日本リーロナール株式会社 に関する公開一覧
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技術 電解銅めっき方法
【課題】めっき外観の悪化を生じさせず、フィルドビアの形成にも適した新規な電解銅めっき方法を提供する。【解決手段】−X−S−Y−構造(式中、XおよびYはそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子、硫黄原子、窒素原子および酸素原子からなる群から選択される原子であり、XおよびYは炭素原子の場合のみ同一となりうる。)を有する化合物を含む電解銅めっき液をオゾンと接触させることを含む、...
- 公開日:2004/06/24
- 出願人: 日本リーロナール有限会社
- 発明者: 土田秀樹 、...
- 公開番号:2004-176148号
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【課題・解決手段】本発明は、不溶性陽極を使用する電解銅めっき方法であって、−X−S−Y−構造(式中、XおよびYはそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子、硫黄原子、窒素原子および酸素原子からなる群から選択される原子であり、XおよびYは炭素原子の場合のみ同一となりうる。)を分子内に有する化合物を含む電解銅めっき液と不溶性陽極を用い、直流電流を使用して基体をめっきすることを特...
- 公開日:2004/02/19
- 出願人: 日本リーロナール有限会社
- 発明者: 清田優 、...
- 公開番号:WO2002-031228号