カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー に関する公開一覧

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  1. 【課題】アナモルフィック投影レンズの使用の利点を特定の欠点を同等程度まで受け入れる必要なく取得することを可能にする手段を指定する問題に対処する。【解決手段】投影レンズの物体平面に配置されたパターンを投影レンズの像平面内に極紫外範囲からの動作波長λを有する電磁放射線を用いて結像するための投影レンズは、ミラー面を有する多数のミラーを含み、ミラーは、物体平面に配置されたマス...

    EUVマイクロリソグラフィのための投影レンズ、投影露光装置、及び投影露光方法

  2. 【課題】本出願は、フォトリソグラフィマスクを処理するための装置に関する。【解決手段】上記装置は、(a)フォトリソグラフィマスク上の局所堆積反応および/または局所エッチング反応のために具現化された少なくとも1つの時間変化する粒子ビームと、(b)少なくとも1つの前駆体ガスを提供するための少なくとも1つの第1の手段であって、前駆体ガスが、局所堆積反応および/または局所エッチ...

    フォトリソグラフィマスクを修復するための装置および方法

  3. 【課題】フォトリソグラフィマスク上の少なくとも1つの要素の位置を決定するための装置を提供する。【解決手段】装置は、第1の基準オブジェクト240を備える少なくとも1つの走査型粒子顕微鏡210であって、第1の基準オブジェクト240が、第1の基準オブジェクト240に対するフォトリソグラフィマスク110上の少なくとも1つの要素の相対位置を決定するために走査型粒子顕微鏡210が...

    フォトリソグラフィマスク上の要素の位置を決定するための装置および方法

  4. 【課題】従来技術と比較して廉価な製造費用で鏡面反射器を実現することができるような冒頭に示したタイプの照明光学ユニットを開発すること。【解決手段】照明光学ユニットのファセットミラー(14)は、互いに横並びに配置され、かつ物体視野(3)へのEUV照明光(9)のビームの部分ビーム(9i)の反射重ね合わせ誘導に対して機能する。ファセットミラー(14)は、ファセットミラー(14...

    EUV投影リソグラフィのための照明光学系及び照明系

  5. 【課題】冷媒などの流体を受容する空洞を備え、球面、非球面、自由形状などの高精度の光学有効面が求められる反射光学素子を、容易に製造する方法を提供する。【解決手段】反射光学素子10は基板12と、ガルバニック的または化学的に基板の第1表面36上に堆積された、少なくとも1つの層からなるオーバーコート16と、流体を受容する少なくとも1つの空洞14と、を備える。空洞は、第1表面に...

    反射光学素子を製造する方法、反射光学素子および反射光学素子の使用

  6. 【課題】本発明は、EUVでの動作のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系に関する。【解決手段】この光学系は、少なくとも1つの第1の2重反射面ユニットおよび1つの第2の2重反射面ユニット(128、228、328、428、528、728)を有する少なくとも1つの偏光影響装置(124、224、324、424、524、624、724)を備える。この2重反射面ユニット...

    投影露光装置用の光学系

  7. 【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置のパラメータを変更する少なくとも1つのマニピュレータを、マニピュレータにより行われるパラメータの変更を規定する移動変数38に関するターゲットを生成することにより制御する制御装置14が提供される。【解決手段】制御装置は、メリット関数42を最適化することにより投影露光装置の状態特性評価34からターゲット38を生成するよう構成される。...

    マイクロリソグラフィ投影露光装置に関してマニピュレータを制御する制御装置及び方法

  8. 【課題】十分に補正され、同時に高い結像光スループットを有する結像可能視野をもたらすような投影光学ユニットを開発すること。【解決手段】投影光学ユニット(7)は、物体視野(4)を像視野(8)に結像するように機能する。複数のミラー(M1からM8)は、物体視野(4)から像視野(8)に結像光(3)を案内するように機能する。ミラー(M1からM8)のうちの少なくとも2つは、60°よ...

    物体視野を像視野内に結像するための投影光学ユニット及びそのような投影光学ユニットを含む投影露光装置

  9. 【課題】EUV投影リソグラフィのための照明光学ユニットは照明光を物体視野に向けて案内するように機能する。【解決手段】照明光学ユニットの視野ファセットミラーは少なくとも2つの傾斜位置の間で切り換えることができる複数の個別ミラーを有し照明光学ユニットの瞳ファセットミラーは複数の静止瞳ファセットを有し照明光のビーム経路内で視野ファセットミラーの下流に配置される。瞳ファセット...

    EUV投影リソグラフィのための照明系及び照明光学ユニット

  10. 【課題】物体視野を像視野に結像するための下流の投影光学ユニットの射出瞳が可能な限り完全に充填されるという結果をもたらすような照明光学ユニットを開発すること。【解決手段】第1の伝達光学ユニットは、光源から発する照明光を案内するように機能する。第1の伝達光学ユニットの下流には照明事前決定ファセットミラーが配置され、ファセットミラーは、複数の照明事前決定ファセットを含み、照...

    投影リソグラフィのための照明光学ユニット

  11. 【課題】光学素子及び圧電装置を備える光学結像装置を提供する。【解決手段】光学素子本体109.1は、光学素子本体109.1の正面側の上に光学表面を担持する。圧電装置109は、第1電極109.3及び圧電素子109.1を備える。第2電極109.4が光学素子本体109.1の背面側の上に位置し、及び圧電素子109.1が第1電極109.3と第2電極109.4との間に位置する時、第...

    圧電装置を備える光学結像装置

  12. 【課題】公知のリソグラフィ方法に関連する1つ以上の問題を防止または軽減する、パターン付きビームに基板を露光する方法を提供する。【解決手段】EUV放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターン付きエリアを備えるマスクを支持するように構築されるとともにスキャン方向に移動可能であるサポート構造と、基板を保持するように構築されるとともにスキ...

    リソグラフィ装置および方法

  13. 【課題】大入熱の場合でもミラー素子の適温を確保することを可能にする。【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー機構であって、電磁放射線を反射するよう設けられたミラー面を有する少なくとも1つのミラー素子1と、少なくとも1つのミラー素子1を収容するよう設けられた頭部2a及び座部2bを含む少なくとも1つのキャリア要素2と、少なくとも1つのキャリア要素2を収容する...

    ミラー機構及びミラー機構から熱流を放散する方法

  14. 【課題・解決手段】フォトニック集積回路をテストするためのデバイス、方法、及びサンプルホルダ、及びフォトニック集積回路。フォトニック集積回路をテストするための方法及び装置、そして対応するサンプルホルダとフォトニック集積回路が与えられる。ここにおいて、照明光ビーム(15)に対する場所を、走査デバイス(11)経由で選択することができ、その結果、フォトニック集積回路(12)内...

    フォトニック集積回路をテストするためのデバイス、方法、及びサンプルホルダ、及びフォトニック集積回路