三菱マテリアル株式会社 に関する公開一覧

三菱マテリアル株式会社」に該当した技術の詳細情報一覧です。あらゆる文献や技術を元に、価値のある「三菱マテリアル株式会社」の詳細情報や、「三菱マテリアル株式会社」を活用可能な分野・領域の探索など、目的にあった情報を見つける事ができます。 「三菱マテリアル株式会社」の法人詳細ページはこちら

  1. 【課題・解決手段】Wを5〜55質量%含有し、残部がWC及び不可避不純物からなる超硬質焼結体であって、高硬度及び高強度に優れる超硬質焼結体を提供する。

    超硬質焼結体

  2. 【課題・解決手段】腐食防止効果が高く、接触抵抗も低い錫めっき付端子材及びその端子材からなる端子、並びにその端子を用いた電線端末部構造を提供する。銅又は銅合金からなる基材2と、基材2の上に形成され亜鉛合金からなる亜鉛層4と、亜鉛層4の上に形成され錫合金からなる錫層5とを有し、亜鉛層4及び錫層5全体における単位面積あたり錫量が0.30mg/cm2以上7.00mg/cm2以...

    錫めっき付銅端子材及び端子並びに電線端末部構造

  3. 【課題】Ti基合金などの難削材の高能率高送り切削加工において、潤滑性、耐溶着性、耐チッピング性にすぐれた表面被覆切削工具を提供する。【解決手段】炭化タングステン基超硬合金、炭窒化チタン基サーメット、立方晶窒化硼素焼結体および高速度工具鋼のいずれかからなる工具基体の表面に、硬質被覆層が設けられた表面被覆切削工具において、前記硬質被覆層は、少なくとも、AlとCrとBとWと...

    表面被覆切削工具

  4. 【課題】潤滑性を有し優れた耐摩耗性を備えた表面被覆切削工具の提供。【解決手段】平均層厚1.0〜20.0μmのTiとAlの複合窒化物または複合炭窒化物層を含み、複合窒化物または複合炭窒化物層は、NaCl型の面心立方構造を有する結晶粒を含み、(Ti1−xAlx)(C1−yNy)で表した場合、0.65≦x≦0.95、0.995<y≦1.000、Clの含有割合αは、0.001...

  5. 【課題】Ti基合金などの難削材の高能率・高速切削加工において、潤滑性、耐溶着性、耐チッピング性にすぐれた表面被覆切削工具を提供する。【解決手段】炭化タングステン基超硬合金、炭窒化チタン基サーメット、立方晶窒化硼素焼結体および高速度工具鋼のいずれかからなる工具基体の表面に、硬質被覆層が設けられた表面被覆切削工具において、前記硬質被覆層は、少なくとも、AlとCrとBとWと...

    表面被覆切削工具

  6. 【課題】Ti基合金などの難削材の高能率・高速切削加工において、潤滑性、耐溶着性、耐チッピング性にすぐれた表面被覆切削工具を提供する。【解決手段】炭化タングステン基超硬合金、炭窒化チタン基サーメット、立方晶窒化硼素焼結体および高速度工具鋼のいずれかからなる工具基体の表面に、硬質被覆層が設けられた表面被覆切削工具において、前記硬質被覆層は、少なくとも、AlとCrとBとWと...

    表面被覆切削工具

  7. 【課題】フッ素が多く残留し銅やヒ素を十分に除去できず、汚泥量が多いと云う従来の課題を解決し、フッ素量の少ない石膏を回収でき、汚泥量が少ない処理方法を提供する。【解決手段】フッ素および重金属を含有する酸性廃液にアルミニウムを溶解して液中のフッ素をフルオロアルミン酸イオンにし、重金属の還元澱物を生成させて分離するアルミニウム溶解工程、次にpH4以下の液性下でカルシウム化合...

    廃水の処理方法

  8. 【課題】フッ素および重金属を含有する廃水の処理方法について、フッ素が液中に多く残留し、また銅やヒ素を十分に除去することができず、汚泥量が多いと云う従来の課題を解決し、フッ素量の少ない石膏を回収でき、汚泥量が少ない処理方法を提供する。【解決手段】フッ素および重金属を含有する酸性廃液にアルミニウムを溶解するアルミニウム溶解工程、重金属還元澱物の分離後に、pH4以下の液性下...

    廃水の処理方法

  9. 【課題】軸受としての摺動特性を向上させ、さらに、高速・高荷重の環境下での使用を可能とした焼結含油軸受及びその製造方法を提供する。【解決手段】焼結含油軸受は、軸が挿入される軸受孔の内周面に、前記軸の外周面を支持する摺動面と、前記摺動面に隣接し該摺動面よりも径方向外側に配置された給油面と、を有し、前記摺動面に固体潤滑剤が3%以上20%以下の面積率で分布されており、前記摺動...

    焼結含油軸受及びその製造方法

  10. 【課題】 耐熱試験前後の抵抗値変化がより小さく、高B定数が得られるサーミスタ及びその製造方法並びにサーミスタセンサを提供すること。【解決手段】 基材2上に形成されたサーミスタ1であって、基材上に形成されたサーミスタであって、基材上に形成された中間積層部7と、中間積層部上に金属窒化物のサーミスタ材料で形成された主金属窒化膜層4とを備え、中間積層部が、金属窒化物のサー...

    サーミスタ及びその製造方法並びにサーミスタセンサ

  11. 【課題】NaとKとを含み、密度が高く、かつ、異常放電の発生が抑制され、長寿命化を図ることが可能なCu−Ga合金スパッタリングターゲット、及び、このCu−Ga合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。【解決手段】金属成分として、Gaを20原子%以上40原子%以下の範囲で含有し、さらにNa及びKを合計で0.05原子%以上1.0原子%以下の範囲で含有し、残部がCuお...

    Cu−Ga合金スパッタリングターゲット、及び、Cu−Ga合金スパッタリングターゲットの製造方法

  12. 【課題】比抵抗値が十分に低く安定してDC(直流)スパッタが可能であり、表面が平滑で、かつ、熱を加えた場合でも表面が平滑な酸化物膜を成膜可能な酸化物スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】金属元素として、Siと、Zrと、NbおよびTiの少なくともいずれかと、を含む酸化物からなり、Si、Nb、Ti及びZrの全原子数に対するSiの原子数比をa、Nbの原子数比をb、T...

    酸化物スパッタリングターゲット

  13. 【課題】 電極部に含まれるガラス成分に侵食され難く、絶縁性に優れた保護膜を有したサーミスタ及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 サーミスタ素体2と、サーミスタ素体の表面に形成されガラス成分を含有した一対の電極部3と、電極部がサーミスタ素体に接触する部分を除いてサーミスタ素体の表面に形成された絶縁性の保護膜4とを備え、電極部の一部が、保護膜上にも形成され、保...

    サーミスタ及びその製造方法

  14. 【課題】NaとKとを含み、大気中で保管しても変色が抑えられ、安定してスパッタ成膜することが可能なCu−Ga合金スパッタリングターゲット、及び、このCu−Ga合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。【解決手段】金属成分として、Gaを20原子%以上45原子%以下の範囲で含有し、さらにK及びNaを合計で0.1原子%以上2原子%以下の範囲で含有し、残部がCuおよび不...

    Cu−Ga合金スパッタリングターゲット、及び、Cu−Ga合金スパッタリングターゲットの製造方法

  15. 【課題】高硬度鋼の切削加工において、すぐれた耐欠損性、耐チッピング性を発揮し、長期の使用に亘りすぐれた切削性能を発揮するcBN焼結体切削工具を提供する。【解決手段】cBN粒子と結合相とを含む焼結体を工具基体とするcBN焼結体切削工具において、前記焼結体は、cBN粒子を40容量%以上60容量%未満およびAlが下限値で2質量%、上限値でYをAl含有割合(容量%)、XをcB...

    立方晶窒化硼素焼結体切削工具

  16. 【課題】ナトリウム含有ガラスを、セメント原料として用いられる珪石の代替品として利用可能に改質することができるセメント原料の製造方法を提供する。【解決手段】ナトリウム含有ガラスと、カルシウム含有塩化物と、水酸化カルシウム、炭酸カルシウムおよび酸化カルシウムからなる群より選ばれる少なくとも1種のカルシウム化合物とを含む混合物であって、前記ナトリウム含有ガラスに含まれるナト...

    セメント原料の製造方法

  17. 【課題】パワーモジュールを構成する各部品の接合界面の検査精度を良好に確保するとともに、回路層と樹脂との密着性を良好に確保できるパワーモジュール用基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】パワーモジュール用基板は、セラミックス基板と該セラミックス基板の一方の面に形成された銅又はアルミニウムからなる回路層とを備え、前記回路層は、素子が搭載される第1回路層領域と該第1回路...

    パワーモジュール用基板及びその製造方法

  18. 【課題】 アーク放電時の電圧の振動を抑制することができるサージ防護素子を提供すること。【解決手段】 絶縁性管2と、絶縁性管の両端開口部を閉塞して内部に放電制御ガスを封止する一対の封止電極3と、絶縁性管内に収納された柱状又は筒状の絶縁性部材4と、絶縁性部材の両端部に設けられ一対の封止電極の内面に接触した一対のキャップ電極5と、絶縁性部材の周面に導電性材料で形成された...

    サージ防護素子

  19. 【課題】スパッタリング法による成膜時に異常放電が起こりにくく、大型化、特に厚さを厚くしても磁性が生じにくく、かつ耐食性が高いCuNi合金膜を成膜できるCuNi合金スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】Niを17原子%以上57原子%以下の範囲内で含み、Ti、Mn、Fe、Co、Zn、Ta、LaおよびNdからなる群より選択される少なくとも1種の元素を合計で0.1原...

    CuNi合金スパッタリングターゲットおよびCuNi合金粉末

  20. 【課題】SiC焼結体と緻密質炭化珪素層とが剥がれにくいプラズマ処理装置用電極板及びその製造方法を提供する。【解決手段】Y2O3とSiCとを含むY2O3含有SiC焼結体12と、Y2O3含有SiC焼結体12の少なくとも一方の表面に備えられている緻密質炭化珪素層16とを有するプラズマ処理装置用電極板であって、Y2O3含有SiC焼結体12は、Y濃度が0.3質量%以上7質量%以...

    プラズマ処理装置用電極板およびプラズマ処理装置用電極板の製造方法

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