SF の意味・用法を知る

［第１実施形態］ 第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係るエンコーダ装置ＥＣを示す図である。このエンコーダ装置ＥＣは、移動部の位置情報（移動位置情報）を検出する。エンコーダ装置ＥＣは、例えばロータリーエンコーダである。移動部は、例えばモータＭ（動力供給部）の回転軸ＳＦであり、移動部の移動は、例えば所定の軸まわりの回転である。また、移動部の位置情報は、例えば、回転軸ＳＦの回転位置情報である。

• 公開日：2018/03/29
• 出典：エンコーダ装置、駆動装置、ステージ装置、及びロボット装置
• 出願人：株式会社ニコン

...中のフレームを第ｎフレームとし（ｎは１以上の整数を表す）、この第ｎフレームの１つ前のフレームを第ｎ−１フレーム、第ｎフレームの１つ後のフレームを第ｎ＋１フレームと記載する。そして各フレームには３個のサブフレームとして表示動作の制御と各分割表示エリアのデータ書き込み動作を制御する第１サブフレーム（第１ＳＦと記載する）、第２サブフレーム（第２ＳＦと記載する）、第３サブフレーム（第３ＳＦと記載する）が設けられている。

• 公開日：2018/04/05
• 出典：液晶表示装置
• 出願人：シチズンファインテックミヨタ株式会社

図１に示されるシール体１００は、装置ＡＰＴに組み込まれている。装置ＡＰＴは、シャフトＳＦＴとハウジングＨＳＧとを含む。以下の説明において、ハウジングＨＳＧとシャフトＳＦＴとによって囲まれた空間は、「内部空間」と称される。ハウジングＨＳＧの外側の空間は、「外部空間」と称される。

• 公開日：2018/03/15
• 出典：シールアダプタ
• 出願人：ナブテスコオートモーティブ株式会社

第１の実施形態における描画装置の構成を示す概念図。 第１の実施形態における各領域を説明するための概念図。 第１の実施形態における描画方法の要部工程を示すフローチャート図。 第１の実施形態におけるＳＦ（サブフィールド：Ｓｕｂ Ｆｉｅｌｄ）内のＴＦ（Ｔｅｒｔｉａｒｙ Ｆｉｒｌｄ）描画順序を示す概念図。 第１の実施形態におけるストライプ領域内のＳＦの描画順序の一例を示す概念図。 第１の実施形態におけるＳＦ内のＴＦの描画順序の一例を示す概念図。 第１の実施形態におけるＡＩ（Ａｔｔｒｉｂｕｔｅ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ）＝１の場合の偏向領域の併合の概念図。 第１の実施形態におけるＡＩ＝２の場合の偏向...

• 公開日：2017/03/16
• 出典：荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
• 出願人：株式会社ニューフレアテクノロジー

請求項１に記載の情報処理装置であって、さらに、前記ＧＵＩを介して入力された前記１以上の代表画素の各々のボケ度合いをもとに、投射される画像の各画素についてのＰＳＦ（Point spread function）を算出する算出部を具備する情報処理装置。

• 公開日：2018/01/18
• 出典：情報処理装置、情報処理方法、プログラム、及び画像表示装置
• 出願人：ソニー株式会社

Ｘ線画像処理装置の機能構成例を示すブロック図。 Ｘ線画像処理装置のハードウェア構成例を示すブロック図。 体動を検知する処理の処理手順を示すフローチャート。 検知領域の設定を示す図。 ＰＳＦの例を示す図。 ＰＳＦのプロジェクションを示す図。 ＰＳＦのプロファイルを示す図。 体動の検知結果の表示例を示す図。 体動の検知領域を設定する処理の処理手順を示すフローチャート。

• 公開日：2017/04/13
• 出典：画像処理装置及びその制御方法、コンピュータプログラム
• 出願人：キヤノン株式会社

基準フレームの画像及び高解像度画像を生成する際に用いられるパラメータを表示させ、表示されたパラメータの調整に基づいて基準フレームの画像の表示内容を更新し、調整されたパラメータを基準フレームのパラメータとして基準点位置保持メモリ１７ＡおよびブレＰＳＦパラメータ保持メモリ１７Ｂに記憶させる基準フレーム調整部１８と、参照フレームの画像を表示させる際に参照フレームのパラメータとして基準フレームのパラメータを表示させ、表示されたパラメータの調整に基づいて参照フレームの画像の表示内容を更新し、調整されたパラメータを参照フレームのパラメータとして基準点位置保持メモリ１７ＡおよびブレＰＳＦパラメータ保持メモリ...

• 公開日：2017/02/02
• 出典：画像処理装置
• 出願人：パナソニックＩＰマネジメント株式会社

第１の面ＳＦ１および第２の面ＳＦ２を有する脆性基板４が準備される。脆性基板４の第２の面ＳＦ２上において刃先を移動させることによって第２の面ＳＦ２上に塑性変形を発生させることで、溝形状を有するダミーラインＤＬが形成される。ダミーラインＤＬを形成する工程は、ダミーラインＤＬの直下において脆性基板４がダミーラインＤＬと交差する方向において連続的につながっている状態であるクラックレス状態が得られるように行われる。脆性基板４の第１の面ＳＦ１上にクラックラインＣＬが形成される。クラックラインＣＬを形成する工程は、クラックラインＣＬの直下において脆性基板４がクラックラインＣＬと交差する方向において連続的なつ...

• 公開日：2018/01/11
• 出典：脆性基板の分断方法
• 出願人：三星ダイヤモンド工業株式会社

本発明の目的は、高反発弾性率を幅広い温度帯域で有し、機械的強度や生産性に優れるＩＳＦの提供及びＩＳＦの製造方法を提供する

• 公開日：2016/12/08
• 出典：ポリウレタンインテグラルスキンフォーム及びその製造方法
• 出願人：東ソー株式会社

...理を実行し、また例えば信号処理回路で信号処理を行って処理を実行する等、ハードウェアとソフトウェアとの協業により処理を実行する。 記憶部２１は、各種データを記憶する。例えばＣＰＵが、ＲＯＭに記憶された各種データを読み出してＲＡＭに書込み、ＲＡＭを使用して演算等を行う。記憶部２１は、現在設定ファイルＳＦＧ、第１設定ファイルＳＦ１、及び、第２設定ファイルＳＦ２を記憶する。以下、現在設定ファイルＳＦＧ、第１設定ファイルＳＦ１、及び、第２設定ファイルＳＦ２を区別しない場合、「設定ファイル」という。現在設定ファイルＳＦＧ、第１設定ファイルＳＦ１、及び、第２設定ファイルＳＦ２については、後述する。

• 公開日：2018/04/05
• 出典：印刷装置、及び印刷装置の制御方法
• 出願人：セイコーエプソン株式会社