シャープ・マイクロエレクトロニクス・テクノロジー・インコーポレイテッド に関する公開一覧

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  1. 【課題】 金属−有機物化学蒸着(MOCVD)チャンバの表面から金属堆積副生成物を洗浄するためのその場方法を提供すること。【解決手段】 集積回路(IC)表面の金属−有機物化学蒸着(MOCVD)用の環境チャンバにおける、該チャンバにおける表面から金属堆積副生成物を洗浄するその場方法であって、a)該洗浄される表面の該金属堆積副生成物を酸化するステップと、b)加水分解され...

    金属−有機物化学蒸着チャンバを洗浄するその場方法