株式会社ジーティシー に関する公開一覧

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  1. 【目的】アクティブマトリクス液晶表示装置のゲート配線およびドレイン配線に対して、断線等により修正が必要となった箇所にレーザを用いて局所的に金属膜の形成を行なう際に、配線表面でレーザ光が反射されるのを防止する。【構成】行列方向に配置された複数の薄膜トランジスタ素子と、各行ごとに薄膜トランジスタ素子のゲート電極12を共通に接続したゲート配線3と、各列ごとに薄膜トランジスタ...

    アクティブマトリクス液晶表示装置

  2. 【目的】レジストパターン形成工程において、レジスト層を露光する際の遮光層として用いられる金属メッキマスクパターンを均一な膜厚で形成する。【構成】金属メッキによってレジストパターンに相当するパターンが形成されてなる加工有効パターン部分10の周囲に、金属メッキ部15と非メッキ部16とからなるダミーパターン部分14を有する。【効果】パターンの寸法変化が防止され、基板が大面積...

    金属メッキマスクパターン

  3. 【目的】成膜時の中間生成物の生成を少なくして、基板面内での膜質などのばらつきを低減させ、面内ばらつきの少ない良好な膜を成膜する。【構成】CVD成膜装置であって、シャワー室17と、シャワー室内17を隔壁で仕切って設けられた隔室10と、シャワー室17に第1のソースガスを供給するシャワー室ガス供給管13と、隔室10に第2のソースガスを供給する隔室ガス供給管12と、基板4に対...

    成膜装置および成膜方法