ダングリングボンド と関連性が強い法人一覧

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ルネサスエレクトロニクス株式会社 絶縁膜の形成拡散ナノ構造物 酸化シリコン細線 技術一覧を見る
株式会社東芝 ナノ構造物本体に特徴のある半導体装置不揮発性半導体メモリ 固体撮像装置の製造方法 技術一覧を見る
京セラ株式会社 電子写真における感光体電子写真における除電・感光体形状SOI,アクティブマトリクス、SOS 複合基板 技術一覧を見る
東京エレクトロン株式会社 CVD気相成長(金属層を除く)薄膜トランジスタ 微結晶シリコン膜形成方法、微結晶シリコン膜成膜装置および表示装置 技術一覧を見る
ソニー株式会社 固体撮像素子半導体集積回路受光素子3(フォトダイオード・Tr) 光電変換装置、固体撮像装置およびこれらの製造方法 技術一覧を見る
国立大学法人東北大学 CVD気相成長(金属層を除く)薄膜トランジスタ 微結晶シリコン膜形成方法、微結晶シリコン膜成膜装置および表示装置 技術一覧を見る
株式会社IHI 気相成長(金属層を除く)アニール絶縁膜の形成 半導体装置の製造方法及び装置 技術一覧を見る
沖電気工業株式会社 拡散 半導体基板に対する不純物導入方法、及び半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
本田技研工業株式会社 バイト、中ぐり工具、ホルダ及びタレット 切削工具 技術一覧を見る
古河電気工業株式会社 半導体の電極気相成長(金属層を除く)ダイオード 窒化物系化合物半導体素子、および、窒化物系化合物半導体素子の製造方法 技術一覧を見る
サンケン電気株式会社 半導体の電極ダイオード 半導体基板の表面処理装置及び製造方法並びに硫黄の発生源 技術一覧を見る
京セラドキュメントソリューションズ株式会社 電子写真における除電・感光体形状電子写真における感光体 電子写真感光体の製造方法 技術一覧を見る
パナソニックエコソリューションズ内装建材株式会社 可変コンデンサ シリコン酸化膜エレクトレット 技術一覧を見る
日本電気株式会社 炭素、炭素化合物炭素・炭素化合物潤滑剤 磁気記憶体の製造方法 技術一覧を見る
日産自動車株式会社 ダイオード接合型電界効果トランジスタ縦型MOSトランジスタ 半導体装置及び半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
株式会社島津製作所 CVD気相成長(金属層を除く)光起電力装置 平行平板型プラズマCVD装置を用いた反射防止膜の成膜方法 技術一覧を見る
シャープ株式会社 発光ダイオード気相成長(金属層を除く)半導体レーザ 酸化物半導体発光素子 技術一覧を見る
株式会社ブリヂストン 触媒 光触媒薄膜及び光触媒溶液 技術一覧を見る
独立行政法人理化学研究所 ナノ構造物結晶、結晶のための後処理原子、分子の操作により形成されたナノ構造物 分子列固定化基板およびその製造方法 技術一覧を見る
株式会社神戸製鋼所 拡散 半導体基板に対する不純物導入方法、及び半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
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