スクラッチ の意味・用法を知る
スクラッチ とは、仕上研磨、刃砥ぎ、特定研削機構による研削 やクレジットカード等 などの分野において活用されるキーワードであり、大日本印刷株式会社 やルネサスエレクトロニクス株式会社 などが関連する技術を1,251件開発しています。
このページでは、 スクラッチ を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
スクラッチの意味・用法
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研磨中の スクラッチ またはクラックをリアルタイムで検出しまたは予測することができる半導体装置の製造方法および半導体製造装置を提供する。
- 公開日:2016/07/25
- 出典:半導体装置の製造方法および半導体製造装置
- 出願人:東芝メモリ株式会社
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研磨後の基板の スクラッチ を低減するための磁気ディスク基板用研磨剤組成物を提供する。
- 公開日:2018/03/01
- 出典:磁気ディスク基板用研磨剤組成物
- 出願人:山口精研工業株式会社
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第1のコード情報の少なくとも一部を覆うように スクラッチ オフ隠蔽層を設け、前記スクラッチオフ隠蔽層の上に第2のコード情報を設けることによって、不正な認証実行や不正な個人情報入手などを防止することができる。
- 公開日:2017/02/16
- 出典:情報印刷物および読取方法ならびに認証方法
- 出願人:凸版印刷株式会社
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前記バックエンドデータストレージおよび処理ユニットが、前記データを用いて、前記デジタル スクラッチ が、静的デジタルスクラッチくじおよびランダムデジタルスクラッチくじのうちの1つであるかどうか判断する、請求項1に記載のシステム。
- 登録日:2019/08/02
- 出典:デジタルスクラッチくじのトリガおよび配布のための方法および装置
- 出願人:エイシイティブイ8・インコーポレーテッド
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パラメータ管理部113は、プレーヤキャラクタのパラメータを前記制限時間内における スクラッチ 入力に関連付け、当該パラメータに基づく値を前記スクラッチ入力に基づき変更する。
- 公開日:2016/10/20
- 出典:プログラム及びゲームシステム
- 出願人:株式会社ナムコ
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本発明の目的は、金属膜の研磨時に上昇する温度を、摩擦力を減少させることで下げて、スラリー組成物の熱的安定性を改善して金属膜研磨時に発生する スクラッチ を減少させることができる金属膜研磨スラリー組成物、及びこれを利用した金属膜研磨時に発生するスクラッチの減少方法を提供することである。
- 登録日:2019/06/21
- 出典:金属膜研磨スラリー組成物、及びこれを利用した金属膜研磨時に発生するスクラッチの減少方法
- 出願人:ドンジンセミケムカンパニーリミテッド
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エピタキシャルウェーハ表面におけるエピタキシャル スクラッチ の有無を検出することのできるエピタキシャルウェーハ表面検査装置を提供する。
- 公開日:2017/03/30
- 出典:エピタキシャルウェーハ表面検査装置およびそれを用いたエピタキシャルウェーハ表面検査方法
- 出願人:株式会社SUMCO
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被覆層は、透明であり、印刷基材上において迷彩層を覆うように印刷され、 スクラッチ 面を形成する。
- 公開日:2016/07/07
- 出典:スクラッチ印刷物用の台紙、スクラッチ印刷物及びスクラッチ印刷物の製造方法
- 出願人:ムラセ印刷株式会社
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一又は複数の実施形態において、研磨後の基板表面の スクラッチ 及びナノ突起欠陥を悪化させることなく、研磨パッドの摩耗を抑制できる磁気ディスク基板用研磨液組成物の提供。
- 公開日:2016/05/19
- 出典:研磨液組成物
- 出願人:花王株式会社
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ホログラム層を スクラッチ 隠蔽層で隠蔽することで、「秘密情報」のみならず、ホログラム再生像の発現をも秘匿して、スクラッチ隠蔽部をスクラッチして初めて、秘密情報、及び、ホログラム再生像を視認できる、偽造防止効果の高いスクラッチカードを提供する。
- 公開日:2016/03/03
- 出典:スクラッチカード
- 出願人:大日本印刷株式会社
スクラッチの問題点 に関わる言及
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当該被研磨物保持枠材の使用により被研磨物の脱落問題は改善されたが、研磨中に被研磨物保持枠材の内側面に接触して被研磨物が破損したり、被研磨物保持枠材内側面が破損して スクラッチ の原因となったりする問題が新たに発生した。
- 公開日: 2007/01/18
- 出典: 被研磨物保持枠材および研磨ヘッド
- 出願人: ニッタ・ハース株式会社
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この研磨方法で研磨すると、段差の少ない研磨面が得られるが、供給される全ての砥粒が軟質研磨定盤に埋め込まれるわけではなく、大部分の砥粒が軟質研磨定盤と非研磨物の間で転動して研磨するため、 スクラッチ の発生が多くなり、高精度の仕上げ研磨が困難であった。
- 公開日: 2011/03/31
- 出典: 軟質研磨定盤への埋め込み用砥粒保持シート及びこれを用いた砥粒埋め込み軟質研磨定盤の製造方法。
- 出願人: Mipox株式会社
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研磨装置の研磨工具に付着した固化した研磨剤や不純物を確実に除去でき、被研磨対象物への スクラッチ の発生を抑制でき、被研磨対象物の被研磨面に存在する残留パーティクルを減少させることができる研磨装置、研磨方法および研磨工具の洗浄方法を提供する。
- 公開日: 2001/05/22
- 出典: 研磨装置、研磨方法および研磨工具の洗浄方法
- 出願人: ソニー株式会社
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被研磨物表面の研磨加工時に発生する欠陥である スクラッチ の発生を抑え、研磨加工の始めよりこれまでの研磨布より研磨レートが高く、加工数量が増してもその研磨レートの下降が小さい研磨布を提供する。
- 公開日: 2013/09/26
- 出典: 研磨布
- 出願人: 株式会社FILWEL
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保管期間に依存せず、長期間保管した後の研磨でも被研磨物のナノ スクラッチ を顕著に低減することができる容器入り研磨材粒子分散液及び該容器入り研磨材粒子分散液を含む研磨液キットを提供すること。
- 公開日: 2006/05/25
- 出典: 研磨材粒子分散液の保管方法
- 出願人: 花王株式会社
スクラッチの使用状況 に関わる言及
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被研磨物の被研磨面における スクラッチ の発生が十分に抑制され、かつ研磨速度および被研磨面の平坦性に優れ、且つ数多くの被研磨物を連続研磨しても研磨性能が劣化しない化学機械研磨パッドならびに高い研磨速度で改善された被研磨面を与える高効率の化学機械研磨方法を提供すること。
- 公開日: 2009/02/05
- 出典: 化学機械研磨パッドおよび化学機械研磨方法
- 出願人: JSR株式会社
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上記化学機械研磨パッドおよび上記化学機械研磨方法によれば、化学機械研磨において、研磨速度が高く、研磨量の面内均一性に優れ、かつ、 スクラッチ の少ない被研磨面を得ることができる。
- 公開日: 2010/01/21
- 出典: 化学機械研磨パッドおよび化学機械研磨方法
- 出願人: JSR株式会社
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