ハフニウム と関連性が強い法人一覧

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日本ポリプロ株式会社 付加系(共)重合体、後処理、化学変成高分子組成物付加重合用遷移金属・有機金属複合触媒 ポリプロピレン系樹脂組成物 技術一覧を見る
株式会社東芝 原子炉の制御半導体メモリ不揮発性半導体メモリ 不揮発性半導体記憶装置 技術一覧を見る
日本ポリオレフィン株式会社 付加系(共)重合体、後処理、化学変成重合触媒オレフィン、ジエン重合用触媒 オレフィン重合用触媒およびポリオレフィンの製造方法 技術一覧を見る
三菱化学株式会社 付加系(共)重合体、後処理、化学変成付加重合用遷移金属・有機金属複合触媒グラフト、ブロック重合体 軟質プロピレン系樹脂組成物 技術一覧を見る
JX日鉱日石エネルギー株式会社 重合触媒オレフィン、ジエン重合用触媒付加系(共)重合体、後処理、化学変成 オレフィン類重合用触媒成分 技術一覧を見る
ジエネラル・エレクトリツク・カンパニー ガスタービン、高圧・高速燃焼室タービンロータ・ノズル・シールタービンの細部・装置 モリブデン酸ランタンのアブレイダブル皮膜、及び用途 技術一覧を見る
ダウグローバルテクノロジーズインコーポレイテッド 高分子組成物付加系(共)重合体、後処理、化学変成高分子成形体の製造 フィルム用途に好適なポリエチレン組成物およびそれから作製されるフィルム 技術一覧を見る
学校法人日本大学 重金属無機化合物(II)対水表面処理用物質流動性材料の適用方法、塗布方法 ギ酸イオンが配位した錯体構造が含まれるハフニア及び/又はジルコニアのゾルの製造方法、硬質膜の製造方法及び硬質膜 技術一覧を見る
ルネサスエレクトロニクス株式会社 絶縁膜の形成放射線を利用した材料分析原子炉の制御 元素量測定方法 技術一覧を見る
コンパニーウーロペアンヌデュジルコニアンセズ 金属の製造または精製重金属無機化合物(II)イオン交換 ジルコニウム及びハフニウムの精製方法 技術一覧を見る
パナソニック株式会社 絶縁膜の形成絶縁ゲート型電界効果トランジスタペプチド又は蛋白質 MIS型半導体装置及びその製造方法 技術一覧を見る
独立行政法人科学技術振興機構 触媒触媒有機低分子化合物及びその製造 エステル縮合物の製造方法 技術一覧を見る
JX金属株式会社 金属の製造または精製物理蒸着金属の電解製造 高純度ハフニウムの製造方法 技術一覧を見る
マイクロンテクノロジー,インコーポレイテッド CVD絶縁膜の形成半導体メモリ 有極性、カイラル、非中心対称性強誘電体材料、その材料を含むメモリセルおよび関連するデバイスと方法。 技術一覧を見る
横浜ゴム株式会社 高分子組成物半導体又は固体装置の封緘,被覆構造と材料マクロモノマー系付加重合体 シリコーン樹脂組成物、これを用いる、シリコーン樹脂含有構造体、光半導体素子封止体、シリコーン樹脂組成物の使用方法 技術一覧を見る
日東化成株式会社 高分子組成物けい素重合体第4族元素を含む化合物及びその製造 有機重合体用硬化触媒およびそれを含有する湿気硬化型有機重合体組成物 技術一覧を見る
株式会社トリケミカル研究所 CVD絶縁膜の形成重金属無機化合物(II) ハフニウム系薄膜形成方法およびハフニウム系薄膜形成材料 技術一覧を見る
サン−ゴベン・セントル・ドゥ・レシェルシェ・エ・デチュード・ユーロペアン 重金属無機化合物(II)歯科補綴歯科用製剤 ジルコニウムの誘導体、水和物、または酸化物の製造方法 技術一覧を見る
オレゴンステイトユニバーシティー 光学要素の表面処理流動性材料の適用方法、塗布方法積層体(2) 溶液処理薄膜および積層体、薄膜および積層体を備えた装置、その使用および製造方法 技術一覧を見る
アレヴァエヌペ 原子炉の制御 原子炉の炉心の反応を調節するためのクラスター、クラスターの吸収ロッド、及び吸収ロッドを摩耗に対して保護するための方法 技術一覧を見る
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