バル の意味・用法を知る
バル とは、化合物または医薬の治療活性 や車両用車体構造 などの分野において活用されるキーワードであり、ソニー株式会社 や日産自動車株式会社 などが関連する技術を114,332件開発しています。
このページでは、 バル を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
バルの意味・用法
-
前記第１の標的捕捉試薬と前記第２の標的捕捉試薬が、ステップ（ｂ）（ｉ）およびステップ（ｃ）（ｉ）において同じ バル ク試薬容器から得られる、請求項２に記載の自動方法。
- 公開日：2018/02/01
- 出典：診断システムおよび方法
- 出願人：ジェンプローブインコーポレーテッド
-
より具体的には、本開示は、チタン含有物品を鋳造するための型であって、カルシウムアルミネートおよび炭化ケイ素を含み、前記炭化ケイ素は、型の異なる部分に異なる量で存在するように前記型内で段階的であり、炭化ケイ素の最高濃度は、型の バル クと、型穴に対して開いた型表面との間に位置する型に関する。
- 公開日：2015/12/21
- 出典：段階化した炭化ケイ素を有する鋳型
- 出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
-
バル クグラフェン材料、およびバルクグラフェンコア材料の対向面に配置された、グラフェンと反応して炭化物を形成する薬剤を含む金属系被覆層を含む熱管理アセンブリ。
- 公開日：2015/11/09
- 出典：バルクグラフェン材料を含む熱管理アセンブリ
- 出願人：モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク
-
１種以上のアクリル系モノマー及び光開始剤を含む組成物に紫外線の照射を開始して バル ク光重合を進行させるステップ、前記組成物に紫外線の照射を開始した時点の温度から５℃〜４０℃が増加した時点に前記紫外線の照射を中断するステップ、及び前記紫外線の照射を中断した後前記組成物を酸素含有不活性気体でパージングするステップを含むアクリルシロップの製造方法を提供する。
- 公開日：2017/10/05
- 出典：アクリルシロップの製造方法及びアクリルシロップ
- 出願人：エルジー・ケム・リミテッド
-
記憶性分析部６０は、経過した直前の所定期間におけるセッション品質の変化量と、その直後における各セッションの バル ク集約の状況との関連性に基づいて、ユーザの通信品質についての記憶性と通信行動との対応関係を分析する。
- 公開日：2016/05/23
- 出典：通信行動分析装置
- 出願人：ＫＤＤＩ株式会社
-
差動増幅器は入力オフセット電圧を有するように構成されてもよく、入力オフセット電圧は第１トランジスタの バル ク電位と第２トランジスタのバルク電位との間の差分に対応する。
- 公開日：2014/11/17
- 出典：ミスマッチングされた差動回路
- 出願人：三星ディスプレイ株式會社
-
請求項１記載の超電導フライホイール蓄電装置用超電導磁気軸受において、前記断熱荷重支持体の上部に直径が１２０ｍｍ以上の超電導大 バル クと直径が１００ｍｍ以下の超電導小バルクとを内蔵することを特徴とする超電導フライホイール蓄電装置用超電導磁気軸受。
- 公開日：2017/06/01
- 出典：超電導フライホイール蓄電装置用超電導磁気軸受
- 出願人：公益財団法人鉄道総合技術研究所
-
産出物支援貯蔵船は、海底から鉱石を受け取り、処理し、 バル ク貯蔵庫に貯蔵する設備である。
- 公開日：2016/01/21
- 出典：産出物支援貯蔵船および海底から採集される物質の処理方法
- 出願人：ノーチラス・ミネラルズ・パシフイツク・プロプライエタリー・リミテツド
-
３層以上から成る多層抄きされた白板紙であって、 バル クが３．０〜３．８ｃｍ３／ｇであるＬＢＣＴＭＰを、中層のみに、中層の全パルプ原料に対して１０〜５０重量％配合して、表層と中層と裏層を抄合わせたことを特徴とする。
- 公開日：2017/03/02
- 出典：白板紙およびその製造方法
- 出願人：日本製紙株式会社
-
本発明は、 バル ク顔料に、ＤＰＰ構造のそのうちの一方側のベンゼン環上の２つのメタ位のうちの１つ又は２つ、或いは、２つのメタ位及びパラ位がすべて長鏈のアルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基で置換された誘導体を加入することで、バルク顔料のプラスチックにおける抗反りプロパティを大幅に向上させることができる。
- 公開日：2018/01/18
- 出典：プラスチックにおいて抗反りプロパティを有する顔料組成物
- 出願人：先尼科化工（上海）有限公司
注目されているキーワード
関連する分野分野動向を把握したい方
（ 分野番号表示 ON ）※整理標準化データをもとに当社作成
-
結晶、結晶のための後処理
- 目的・対象とする結晶の形態
- 結晶自体の特徴（クレーム）
- 材料１（元素状、合金）
- 材料２（酸化物）
- 材料３（複合酸化物）
- 材料４（酸素酸塩）
- 材料５（〜化物）
- 材料６（有機物）
- 固相成長
- 液相成長１（常温で液体の溶媒を使用する）
- 液相成長２（溶融溶媒を使用するもの）ＣＧ優先
- 液相成長３（融液の凝固によるもの）
- 液相成長４（ゾーンメルティング）
- 液相成長５（融液からの引き出し）
- 液相成長６（液相エピタキシャル）
- 気相成長１（蒸着、昇華）
- 気相成長２（ＣＶＤ）
- 結晶成長共通１（成長条件の制御）固相成長を除く
- 結晶成長共通２（不純物のドーピング）
- 結晶成長共通３（原料の調製、原料組成）
- 結晶成長共通４（種結晶、基板）
- 結晶成長共通５（成長前の基板の処理、保護）
- 結晶成長共通６（基板への多層成長）
- 結晶成長共通７（装置、治具）
- 結晶成長共通８（検知、制御）
- 結晶成長共通９（特定の成長環境の付加）
- 後処理１（拡散源、その配置）
- 後処理２（後処理のための基板表面の前処理）
- 後処理３（気相からのドーピング）
- 後処理４（電磁波、粒子線照射によるドーピング）
- 後処理５（加熱、冷却処理）
- 後処理６（結晶の接合）
- 後処理７（エッチング、機械加工）
- 後処理８（電場、磁場、エネルギー線の利用）
- 後処理９（その他）
- 後処理１０（装置、治具の特徴）
- 結晶の物理的、化学的性質等の評価、決定
- 用途
- 固相からの直接単結晶成長
- 単結晶成長プロセス・装置
- 圧力を加えるもの 例、水熱法
- 塩溶媒を用いるもの 例、フラックス成長
- るつぼ、容器またはその支持体
- ノ−マルフリ−ジングまたは温度勾配凝固
- ゾ−ンメルティングによる単結晶成長、精製
- 溶媒を用いるもの
- るつぼ、容器またはその支持体
- 誘導による溶融ゾ−ンの加熱
- 電磁波による加熱（集光加熱等）
- 制御または調整
- 材料またはヒ−タ−の移動機構、保持具
- 融液からの引出し（保護流体下も含む）
- 結晶化物質（原料）、反応剤の充填、添加
- 引出し方向に特徴
- 融液を入れるるつぼ、容器またはその支持体
- 融液、封止剤または結晶化した物質の加熱
- 制御または調整
- 融液、封止剤、結晶の回転、移動機構
- 種結晶保持器
- 種結晶
- 縁部限定薄膜結晶成長
- 液相エピタキシャル成長
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
- ＰＶＤ
- イオン化蒸気の凝縮
- 分子線エピタキシャル法
- ＣＶＤ
- エピタキシャル成長法、装置
- 製造工程
- 反応室
- 反応室または基板の加熱
- 基板保持体またはサセプタ
- 基板とガス流との関係
- ガスの供給・排出手段；反応ガス流の調節
- 制御または調節
- 基板
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
-
広域データ交換
- 目的・効果（観点００はフリーワード付与）
- 交換方式（観点００はフリーワード付与）
- データ種別（観点００はフリーワード付与）
- 網の構成（観点００はフリーワード付与）
- 網間接続（観点００はフリーワード付与）
- 構成要素（伝送路、端末を除く。フリーワード付与）
- 伝送路（観点００はフリーワード付与）
- 端末（観点００はフリーワード付与）
- 構成要素の細部（ＫＸが優先。フリーワード付与）
- 交換機の通話路系構成の細部（フリーワード付与）
- 伝送制御（観点００はフリーワード付与）
- 交換制御（観点００はフリーワード付与）
- トラヒック制御、リソース管理（フリーワード付与）
- サービス（観点００はフリーワード付与）
- 処理方式（観点００はフリーワード付与）
- 状況監視の対象（観点００はフリーワード付与）
- 状態監視の項目（観点００はフリーワード付与）
- 状態監視の方法（観点００はフリーワード付与）
- 管理・運用（観点００はフリーワード付与）
