ディストーション と関連性が強い法人一覧

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キヤノン株式会社 ホトレジスト感材への露光・位置合せ半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) 計測方法、計測装置、露光装置及び物品の製造方法 技術一覧を見る
株式会社グラフィックス・コミュニケーション・ラボラトリーズ TV信号の圧縮,符号化方式TV信号の圧縮,符号化方式圧縮、伸長・符号変換及びデコーダ 動きベクトル探索方法および探索装置 技術一覧を見る
株式会社ニコン ホトレジスト感材への露光・位置合せ半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) 撮像装置、画像処理装置、画像処理方法、および画像処理プログラム 技術一覧を見る
株式会社エンプラス レンズ系スタジオ装置スタジオ装置 撮像レンズ 技術一覧を見る
シャープ株式会社 液晶表示装置の制御陰極線管以外の表示装置の制御液晶6(駆動) 1次元ヒストグラムを作成するための方法 技術一覧を見る
富士フイルム株式会社 レンズ系スタジオ装置孔内観察装置 撮像レンズ及びカプセル内視鏡 技術一覧を見る
ヤマハ株式会社 電気楽器電子楽器4(効果、音色制御、その他)他に分類されない音響(残響,カラオケ等) 効果装置 技術一覧を見る
京セラ株式会社 画像処理スタジオ装置スタジオ装置 ディストーション補正を選択できるディジタル撮像装置 技術一覧を見る
日本電気株式会社 ホトレジスト感材への露光・位置合せ半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) 予測ベクトル作成方式及び画像符号化装置 技術一覧を見る
オリンパス株式会社 スタジオ装置スタジオ装置顕微鏡、コンデンサー 立体観察装置用対物光学系 技術一覧を見る
カシオ計算機株式会社 電気楽器レンズ系他に分類されない音響(残響,カラオケ等) 音響効果付加装置及び音響効果付加方法 技術一覧を見る
ソニー株式会社 写真製版における原稿準備・マスクホトレジスト感材への露光・位置合せホログラフィ ホログラム再生装置及びホログラム記録装置 技術一覧を見る
株式会社東芝 ホトレジスト感材への露光・位置合せ半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) 露光装置、及び露光方法 技術一覧を見る
ルネサスエレクトロニクス株式会社 TV信号の圧縮,符号化方式圧縮、伸長・符号変換及びデコーダTV信号の圧縮,符号化方式 動きベクトル探索装置 技術一覧を見る
パナソニック株式会社 ホトレジスト感材への露光・位置合せ半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) アライメント方法 技術一覧を見る
セイコーエプソン株式会社 レンズ系液晶1(応用、原理)液晶5(電極、アクティブマトリックス) 広角撮像レンズ及び撮像装置 技術一覧を見る
富士通株式会社 閉回路テレビジョンシステム光通信システムイメージ分析 非線形ディストーションの推定装置、方法及び受信機 技術一覧を見る
ワイヤレスシステムズインターナショナルリミテッド 温度補償、電源電圧補償、歪補償、帰還増幅器一般 前置補償器 技術一覧を見る
株式会社IHI ガスタービン、高圧・高速燃焼室 ジェットエンジンのディストーション発生装置 技術一覧を見る
新日鐵住金株式会社 高分子成形体の製造積層体(2)高分子組成物 加工前印刷用フィルム被覆鋼板 技術一覧を見る
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