pin接合 の意味・用法を知る
pin接合の意味・用法
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この光起電力装置の検査方法は、少なくとも1つのpin接合を有する光起電力装置に交流電圧を印加するステップと、前記交流電圧が印加された光起電力装置の応答出力を検出するステップとを備えている。
- 公開日:2004/08/05
- 出典:光起電力装置の検査方法
- 出願人:三洋電機株式会社
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シリコン系非単結晶半導体からなるp型層、i型層、n型層を有するpin接合の構成素子を複数積層した積層型光起電力素子であって、光入射側の第一のpin接合のi型層として非晶質シリコンを用い、第二のpin接合のi型層として微結晶シリコンを用い、第三のpin接合のi型層として微結晶シリコンを用いている。
- 公開日:1999/09/07
- 出典:積層型光起電力素子
- 出願人:キヤノン株式会社
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光入射側からi型非晶質半導体111を有する第1のpin接合と、i型微結晶半導体108を有する第2のpin接合と、i型微結晶半導体105を有する第3のpin接合とをこの順に有する光起電力素子において、前記第1のpin接合の光入射側に少なくとも透明性保護部材と透明電極層を有し、前記複数のpin接合で発生する光電流のうち、前記第3のpin接合で発生する光電流が最少であることを特徴とする。
- 公開日:2004/06/10
- 出典:光起電力素子
- 出願人:キヤノン株式会社
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複数のpin接合を積層してなるタンデム型の光電変換素子において、p層が、隣接するn層およびi層の双方の界面で、良好なオーミック接触を有しかつ光吸収量が小さい界面特性をもつ光電変換素子及びその製造方法を提供する。
- 公開日:2000/12/08
- 出典:光電変換素子及びその製造方法
- 出願人:シャープ株式会社
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p型半導体層とi型半導体層とn型半導体層とを積層して形成したpin型半導体接合を複数重ねた、いわゆるスタック型の光起電力素子において、光入射側から数えて第一のpin接合のi層として非晶質シリコンを用い、第二および第三のpin接合のi層として非晶質シリコンゲルマニウムを用い、第三のpin接合のi層である非晶質シリコンゲルマニウムの膜厚を150nm以下とする、または/及び、第二のpin接合のi層である非晶質シリコンゲルマニウムの膜厚を100nm以下にすることを特徴とする。
- 公開日:1996/03/22
- 出典:光起電力素子
- 出願人:キヤノン株式会社
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透明基板1tを通して光をpin接合まで到達させるためには、透明基板1t、第1電極層1e及びn型半導体層1nのエネルギーバンドギャップが、光電変換に利用したい光のエネルギー(El:El=hν、ここで、hはプランク定数であり、νは光の振動数である)よりも大きく、各膜厚が薄いことが好ましい。
- 公開日:2001/02/23
- 出典:pin型光電変換素子及び製造方法
- 出願人:スター精密株式会社
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光起電力装置の光電変換層として成膜されるpin接合の非晶質半導体膜に用いられる化合物として、化学的に安全で、かつ大量輸送しやすい化合物を提供する。
- 公開日:2011/09/15
- 出典:非晶質半導体膜用オリゴメチルアルシン化合物とこれを用いる成膜ガス
- 出願人:セントラル硝子株式会社
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これについても、たとえばp型半導体、i型半導体、n型半導体を積層し、異なる吸収波長帯を持つpin接合の組を何層分か積層したタンデム型太陽電池が種々研究されてはいるものの、入射光の有効利用性及び光吸収特性といった性能と材質との関係で、まだ改良の余地がある。特に、アモルファスシリコン系と微結晶シリコン系、微結晶シリコン系と微結晶シリコン系との組合せに係るタンデム型太陽電池については、入射光の有効利用性及び光吸収特性に加えて、上記の暗導電率の増大(リーク電流の増大)や光導電率の低下が課題である。上記の特許文献を含めて従来技術のいずれも、これらの課題に対して取り組んでおらず、また回答を与えるものでもない。
- 公開日:2009/07/09
- 出典:光電変換素子製造装置及び方法、並びに光電変換素子
- 出願人:国立大学法人東北大学
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シリコン系非単結晶半導体からなるp型層、i型層、n型層を有するpin接合の構成素子を複数積層した積層型光起電力素子において、 光入射側から第一のpin接合の構成素子のi型層として非晶質シリコンを用い、第二のpin接合の構成素子のi型層として微結晶シリコンを用い、第三のpin接合の構成素子のi型層として微結晶シリコンを用いており、 前記第一のpin接合の構成素子のi型層である非晶質シリコンのバンドギャップが1.60eV以上、1.90eV以下であり、 前記第二および第三のpin接合の構成素子のi型層である微結晶シリコンの950nmの光吸収係数が200cm-1以上であることを特徴とする積層型光...
- 公開日:2007/07/26
- 出典:積層型光起電力素子
- 出願人:キヤノン株式会社
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基板上にi型半導体層が非晶質シリコンからなる第1のpin接合と、i型半導体層が結晶質シリコンを含む第2のpin接合とを直列に配置した構成を含む光起電力素子であって、前記第1のpin接合のp/i界面に第1の中間層と、n/i界面に第2の中間層とを有し、前記第2のpin接合のp/i界面に第3の中間層と、n/i界面に第4の中間層とを有し、前記第2の中間層と第3の中間層とが非晶質シリコンからなり、かつ前記第1の中間層と第4の中間層とが結晶質シリコンを含む、または前記第2の中間層と第3の中間層とが結晶質シリコンを含み、かつ前記第1の中間層と第4の中間層とが非晶質シリコンからなる構成とする。
- 公開日:2004/11/25
- 出典:光起電力素子及び光起電力素子の形成方法
- 出願人:キヤノン株式会社
pin接合の特徴 に関わる言及
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ここで、光電変換ユニットはpn接合またはpin接合の半導体層からなる。光電変換ユニットにpin接合を用いる場合、p型層、i型層、及びn型層がこの順、またはその逆順に積層されてなり、その主要部を占めるi型の光電変換層が非晶質のものは非晶質光電変換ユニットと呼ばれ、i型層が結晶質のものは結晶質光電変換ユニットと呼ばれている。
- 公開日: 2013/11/07
- 出典: 光電変換装置用透明導電膜、光電変換装置、およびそれらの製造方法
- 出願人: 株式会社カネカ
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また、薄膜光電変換装置がpin接合構造を有する場合、第一界面層はp型半導体層と結晶質ゲルマニウム光電変換層との間に配置される。一方、薄膜光電変換装置がnip接合構造を有する場合、第一界面層はn型半導体層と結晶質ゲルマニウム光電変換層との間に配置される。
- 公開日: 2011/02/10
- 出典: 薄膜光電変換装置およびその製造方法
- 出願人: 株式会社カネカ
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