X線解析 の意味・用法を知る
X線解析 とは、放射線を利用した材料分析 やその他の放射線取扱い などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社リコー や本田技研工業株式会社 などが関連する技術を2,220件開発しています。
このページでは、 X線解析 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
X線解析の意味・用法
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必ずしも平坦でない、既知でない、または一定の形状でない、多種多様な試料を測定することができるX線解析装置を提供すること。
- 公開日:2015/08/24
- 出典:X線解析装置
- 出願人:マルバーンパナリティカルビーヴィ
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実際のリフロー炉と同じ条件で回路基板を加熱することができ、かつ、加熱される回路基板をX線解析するのに適用して好適な、ヒータユニットを提供する。
- 公開日:2009/04/09
- 出典:ヒータユニット及びX線解析装置
- 出願人:株式会社ブリヂストン
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X線解析システムでは、高いX線ビーム強度および小さいビームのスポット・サイズが、試料の露光時間の短縮と空間分解能を向上させおよびその結果として信号対背景雑音比とX線解析測定の全体の品質の改善させるために、重要である。過去においては、回転陽極X線管またはシンクロトロンのような高価で強力なX線源だけが、高強度X線ビームを発生させるために利用可能な選択肢であった。最近のX線光学系装置の発展によって、X線源から発散するX線を集束させることによって集めることが可能になった。X線集束光学系と、小さな低パワーのX線源との組み合わせは、より高価な装置を用いて達成されるのと同等の強度を持つX線ビームを作り出すこ...
- 登録日:2013/07/12
- 出典:それぞれの結晶方位を持つ多層を有するX線集束光学系及びこの光学系を形成する方法
- 出願人:エックス−レイオプティカルシステムズ,インコーポレイテッド
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簡素な構造でありながら空間分解能が高いX線解析装置を提供する。
- 公開日:2010/07/08
- 出典:X線解析装置
- 出願人:本田技研工業株式会社
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本発明は多数の試料を効率的に精度良く測定するX線解析装置を提供する。
- 公開日:1999/04/09
- 出典:X線解析装置
- 出願人:株式会社リコー
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X線解析用の蛋白結晶を能率良く観察できる装置を提供する。
- 公開日:2007/08/30
- 出典:蛋白結晶観察装置
- 出願人:株式会社ハイロックス
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前記リチウムイオンのドープ・脱ドープが可能な炭素材料が、X線解析で測定した(002)面における面間隔距離(d002)が、0.340nm以下であることを特徴とする請求項12記載のリチウムイオン二次電池。
- 公開日:2000/10/20
- 出典:非水電解液およびそれを用いた二次電池
- 出願人:三井化学株式会社
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さらに、インピーダンス測定だけでなく、電気化学測定と同期して、他のオペランド測定を組み合わせても良い。他のオペランド測定としては、中性子線回折解析、X線回折解析、X線吸収微細構造解析、X線光電子分光解析、赤外線分光分析、紫外線分光分析、ラマン分光分析および光学顕微鏡や電子顕微鏡観察などの、X線解析、分光分析および顕微鏡観察などがあげられる。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:電気化学システム、および、電気化学システムの作動方法
- 出願人:学校法人早稲田大学
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偏光子がX線解析測定においてブラッグピークを示す、請求項1〜8のいずれかに記載の偏光フィルム。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:偏光フィルム並びにそれを含む偏光板および表示装置
- 出願人:住友化学株式会社
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図4は、試料1,2のSEM画像である、これによれば、試料1,2とも、上記成膜条件での成膜によりその表面に約140nmの膜厚でITO膜が形成されている。この場合、図4(a)に示す試料1では、針状構造で内部に空間を多く持つことが判る。そして、試料1に対してX線解析法によりその結晶構造解析すると、特に図示して説明しないが、(400)方位に支配的に配向していることが確認された。他方、図4(b)に示す試料2では、多配向結晶化膜の表面に、試料1と同様のITO膜が形成されているが、特に界面において、上記と比較して太い針状構造を持つものに変化していることが確認された。試料2に対してXRD分析すると、試料1と同...
- 公開日:2020/03/19
- 出典:成膜装置用の部品及び成膜準備方法
- 出願人:株式会社アルバック
X線解析の問題点 に関わる言及
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放射線を利用した材料分析
- 試料入射粒子(源),刺激(含意図外,直分析外)
- 利用,言及生起現象;分折手法(含意図外、直分析外)
- 試料出射粒子(含意図外,直分析外)
- 検出器関連言及
- 分光;弁別(E,λ;e/m;粒子)
- 信号処理とその周辺手段(測定出力提供とその精度向上関連
- 測定内容;条件;動作等関連変数,量ψ
- 表示;記録;像化;観察;報知等
- 制御;動作;調整;安定化;監視;切換;設定等
- 分析の目的;用途;応用;志向
- 対象試料言及(物品レベル)
- 試料形状言及
- 検出;定量;着目物質とその構成元素;関連特定状態等
- 測定前後の試料の動き
- 試料保特,収容手段;状態等
- 試料作成;調製;試料及び他部分に対する処理;措置等
- 機能要素;部品素子;技術手段要素等;雑特記事項その他
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炭素、炭素化合物
- 炭素・炭素化合物
- 製造・処理・取扱い
- 原料(炭素の精製用)
- 除去すべき不純物(炭素の精製用)
- 炭素の精製処理
- 原料(炭素の製造用)
- 炭素の外形・構造・組成・性質(用途)
- 炭素の製造・処理・取扱い
- 黒鉛の精製
- 原料(黒鉛の製造用)
- 黒鉛の製造・処理・取扱い
- 黒鉛の外形・性質(用途)
- 原料(熱分解黒鉛用)
- 熱分解黒鉛の外形・構造・組成・性質(用途)
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- 活性炭の外形・構造・組成・性質(用途)
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- 原料(1酸化炭素または2酸化炭素用)
- 1酸化炭素または2酸化炭素の製造・処理・取扱い
- 除去すべきもの
- 2酸化炭素の固体化
- 炭素化合物の成分
- 炭化物の外形・構造・組成・性質(用途)
- 炭素化合物の製造・処理・取扱い
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炭素・炭素化合物
- 炭素・炭素化合物1(種類)
- 炭素・炭素化合物2(形状)
- 炭素・炭素化合物3(数値限定)
- 炭素・炭素化合物4(構造、性質、用途)
- 製造1(炭素原料、炭素前駆体)
- 製造2(前処理、ピッチ等の製造・処理)
- 製造3(製造工程、製造条件)
- 活性炭製造時の賦活・活性化、活性炭の再生
- 処理、後処理1(洗浄、精製、分離回収)
- 処理、後処理2(その他)
- 装置
- 一酸化炭素、二酸化炭素
- 原料、前駆体
- 製造、処理、取扱(ドライアイスはLA)
- 除去すべき不純物
- 二酸化炭素の固体化(ドライアイスの製造)
- 炭化物、炭素・硫黄含有化合物1(種類)
- 炭化物、炭素・硫黄含有化合物2(その他)
- 原料、前駆体
- 炭化物、炭素・硫黄含有化合物の製造
- 処理、後処理、取扱
- 装置