、エッチング処理、アッシング処理等の工程における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法の提供。【解決手段】3枚以上の電極によって2つ以上の放電空間を形成してなり、前記放電空間を形成する電極対向面の少なくと...

    放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法

  5. 【課題】CVD及びALDに有用な前駆原料混合物、これを用いて膜を成長させる方法、及びこの膜を組み込む電子素子を形成する方法の提供。【解決手段】Li等の金属元素を含む、少なくとも1つの前駆化合物であり、前駆化合物に、水素化物等の元素を含む、少なくとも1つの前駆物質を含み、これが脂肪族炭化水素等の不活性液内に溶解、乳化または浮遊される。前駆原料混合物は、溶液、乳濁液または...

    前駆原料混合物、膜付着方法、及び構造の形成

新着の技術

金属質材料への被覆,金属質材料による材料への被覆,化学的表面処理,金属質材料の拡散処理,真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般,金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般』に分類される技術のうち、最近新たに出願された技術の一覧です。

  1. 【課題・解決手段】実施形態により開示される蒸着装置は、電磁石(3)によって蒸着マスク(1)が吸着される構造になっており、電磁石(3)が第1の方向の磁界を発生させる第1の電磁石(3A)と第1の方向とは逆方向の第2の方向の磁界を発生させる第2の電磁石(3B)を含んでいる。その結果、電流の投入時に第1及び第2の電磁石(3A、3B)を同時に動作させることによって、発生する磁界...

    蒸着装置、蒸着方法及び有機EL表示装置の製造方法

  2. 【課題・解決手段】一実施形態の有機EL表示装置の製造方法は、蒸着源と対向する面に改質処理が施された(S2)蒸着マスクの一面に支持基板が装着され(S3)、蒸着マスクに向かって所望の有機材料を飛散させることで支持基板の所望の場所に複数層からなる有機層が積層され(S4)、有機層の上に第2電極が形成される(S8)。そして、複数層からなる有機層の積層の前、複数層からなる有機層の...

    有機EL表示装置の製造方法及び製造装置

  3. 【課題・解決手段】本発明は、様々な品質の燃料やその燃焼ガスや劣化した潤滑油と直接接触するような厳しい腐食環境に耐えられる耐食性およびステンレス鋼と同等以上の機械的特性を兼ね備え、かつNi基合金よりも低コスト化が可能な合金製造物、および該製造物の製造方法を提供することを目的とする。本発明のCr-Fe-Ni系合金を用いた製造物は、前記合金の化学組成が45〜75質量%のCr...

    Cr−Fe−Ni系合金製造物およびその製造方法

  4. 【課題・解決手段】実施形態により開示される蒸着装置は、電磁石(3)により蒸着マスクが吸着される構造になっており、電磁石(3)を駆動する電源回路(6)と電磁石(3)との間に接続され、電磁石(3)への電流の印加の際に電磁石(3)によって発生する磁界を緩やかに変化させる制御回路(7)を含んでいる。その結果、電磁石(3)の電磁コイル(32)に流れる電流の変化が緩やかになり、電...

    蒸着装置、蒸着方法及び有機EL表示装置の製造方法

  5. 【課題】 被洗浄物に付着した大量の汚染グリースを、容易且つ確実に除去する。【解決手段】 被洗浄物5,25のオーバーホール時に、この被洗浄物5,25に付着した汚染グリースを滴点以上に加熱することにより、被洗浄物5,25から汚染グリースを液化除去する方法であって、この汚染グリースの滴点以上の加熱は、汚染グリースの滴点以上の沸点を有する完全フッ素化液、加熱油、又はグリー...

    グリースが付着した被洗浄物の汚染グリース除去洗浄方法

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その他の分野

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